「X-ray diffraction」を含む例文一覧(997)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 19 20 次へ＞- To provide an X-ray diffraction measuring instrument equipped with a Debye-Scherrer optical system eliminating the shading due to a conventional analyzer and excellent in resolving power, and a X-ray diffraction measuring method therefor.
従来のナライザによるけられ（遮蔽）を解消し、分解能に優れたデバイシェラー光学系を備えたＸ線回折測定装置とそのための方法を提供する。 - 特許庁 - A half- width ratio ΔD of a X-ray diffraction peak of Al in the dendrite region, is preferably 0.70 times or less of a half-width ratio ΔD_0 of a X-ray diffraction for a standard sample.
デンドライト領域のAlのＸ線回析ピーク半価幅率ΔＤが標準試料のＸ線回析ピーク半価幅率ΔＤ_0 の0.70倍以下であることが好ましい。 - 特許庁 - Furthermore, a ratio of an X-ray diffraction peak on the surface (001) of fluorocarbon with respect to the X-ray diffraction peak of a surface (002) of the non-fluoride carbon component is 30 or larger and 50 or smaller.
かつ、フッ化炭素の（００１）面のＸ線回折ピークの、未フッ化の炭素成分の（００２）面のＸ線回折ピークに対する比が３０以上、５０以下である。 - 特許庁 - To judge the presence of a twist distribution by subjecting a GaN type sample to X-ray diffraction measurement.
ＧａＮ系試料をＸ線回折測定して、twist 分布の存否を判定する。 - 特許庁 - When the molding is measured in X-ray diffraction by using a 7.5 kW X ray, the compact having a peak in the angle of diffraction of 0.4-12.6° is excluded.
該成形体は、７．５ｋＷのＸ線を用いてＸ線回折を測定したときに、０．４〜１２．６°の範囲の回折角に対応するピークを備えるものを除く。 - 特許庁 - SAMPLE HOLDER FOR OBLIQUELY INCIDENT X-RAY DIFFRACTION AND APPARATUS AND METHOD FOR MEASURING OBLIQUELY INCIDENT X-RAY DIFFRACTION USING THE SAME
斜入射Ｘ線回折用試料ホルダ及びこれを用いた斜入射Ｘ線回折測定装置、並びに、これを用いた斜入射Ｘ線回折測定方法 - 特許庁 - STRUCTURE FACTOR TENSOR ELEMENT DETERMINATION METHOD, AND X-RAY DIFFRACTION DEVICE UTILIZATION METHOD THEREFOR
構造因子テンソル要素決定法及びそのためのＸ線回折装置利用法 - 特許庁 - After setting the sample, a diffracted X-ray obtained by diffracting an X-ray from an X-ray tube 1 by the sample 6 is detected to execute X-ray diffraction analysis, by moving synchronously and rotatavely the X-ray tube 1 and a detector 3 around the rotation center 5.
試料のセッティング後、Ｘ線管１と検出器３を回転中心５の回りに同期して回転駆動することによって、Ｘ線管１からのＸ線が試料６によって回折された回折Ｘ線を検出してＸ線回折分析が行われる。 - 特許庁 - The x-ray topography apparatus obtains a planar diffraction image by detecting x-rays diffracted by a sample 11 when scanning the sample 11 with a linear x-ray by an x-ray detector 28.
試料１１を線状のＸ線で走査したときに試料１１で回折したＸ線をＸ線検出器２８によって検出して平面的な回折像を得るＸ線トポグラフィ装置である。 - 特許庁 - An electron density distribution is found by applying the MEM structural analysis to an X-ray diffraction data obtained experimentally, and an X-ray diffraction data not observed is predicted based thereon to find the electrostatic potential.
実験的に得られるX線回折データにMEM構造解析を適用することで詳細な電子密度分布を求め，これをもとに観測されていないX線回折データを予測することで静電ポテンシャルを求める。 - 特許庁 - To provide a multi-focus x-ray source (MFXS) for a multiple inverse fan beam x-ray diffraction imaging (MIFB XDI) system.
多重逆ファンビームｘ線回折イメージング（ＭＩＦＢ ＸＤＩ）システムのための多焦点ｘ線源（ＭＦＸＳ）を提供すること。 - 特許庁 - An X-ray imaging apparatus capturing a specimen comprises: a diffraction grating which shapes an interference pattern by diffracting an X-ray from an X-ray source; a masking grating which blocks a part of the X-ray shaping the interference pattern; and an X-ray detector which detects X-ray strength distribution from the masking grating.
