「X-ray diffraction」を含む例文一覧(997)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 19 20 次へ＞- The protective film has the X-ray diffraction peak intensity of (110) plane of chromium higher than the X-ray diffraction peak intensity of (200) plane.
保護膜は、Ｘ線回折によるクロムの（１１０）面の回折ピーク強度が、クロムの（２００）面の回折ピーク強度よりも大きい。 - 特許庁 - X-RAY DIFFRACTION DEVICE AND MEASURING METHOD OF SAMPLE USING THIS DEVICE
Ｘ線回折装置及び該装置を用いた試料の測定方法 - 特許庁 - SAMPLE HOLDER FOR X-RAY DIFFRACTION MEASUREMENT AND SAMPLE FIXING METHOD
Ｘ線回折測定用試料ホルダーおよび試料固定方法 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING PHASE TYPE DIFFRACTION GRATING FOR X-RAY TALBOT INTERFEROMETER
Ｘ線タルボ干渉計用位相型回折格子の製造方法 - 特許庁 - The powder X-ray diffraction spectrum of the sodium alendronate type B is shown.
アレンドロネートナトリウムＢ型の粉末Ｘ線回折スペクトルを示す。 - 特許庁 - To provide an X-ray diffractometer executing a wavelength modulation diffraction method by using an X-ray tube in stead of a radiation source as an X-ray source.
Ｘ線源として放射光源ではなくＸ線管を用い、波長変調回折法を実施できるＸ線回折装置を提供する。 - 特許庁 - To enhance measurement precision for various X-ray diffractometers for usual X-ray diffraction, X-ray abnormal scattering diffraction and the like, by setting an X-ray size within a range assigned by the present invention.
Ｘ線のサイズを、本発明で指定した範囲内に設定することにより、各種の、通常のＸ線回折用、及び、Ｘ線異常散乱回折用等の、Ｘ線回折装置の測定精度を高めること。 - 特許庁 - The positive electrode active material has a diffraction peak at 8.4-10.4° of a diffraction angle 2θ in X-ray diffraction by a CuKα ray.
該正極活物質は、ＣｕＫα線によるＸ線回折において、回折角２θの８．４〜１０．４度の位置に回折ピークを有する。 - 特許庁 - The X-ray diffraction intensity of the composite material by CuKα is represented by expression (1): I_1/I_2≤2 (1), wherein I_1 is the peak diffraction intensity at 2θ=5.5-6.5°; and I_2 is the peak diffraction intensity at 2θ=5.5-6.5°.
ここで、I_1:２θ＝5.5〜6.5°間のヒ゜ーク回折強度、I_2:２θ＝5.5〜6.5°間のヒ゜ーク回折強度である。 - 特許庁 - Each of the new forms is differentiated by a unique powder X-ray diffraction pattern.
この新たな結晶形の各々は特異な粉末X線回折パターンにより識別する。 - 特許庁 - An X-ray diffraction apparatus 10 includes an X-ray generation part 22, a two-dimensional detector 50, and a slit plate 40.
Ｘ線回折装置１０は、Ｘ線発生部２２と、２次元検出器５０と、スリット板４０とを備える。 - 特許庁 - A light path of a low-range X-ray beam is shifted by crystal diffraction and superimposed on a high-range X-ray beam.
低域Ｘ線ビームの光路を結晶回折によってシフトさせ、高域Ｘ線ビームに重畳する。 - 特許庁 - To provide an X-ray analyzer capable of forming a two-dimensional X-ray diffraction image highly accurately at a high speed.
２次元Ｘ線回折像を高速且つ高精度に作成できるＸ線分析装置を提供する。 - 特許庁 - The crystal of compound A is one in which the characteristic diffraction peak at a diffraction angle 2θ(°) as measured by powder X-ray diffraction has a specified powder X-ray pattern.
