「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(36ページ目)

例文

「composition pattern」を含む例文一覧(4879)

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PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT, METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN AND METHOD FOR PRODUCING PRINTED WIRING BOARD
感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT, METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN AND METHOD FOR PRODUCING PRINTED WIRING BOARD
感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの製造法およびプリント配線板の製造法 - 特許庁
To provide a curable resin composition which reduces repelling of an oriented film solution on a coated film or a pattern.
塗膜やパターン上に対する配向膜溶液のはじきを低減させる硬化性樹脂組成物。 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN AND PRINTED WIRING BOARD
感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT, RESIST PATTERN MANUFACTURING METHOD AND PRINTED WIRING BOARD MANUFACTURING METHOD
感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの製造方法及びプリント配線板の製造方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD
感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法。 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD
感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造法 - 特許庁
ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE SAME
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT, METHOD FOR MANUFACTURING RESIST PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD
感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD
感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD
感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法、プリント配線板の製造方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, PATTERN FORMING METHOD, FORMING METHOD FOR HOLLOW STRUCTURE, AND ELECTRONIC COMPONENT
感光性樹脂組成物、感光性フィルム、パターン形成方法、中空構造の形成方法、及び電子部品 - 特許庁
NEW COMPOUND AND ITS PRODUCTION METHOD, ACID-GENERATING AGENT, RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN-FORMING METHOD
新規な化合物およびその製造方法、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁
POLYMER FOR RESIST, RESIST COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD AND STARTING COMPOUND FOR RESIST POLYMER
レジスト用重合体、レジスト組成物、およびパターン製造方法、並びにレジスト用重合体用原料化合物 - 特許庁
INORGANIC POWDER-CONTAINING RESIN COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR PRODUCING MEMBER FOR FLAT PANEL DISPLAY
無機粉体含有樹脂組成物、パターン形成方法およびフラットパネルディスプレイ用部材の製造方法 - 特許庁
To provide a resist composition which can form a pattern having excellent resolution and shape.
優れた解像度及び形状を有するパターンを形成することができるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a resist composition which enables a resist pattern having superior resolution to be obtained.
優れた解像度を有するレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁
To ensure a high resolution for a resist layer having a predetermined composition so as to form a resist pattern.
レジストパターンを形成するために、所定の組成を有するレジスト層に対して高い解像度をもたらす。 - 特許庁
To provide a side wall-forming composition suitable for forming a side wall in contact with a photoresist pattern.
フォトレジストパターンに接してサイドウォールを形成するのに好適なサイドウォール形成組成物を提供すること。 - 特許庁
To provide a photoresist composition which can form a pattern having an outstanding mask error enhancement factor.
優れたマスクエラーエンハンスメントファクターを有するパターンを形成することができるフォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a resin for a photoresist composition capable of forming a pattern having satisfactory exposure margin.
優れた露光マージンを有するパターンを形成することができるフォトレジスト組成物用の樹脂を提供する。 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR ELECTRON BEAM, X-RAY OR EXTREME ULTRAVIOLET RAY (EUV), AND PATTERN FORMING PROCESS BY USE OF IT
電子線、Ｘ線またはＥＵＶ用ポジ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED CIRCUIT BOARD
感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, PHOTOSENSITIVE LAMINATE, METHOD FOR FORMING PERMANENT PATTERN AND PRINTED BOARD
感光性樹脂組成物、感光性フィルム、感光性積層体、永久パターン形成方法、及びプリント基板 - 特許庁
To provide a positive resist composition with good resolution and lithography property and a resist pattern formation method.
解像性やリソグラフィー特性に優れたポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁
To provide a curable resin composition capable of giving a pattern excellent in resolution and solvent resistance.
解像度及び耐溶剤性に優れるパターンを得ることができる硬化性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND METHOD FOR PRODUCING PRINTED WIRING BOARD
感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 - 特許庁