被検体を撮像するＸ線撮像装置は、Ｘ線源からのＸ線を回折することにより干渉パターンを形成する回折格子と、干渉パターンを形成するＸ線の一部を遮る遮蔽格子と、遮蔽格子からのＸ線の強度分布を検出するＸ線検出器を備える。 - 特許庁 - To provide an X-ray analysis device, such as a fluorescent X-ray analysis device of a wavelength dispersion type, an X-ray diffraction device or the like, capable of making a prompt and accurate analysis by continuous scan.
波長分散型の蛍光Ｘ線分析装置やＸ線回折装置等のＸ線分析装置において、連続スキャンで迅速かつ正確な分析を行える装置を提供する。 - 特許庁 - To provide an X-ray spectrometer capable of acquiring spectral diffraction of an X-ray in a wide wavelength range with excellent reproducibility, relative to the X-ray spectrometer.
本発明はＸ線分光装置に関し、広い波長範囲でＸ線の分光を再現性よく得ることができるＸ線分光装置を提供することを目的としている。 - 特許庁 - FRESNEL ZONE PLATE, AND INSTRUMENT AND METHOD FOR MEASURING X-RAY DIFFRACTION
フレネルゾーンプレートおよびＸ線回折測定装置ならびにＸ線回折測定方法 - 特許庁 - The X-ray diffraction measurement of the measuring objective sample is performed with a transmission method.
この測定対象試料に対して透過法によるＸ線回折測定を行う。 - 特許庁 - POWDER X-RAY DIFFRACTION DATA MEASURING METHOD USING ONE-DIMENSIONAL OR TWO-DIMENSIONAL DETECTOR
１次元または２次元検出器を用いた粉末Ｘ線回折データ測定方法 - 特許庁 - This composite oxide has an X-ray diffraction peak that corresponds to the fluorite type structure.
この複合酸化物は、蛍石型構造に対応するＸ線回折ピークを有する。 - 特許庁 - The total axial orientation of the substrate 1 by the X-ray diffraction measurement is ≥50%.
基板１のＸ線回折測定による全軸配向度が５０％以上である。 - 特許庁 - To calibrate an X-ray diffraction system for measuring a lattice constant highly accurately.
高精度に格子定数を測定するためのＸ線回折システムの校正を可能にする。 - 特許庁 - X-RAY DIFFRACTION DEVICE EQUIPPED WITH TWO-DIMENSIONAL DETECTOR, AND DELETION METHOD OF ITS BLANK INTENSITY
２次元検出器を備えたＸ線回折装置とそのブランク強度の削除方法 - 特許庁 - Alternatively, in the range of discharge depth of 50-90%, the relationship of a minimum value I1 of X-ray diffraction intensity of at least one or more X-ray diffraction peak to X-ray diffraction intensity I0 at 100% of discharge depth satisfies I1/I0>0.5.
または、放電深度５０％〜９０％の範囲内において、少なくとも１以上のＸ線回折ピークのＸ線回折強度の最小値Ｉ_1 が放電深度１００％でのＸ線回折強度Ｉ_0 に対しＩ_1／Ｉ_0＞０．５なる関係を満たす。 - 特許庁 - To provide an X-ray diffraction device which miniaturizes a heater and enlarges the burning region for heating a sample without adversely affecting the measurement result of X-ray diffraction, and to simultaneously apply X-ray diffraction measurement to a plurality of samples.
Ｘ線回折の測定結果に悪影響を及ぼすことなく、ヒータの小型化が図れながら試料を加熱する均熱領域を広くできるＸ線回折装置を提供し、複数の試料に対して同時にＸ線回折測定が良好に行えるようにする。 - 特許庁 - This crystal polymorphism gives a powder X-ray diffraction pattern having strong diffraction peaks at the diffraction angles (2θ±0.1) of 10.2, 12.7, 18.4 and 22.3°.
粉末Ｘ線回折図形で、回折角（２θ±０．１）において、１０．２、１２．７、１８．４及び２２．３度に強い回折ピークを示す結晶多形。 - 特許庁 - To improve transparency to x-rays in between gratings regarding a diffraction grating for an x-ray interferometer.
Ｘ線干渉計用の回折格子について、格子間でのＸ線に対する透明性を向上させる。 - 特許庁 - The crystalline modification II to pyraclostrobin shows at least four reflections represented by formula in an X-ray powder diffraction figure at 25°C.