化合物Ａの結晶であって、粉末Ｘ線回折で測定した回折角２θ（°）の特徴的回折ピークが特定の粉末Ｘ線回折パターンを有する結晶。 - 特許庁 - When the surface layer is subjected to X-ray diffraction, a diffraction peak corresponding to a (111) crystal plane is observed.
表層のＸ線回折により、（１１１）結晶面に対応した回折ピークが観察される。 - 特許庁 - This method is a micro X-ray diffraction measuring method for irradiating a micro part of a sample S with an X-ray to detect the diffracted X-ray generated in the micro part.
試料Ｓの微小部にＸ線を照射してその微小部に発生する回折Ｘ線を検出する微小部Ｘ線回折測定方法である。 - 特許庁 - To provide an X-ray diffraction apparatus with a smaller amount of movement required for X-ray adjustment and with a smaller amount of time required for X-ray adjustment.
Ｘ線回折装置において、Ｘ線調整に要する動作量を減少させ、また、Ｘ線調整に要する調整時間を減少させる。 - 特許庁 - METHOD AND IMPLEMENT FOR FIXING SAMPLE IN X-RAY DIFFRACTION MEASUREMENT
Ｘ線回折測定における試料固定方法および試料固定具 - 特許庁 - INTENSITY CALCULATION METHOD OF DIFFRACTION SPOT IN X-RAY STRUCTURE ANALYSIS
Ｘ線構造解析における回折斑点の強度算出方法 - 特許庁 - STRESS EVALUATION METHOD AND STRESS EVALUATION DEVICE BY X-RAY DIFFRACTION
Ｘ線回折による応力評価方法及び応力評価装置 - 特許庁 - To provide a diffraction grating for an X-ray Talbot interferometer which can be manufactured with ease and high accuracy as the diffraction grating having high aspect ratio of a groove, a method for manufacturing the diffraction grating for the X-ray Talbot interferometer, and the X-ray Talbot interferometer.
溝のアスペクト比の高い回折格子を容易かつ高精度で製造することができるＸ線タルボ干渉計用回折格子及びその製造方法、並びにＸ線タルボ干渉計を提供する。 - 特許庁 - METHOD AND APPARATUS FOR OBSERVING CRYSTAL BY USING X-RAY DIFFRACTION
Ｘ線回折を用いた結晶の観察方法及びその観察装置 - 特許庁 - METHOD AND APPARATUS FOR CONTROLLING CCD SENSOR AND X-RAY DIFFRACTION DEVICE
ＣＣＤセンサの制御方法及び装置並びにＸ線回折装置 - 特許庁 - To provide an X-ray diffraction apparatus having an improved measurement accuracy.
測定精度の向上が図られるＸ線回折装置、を提供する。 - 特許庁 - MEASURING METHOD FOR METAL SURFACE OXIDE AND X-RAY DIFFRACTION DEVICE
金属材表面酸化物の測定方法およびＸ線回折装置 - 特許庁 - The amount of formation of akermanite is measured by X-ray diffraction, for instance.
例えば、オケルマナイト生成量はＸ線回折によって測定される。 - 特許庁 - In this X-ray diffraction device, an X-ray radiated from an X-ray source F is regulated by a divergence slit 2 and irradiated to the sample S, and a diffraction line R_2 emitted from the sample S is detected by an X-ray detector 10.
Ｘ線源Ｆから放射されたＸ線を発散スリット２によって規制して試料Ｓに照射し、試料Ｓから出た回折線Ｒ_２をＸ線検出器１０によって検出するＸ線回折装置である。 - 特許庁 - The X-ray diffraction device 5 is stopped at an arbitrary measuring spot on the rail 1, and an X-ray irradiation point on the head top face 1d is irradiated with the X-ray generated by an X-ray generation device 3 from an X-ray irradiation part 6.
レール１上の任意の測定箇所でＸ線回折装置５を停止させて、Ｘ線発生装置３が発生するＸ線をＸ線照射部６から頭頂面１ｄのＸ線照射点に照射する。 - 特許庁 - The opening of the first slit is extended in parallel to a diffraction plane (plane including an incident X-ray and a diffracted X-ray).