COMPOSITION FOR FORMING SILICON-CONTAINING FILM, SILICON-CONTAINING FILM-FORMED SUBSTRATE AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
ケイ素含有膜形成用組成物、ケイ素含有膜形成基板及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PHOTOSENSITIVE FILM, PERMANENT PATTERN FORMING METHOD, AND PRINTED WIRING BOARD
感光性樹脂組成物、及び感光性フィルム、並びに、永久パターン形成方法、及びプリント配線板 - 特許庁
RESIST COMPOSITION FOR ELECTRON BEAM, X-RAY OR EUV AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE SAME
電子線、Ｘ線またはＥＵＶ用レジスト組成物及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, METHOD FOR PROCESSING SUBSTRATE AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE
感光性樹脂組成物、レジストパターンの形成方法、基板の加工方法及びデバイスの作製方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR ELECTRON BEAM, EUV OR X-RAY, AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE SAME
電子線、ＥＵＶ又はＸ線用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
ORGANIC/INORGANIC PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, TFT LIQUID CRYSTAL DISPLAY ELEMENT AND METHOD OF FORMING PATTERN THEREOF
有機無機複合感光性樹脂組成物、ＴＦＴ型液晶表示素子及びそのパターン形成方法 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a chemically amplified resist composition, which can reduce development defects on a pattern.
パターン上の現像欠陥を低減できる化学増幅型レジスト組成物の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a photosensitive resin composition which forms a coating film and a pattern which are excellent in chemical resistance.
耐薬品性に優れた塗膜及びパターンを形成し得る感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁
To provide a resist composition which can produce a resist pattern having good resolution and configuration.
解像度及び形状が良好なレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a resist composition which enables to obtain a pattern having excellent resolution and line edge roughness.
優れた解像度及びラインエッジラフネスを有するパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a resist composition which enables a resist pattern having superior line edge roughness to be formed.
優れたラインエッジラフネスを有するレジストパターンを形成することができるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a new positive resist composition suitable for use in lithography and a method of forming a resist pattern.
リソグラフィー用途に好適で新規なポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁
To provide a resist composition which provides a pattern having an excellent line width roughness (LWR).
優れたラインウィズスラフネス（ＬＷＲ）を有するパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a resist composition capable of preparing a resist pattern excellent in sensitivity.
感度が良好なレジストパターンを作製することができるレジスト組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a resist composition capable of manufacturing a resist pattern excellent in line edge roughness (LER).
優れたラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を有するレジストパターンを製造することができるレジスト組成物の提供。 - 特許庁
RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMATION METHOD, COLOR FILTER AND MANUFACTURING METHOD THEREOF, AND SOLID STATE IMAGING DEVICE
感放射線性組成物、パターン形成方法、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに、固体撮像素子 - 特許庁
HEAT-RESISTANT PHOTOSENSITIVE POLYIMIDE PRECURSOR COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN USING SAME, AND ELECTRONIC COMPONENT
耐熱性感光性ポリイミド前駆体組成物及びそれを用いたパターン製造方法並びに電子部品 - 特許庁
To provide a positive type photoresist composition having new thermal flow aptitude to obtain a finer pattern.
新規なサーマルフロー適性を有するポジ型フォトレジスト組成物を提供し、より微細なパターンを実現する。 - 特許庁
RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION EXPOSURE, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME, AND FLUORINE-CONTAINING COMPOUND
液浸露光用レジスト組成物およびそれを用いたレジストパターン形成方法、並びに含フッ素化合物 - 特許庁
POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR ELECTRON BEAM, X-RAY OR EUV RAY, AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME
ポジ型電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光用レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
POLYMER, METHOD FOR PRODUCING THE POLYMER, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING SUBSTRATE PLATE FORMED WITH PATTERN
重合体、重合体の製造方法、レジスト組成物、およびパターンが形成された基板の製造方法 - 特許庁
CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
化学増幅型レジスト組成物およびそれを用いた半導体装置の製造方法、パターン形成方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD USING THE SAME
感光性樹脂組成物及びそれを用いたレジストパターンの形成方法、プリント配線板の製造方法 - 特許庁

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「composition pattern」を含む例文一覧(4879)

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