25℃でのX線粉末回折図において、以下の反射の少なくとも4つを示す、ピラクロストロビンの結晶変態II。 - 特許庁 - An operation part 16 specifies a diffraction position on the sample from a detection result by the transmitted X-ray detection part 14, and determines a diffraction angle of the diffracted X-ray based on a detection result by the diffracted X-ray detection part 15.
演算部１６は、透過Ｘ線検出部１４の検出結果から、試料１２における回折位置を特定すると共に、回折Ｘ線検出部１５の検出結果に基づいて、回折Ｘ線の回折角を判定する。 - 特許庁 - The angle of refraction of the condensed X-ray beam generated by the subject is detected by using the X-ray diffraction of a crystal wherein an incident angle is adjusted so that the edge of the angle distribution of the condensed X-ray beam satisfies a diffraction condition.
集光Ｘ線ビームの角度分布の端が回折条件を満たすように入射角を調整した結晶のＸ線回折を利用して、被写体によって生じた集光Ｘ線ビームの屈折角を検出する。 - 特許庁 - Substantially, only a diffraction pattern of the defective perovskite type composite oxide is detected in power X-ray diffraction.
粉末Ｘ線回折において、実質的に上記欠陥ペロブスカイト型複合酸化物の回折パターンのみが検出される。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method which makes it possible to stably supply X-ray diffraction gratings with a high aspect ratio to be used for an X-ray Talbot interferometer.
Ｘ線タルボ干渉計に用いる高アスペクト比のＸ線回折格子を安定的に供給可能な製造方法を提供する。 - 特許庁 - HIGH-ORDER HARMONIC X-RAY GENERATING APPARATUS AND ITS GENERATING METHOD, AS WELL AS POINT-DIFFRACTION INTERFEROMETER USING HIGH-ORDER HARMONIC X-RAY
高次高調波エックス線発生装置及びその発生方法、並びに高次高調波エックス線を利用したエックス線干渉計測装置 - 特許庁 - The semiconductor laminate 13 has an X-ray diffraction half-value width of ≤100 seconds (0002) plane direction, an X-ray diffraction half-value width of ≤250 seconds in a (10-12) plane direction.
半導体積層１３では（０００２）面方向のＸ線回折半値幅は１００秒以下であり、（１０−１２）面方向のＸ線回折半値幅は２５０秒以下である。 - 特許庁 - In the aluminum nitride powder, the intensity ratio I(002)/I(100) of diffraction peak of (002) plane to that of (100) plane in X-ray diffraction using a Cu-Kα ray is 0.2-0.5.
Cu−Kα線を用いたX線回折において（００２）面と（１００）面からの回折ピークの強度比Ｉ（００２）／Ｉ（１００）が０．２〜０．５であることを特徴とする窒化アルミニウム粉末。 - 特許庁 - To provide an X-ray diffraction apparatus in which an X-ray diffraction of a thin film formed on a cylindrical basic body, including an electrophotographic photosensitive body, can be measured with sufficient intensity.
電子写真感光体を始めとする円筒状の基体の上に形成された薄膜のＸ線回折を十分な強度で測定することができるＸ線回折装置を提供する。 - 特許庁 - To obtain an X-ray diffraction apparatus capable of performing X-ray diffraction and measurement with respect to both of a sample large in crystal grain and a sample small in crystal grain under a proper condition.
結晶粒の大きい試料及び結晶粒の小さい試料の両方に対して適正な条件でＸ線回折測定を行うことができるＸ線回折装置を提供する。 - 特許庁 - An X-ray diffraction device is equipped with: an X-ray source; a movable holding table which holds samples; a two-dimensional detector which detects X-rays to be emitted by diffraction from samples; and a control processing part which controls the X-ray source and the two-dimensional detector.
Ｘ線回折装置は、Ｘ線源と、試料を保持し、移動可能な保持台と、試料から回折により出射されるＸ線を検出する２次元検出器と、Ｘ線源と保持台と２次元検出器とを制御する制御処理部とを備える。 - 特許庁 - Desirable properties are obtained by causing the position 2θ of the most intense diffraction peak to be at least 30.65° and at most 30.9° in the X-ray diffraction of the phosphor.
また、この蛍光体についてのX線回折で、最も強く現れる回折ピークの位置を2θ=30.65°以上30.9°以下とすることで、望ましい特性を得られる。 - 特許庁 - To provide an X-ray diffraction device capable of acquiring sufficient diffraction line intensity in a 2θ high angle domain where the diffraction line intensity is weakened, when the sample quantity is small, and maintaining accurately relative X-ray intensity of a diffraction peak in a 2θ middle angle domain and in a 2θ low angle domain where the X-ray irradiation width is widened.