第１スリットの開口は，回折平面（入射Ｘ線と回折Ｘ線とを含む平面）に平行に延びている。 - 特許庁 - The X-ray diffraction device comprises an X-ray diffraction device 1, a sample-mounting section 5 for supporting the sample S, and a fixation section 30 that can be moved and fixed to the sample-mounting section.
Ｘ線回折装置１、試料Ｓを支持する試料取付け部５と、試料取付け部に対して移動及び固定可能な固定部３０を有する。 - 特許庁 - To accurately analyze a crystal structure by using X-ray diffraction measurement.
Ｘ線回折測定を用いて結晶の構造を正確に解析する。 - 特許庁 - SIMPLE METHOD FOR DETERMINING ZIRCONIA CRYSTAL PHASE RATIO BY X-RAY DIFFRACTION PATTERN
Ｘ線回折パターンによるジルコニア結晶相割合の簡易定量法 - 特許庁 - CONTROL METHOD OF GONIOMETER, GONIOMETER, FOUR-AXIS GONIOMETER AND X-RAY DIFFRACTION DEVICE
ゴニオメータの制御方法、ゴニオメータ、４軸ゴニオメータ、およびＸ線回折装置 - 特許庁 - The x-ray imaging apparatus includes: an x-ray source having an electron source and a target; a diffraction grating for diffracting x-rays from the x-ray source; and a detector for detecting x-rays from a screen grid.
Ｘ線撮像装置は、電子源とターゲットとを有するＸ線源と、Ｘ線源からのＸ線を回折する回折格子と、遮蔽格子からのＸ線を検出する検出器と、を備える。 - 特許庁 - To provide an inexpensive x-ray diffraction apparatus capable of quickly and accurately detecting a shape of a diffraction ring.
回折環の形状を短時間で精度良く検出できる、安価なＸ線回折装置を提供する。 - 特許庁 - To irradiate a sample with an incident X-ray of optional wave-length to easily conduct various kinds of X-ray diffraction measurement, by using continuous X-rays generated from an X-ray tube.
Ｘ線管から発生する連続Ｘ線を利用することにより、任意波長の入射Ｘ線を試料に照射して各種のＸ線回折測定を容易に実施可能とする。 - 特許庁 - To provide an X-ray diffraction device and an X-ray diffraction system which is easily portable and handleable, having an inexpensive structure, and capable of imaging simply an image of a diffraction ring.
取扱いが容易で安価な構造であり持ち運びに便利で簡単に回折環の画像を撮像することができるＸ線回折装置及びＸ線回折システムを提供する。 - 特許庁 - To provide a transmission type X-ray diffraction device capable of excluding an effect of scattered X rays in an incident part to the utmost to detect the diffracted X rays generated in a sample, and an X-ray diffraction method.
入射部での散乱Ｘ線の影響を極力排して試料で生じた回折Ｘ線を検出できる透過型のＸ線回折装置とＸ線回折方法とを提供する。 - 特許庁 - A diffraction X-ray pattern is accurately read since an incident X-ray 2 serving as a reference is recorded in the position sensitive X-ray detector, by thinning a film thickness of the measured sample to measure the diffracted X-ray by the transmission X-ray.
測定試料の膜厚を薄くして透過Ｘ線で回折Ｘ線を測定することにより、基準となる入射Ｘ線２も位置感応型Ｘ線検出器に記録されるため、回折Ｘ線パターンを正確に読み取ることができる。 - 特許庁 - To provide an X-ray diffraction system for coping with the shaking of a sample stage.
サンプルステージのぐらつきに対応し得るＸ線回折システムを提供する。 - 特許庁 - A Fraunhofer X-ray diffraction pattern is generally photographed about 50 to 150 mm behind the specimen under a condition where there is no lens to focus the X-rays.