試料の量が少ない場合に、回折線強度が弱くなる２θ高角度領域で十分な回折線強度を獲得でき、Ｘ線照射幅が広くなる２θ中角度領域及び２θ低角度領域において回折ピークの相対Ｘ線強度を正しく維持できるＸ線回折装置を提供する。 - 特許庁 - This crystal polymorphism gives a powder X-ray diffraction pattern having strong diffraction peaks at the diffraction angles (2θ+0.1) of 3.4, 10.2, 13.7, 17.1 and 20.7°.
粉末Ｘ線回折図形で、回折角（２θ±０．１）において、３．４、１０．２、１３．７、１７．１及び２０．７度に強い回折ピークを示す結晶多形。 - 特許庁 - This crystal polymorphism gives a powder X-ray diffraction pattern having strong diffraction peaks at the diffraction angles (2θ±0.1) of 10.1, 10.4, 15.5, 17.0, 20.0 and 20.2°.
粉末Ｘ線回折図形で、回折角（２θ±０．１）において、１０．１、１０．４、１５．５、１７．０、２０．０及び２０．２度に強い回折ピークを示す結晶多形。 - 特許庁 - Since an X-ray arrives at the curved analyzing crystal 4 while expanded, from the incident side focal point F1, the X-ray efficiently strikes a diffraction face, and the X-ray at a specified wavelength is converged to a focal point F2 to get incident into an X-ray detector 7.
湾曲分光結晶４にはその入射側焦点Ｆ１からＸ線が拡がりつつ到来するから、効率よく回折面に当たって特定波長のＸ線が焦点Ｆ２に集まってＸ線検出器７に入射する。 - 特許庁 - A refraction angle of X-ray beams caused by the sample is detected at a time by X-ray detectors 18 by utilizing a plurality of number of times of X-ray diffraction by a plurality of analyzer crystals 11, 12.
試料によって生じたＸ線ビームの屈折角を、複数のアナライザー結晶１１，１２による複数回のＸ線回折を利用してＸ線検出器１８で同時に検出する。 - 特許庁 - The X-ray intensity data are improved by measuring diffraction X rays from the metallic phase contained in the plated layer at a plurality of positions to the same Debey ring and integrating the obtained diffraction X-ray intensity data.
めっき層に含まれる金属相からの回折Ｘ線を、同一のデバイ環に対して複数の位置で測定し、得られる回折Ｘ線強度データを積算することにより、Ｘ線強度データを高める。 - 特許庁 - The skin 1 is irradiated with X rays through a beam passing hole 47 to perform measurement by an X-ray diffraction device.
Ｘ線回折装置によってビーム通過孔４７を通して皮膚１にＸ線を照射して計測が行われる。 - 特許庁 - The x-ray diffraction apparatus includes: an x-ray emitter 13 for applying an x-ray to a measuring object OB; a table 27 for receiving the x-ray diffracted by the measuring object OB and fixing an imaging plate 28 for recording a diffraction ring; and a laser detection device PUH for applying a laser beam to the imaging plate 28 and reading out a shape of the diffraction ring.
測定対象物ＯＢにＸ線を照射するＸ線出射器１３、測定対象物ＯＢにて回折したＸ線を受光して回折環を記録するイメージングプレート２８を固定するテーブル２７及びレーザ光をイメージングプレート２８に照射して、回折環の形状を読み取るレーザ検出装置ＰＵＨを設ける。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a phase type diffraction grating and/or an amplitude type diffraction grating constituting an X-ray Talbot interferometer.
Ｘ線タルボ干渉計を構成する位相型回折格子及び／又は振幅型回折格子の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a phase type diffraction grating and an amplitude type diffraction grating constituting an X-ray Talbot interferometer.
Ｘ線タルボ干渉計を構成する位相型回折格子及び振幅型回折格子の製造方法を提供する。 - 特許庁 - The peak order is preferably unchanged even when the X-ray diffraction is performed for the powder thereof.
粉末にしてＸ線回折を行ってもピークの順番が変わらないことが好ましい。 - 特許庁 - DETERIORATION DIAGNOSING METHOD OF NI-BASED HARD METAL BY X-RAY DIFFRACTION METHOD AND FUTURE LIFETIME EVALUATION METHOD
Ｘ線回折法によるＮｉ基超合金の劣化診断法および余寿命評価法 - 特許庁 - To provide a method and device for X-ray transmission diffraction analysis remarkably improved in particle statistics.
粒子統計が著しく改善されたＸ線透過回折分析方法および装置の提供。 - 特許庁
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