X線を集束するレンズがない条件下では、試料の約50〜150mm後ろでフランホーファーX線回折図形が一般的に撮影される。 - 科学技術論文動詞集 - The crystal of (2R,4R)-monatin potassium salt shows an X-ray powder diffraction pattern having characteristic peaks at diffraction angles 2θ of 5.5°, 7.2°, 8.1°, 8.9° and 16.3°, by powder X-ray diffraction (Cu-Kα ray).
Ｃｕ−Ｋα線による粉末Ｘ線回折で得られるＸ線回折パターンにおいて、５．５°、７．２°、８．１°、８．９°および１６．３°に回折角２θの特徴的ピークを有する、（２Ｒ，４Ｒ）−モナティンのカリウム塩結晶。 - 特許庁 - To provide an inexpensive X-ray analyzer for having fluorescence and diffraction for common use having functions of both of fluorescent X-ray analysis and diffracted X-ray analysis and capable of constituting an optimum X-ray detection system.
蛍光Ｘ線分析と回折Ｘ線分析の両方の機能を有するとともに、それぞれ最適なＸ線検出系を構成できる、安価な蛍光・回折共用Ｘ線分析装置を提供する。 - 特許庁 - An X-ray generator 1 emits an X-ray to a sample 3 of oxide heated in a high temperature chamber 4, and a two-dimensional X-ray detector 5 measures X-ray diffraction intensity in the sample 3.
高温チャンバー４内で加熱されている酸化物の試料３に対してＸ線発生装置１からＸ線を照射し、試料３におけるＸ線回折強度を、二次元Ｘ線検出器５により測定する。 - 特許庁 - X-ray diffraction is influenced by the electron density distribution of the atomic shell and electron diffraction (is influenced) by the screened Coulomb potential of the nuclei.
X線回折は、原子殻の電子密度分布に支配され、そして電子回折は、原子核の遮蔽されたクーロン電位に支配される。 - 科学技術論文動詞集 - It is preferable that the X-ray diffraction peak is the diffraction peak originated from an alkyl chain and developed in the vicinity of 21° of diffraction angle 2θ.
前記Ｘ線回折ピークが、回折角２θの２１°付近に発現するアルキル鎖由来の回折ピークであることが好ましい。 - 特許庁 - (Co.fcc)≤0.1, where I(Co.hcp) denotes the X-ray diffraction intensity in the (101) face of Co with an hcp structure, and I(Co.fcc) denotes the X-ray diffraction intensity in the (111) face of Co with an fcc structure.
０≦Ｉ(Co・hcp)／Ｉ(Co・fcc)≦０．１ ここで、Ｉ(Co・hcp)はhcp 構造のＣｏの(101) 面におけるＸ線回折強度で、Ｉ(Co・fcc)はfcc 構造のＣｏの(111) 面におけるＸ線回折強度である。 - 特許庁 - This X-ray imaging element 11 is arranged on a position separated from a diffraction grating for a talbot approximately as long as a talbot distance L, and images an X-ray diffracted by the diffraction grating for the talbot.
Ｘ線撮像素子１１は、タルボ用回折格子から略タルボ距離Ｌ離れた位置に配置され、タルボ用回折格子によって回折されたＸ線を撮像する。 - 特許庁 - METHOD AND APPARATUS FOR ACQUIRING MEASURING DATA OF CCD SENSOR AND X-RAY DIFFRACTION DEVICE
ＣＣＤセンサの測定データ取得方法及び装置並びにＸ線回折装置 - 特許庁 - In the resultant cubical boron nitride sintered compact, the ratio I_220/I_111 of X-ray diffraction intensity I_220 in (220) plane to X-ray diffraction intensity I_111 in (111) plane is ≥0.1.
得られた立方晶窒化ホウ素焼結体の（２２０）面のＸ線回折強度Ｉ_220と、（１１１）面のＸ線回折強度Ｉ_111との比Ｉ_220／Ｉ_111は０．１以上である。 - 特許庁
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