「composition pattern」を含む例文一覧(4879)
＜前へ 1 2 .... 33 34 35 36 37 38 39 40 41 .... 97 98 次へ＞- PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE METAL COMPLEX, COATING LIQUID, AND METHOD FOR MANUFACTURING METAL OXIDE THIN FILM PATTERN
感光性組成物、感光性金属錯体、塗布液、及び金属酸化物薄膜パターンの製造方法 - 特許庁 - POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION FOR ELECTRON BEAM, X RAY OR EUV RAY, AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME
電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - To provide an ink composition for repairing easily and efficiently a photomask having a microscopic pattern.
微細なパターンを有するフォトマスクを簡便にかつ効率良く補修できるインキ組成物を提供する。 - 特許庁 - INORGANIC POWDER-CONTAINING RESIN COMPOSITION, PATTERN FORMATION METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF ELECTRODE FOR FLAT PANEL DISPLAY
無機粉体含有樹脂組成物、パターン形成方法およびフラットパネルディスプレイ用電極の製造方法 - 特許庁 - HIGH SENSITIVITY PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING SOLUBLE FILM FORMING DENDRIMER AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
可溶性膜形成デンドリマーを含む高感度フォトレジスト組成物およびそれを使用したパターン形成方法 - 特許庁 - PHOTORESIST MONOMER, PHOTORESIST POLYMER, PHOTORESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN AND SEMICONDUCTOR ELEMENT
フォトレジスト単量体、フォトレジスト重合体、フォトレジスト組成物、フォトレジストパターン形成方法、及び半導体素子 - 特許庁 - PHOTORESIST POLYMER, PRODUCTION PROCESS THEREFOR, PHOTORESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN AND SEMICONDUCTOR ELEMENT
フォトレジスト重合体とその製造方法、フォトレジスト組成物、フォトレジストパターン形成方法、及び半導体素子 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE SOLDER RESIST COMPOSITION AND FILM, AND PERMANENT PATTERN AND METHOD OF FORMING SAME
感光性ソルダーレジスト組成物及び感光性ソルダーレジストフイルム、並びに、永久パターン及びその形成方法 - 特許庁 - POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR THICK FILM RESIST FILM FORMATION, THICK FILM RESIST LAMINATE, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD
厚膜レジスト膜形成用のポジ型レジスト組成物、厚膜レジスト積層体およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
感活性光線または感放射線性樹脂組成物、および該組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE SOLDER RESIST COMPOSITION AND PHOTOSENSITIVE SOLDER RESIST FILM, AND PERMANENT PATTERN AND METHOD FOR FORMING THE SAME
感光性ソルダーレジスト組成物及び感光性ソルダーレジストフィルム、並びに、永久パターン及びその形成方法 - 特許庁 - NOVEL COMPOUND AND METHOD OF PRODUCING THE SAME, ACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION, AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN
新規な化合物およびその製造方法、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition capable of forming a cured resin pattern which ensures small degassing amount.
脱ガス量が少ない硬化樹脂パターンを形成しうる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a polymer resin composition, a method for forming pattern by using the same and a method for forming a capacitor.
高分子樹脂組成物、これを利用したパターン形成方法、及びキャパシタ形成方法が開示される。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition capable of suppressing occurrence of dimples and a resist pattern forming method.
ディンプルの発生を抑制できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition capable of forming a pattern excellent in both flexibility and heat resistance.
柔軟性及び耐熱性ともに優れるパターンを形成可能な感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To prevent the dimensional change of a pattern of poly silsesqui azane system photosensitive composition including photo-acid initiator.
光酸発生剤を含むポリシルセスキアザン系感光性組成物のパターン寸法変化を防止すること。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition excellent in dimension controlling property and to provide a method for forming a resist pattern.
寸法制御性に優れたポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR THICK-FILM RESIST FILM FORMATION, THICK-FILM RESIST LAMINATE AND RESIST PATTERN FORMING METHOD
厚膜レジスト膜形成用のポジ型レジスト組成物、厚膜レジスト積層体およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - To provide a positive resist composition which ensures a good negativing margin and a resist pattern forming method.
良好なネガ化マージンが得られるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a negative radiation-sensitive resin composition excellent in resolution, pattern profile and dimensional fidelity.
解像性、パターン形状、寸法忠実性に優れるネガ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, PHOTOSENSITIVE LAMINATE, PERMANENT PATTERN FORMING METHOD AND PRINTED CIRCUIT BOARD
感光性樹脂組成物、感光性フィルム、感光性積層体、永久パターン形成方法、及びプリント基板 - 特許庁 - SILICON-CONTAINING PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING THIN FILM PATTERN USING THE SAME, AND PROTECTIVE FILM FOR ELECTRONIC APPARATUS
シリコン含有感光性組成物、これを用いた薄膜パターンの製造方法、電子機器用保護膜 - 特許庁 - HEXAARYLBIIMIDAZOLE COMPOUND, PHOTOSENSITIVE COMPOSITION USING THE SAME AND PRODUCTION OF PATTERN AND ELECTRONIC PART
ヘキサアリールビイミダゾール化合物、これを用いた感光性組成物及びパターンの製造法並びに電子部品 - 特許庁 - COMPOSITION FOR FORMING INTERMEDIATE LAYER INCLUDING SILYLPHENYLENE-BASED POLYMER, AND PATTERN FORMATION METHOD USING THE SAME
シリルフェニレン系ポリマーを含有する中間層形成用組成物およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - To provide a clay composition with excellent conveniency capable of making a pattern of hand or foot simply and clearly.
簡易且つ明瞭な手形や足型の採取が可能な利便性に優れた粘土組成物を提供する。 - 特許庁 - COMPOSITION FOR FORMING RESIST UNDERFILM, RESIST UNDERFILM, METHOD FOR FORMING THE RESIST UNDERFILM, AND METHOD FOR FORMING PATTERN
レジスト下層膜形成用組成物、レジスト下層膜、レジスト下層膜の形成方法、及びパターン形成方法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN AND PERMANENT RESIST USING THE SAME
感光性樹脂組成物、感光性フィルム、レジストパターンの形成方法及びそれを用いた永久レジスト。 - 特許庁 - To provide a photosensitive composition or the like that is excellent in insulation performance, plating resistance, and smoothness of a resist pattern side face.
絶縁性、耐メッキ性、及びレジストパターン側面の平滑性に優れる感光性組成物などの提供。 - 特許庁 - POSITIVE CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PRODUCTION OF RESIST PATTERN AND PRODUCTION OF ELECTRONIC DEVICE
ポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物、レジストパターンの製造法及び電子装置の製造法 - 特許庁 - ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE SAME
感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - COMPOSITION FOR FORMING DIELECTRIC FILM AND METHOD FOR FORMING DIELECTRIC FILM OR DIELECTRIC FILM PATTERN USING THE SAME
絶縁膜形成用組成物及びこれを用いた絶縁膜または絶縁膜パターンの形成方法 - 特許庁 - ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM USING THE SAME, AND PATTERN FORMATION METHOD
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法 - 特許庁 - RESIN COMPOSITION SENSITIVE TO ACTIVE ENERGY RADIATION AND POLYMER PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
感活性エネルギー線樹脂組成物、及び、該樹脂組成物を用いてなる高分子パターンの形成方法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD USING SAME, AND COMPOUND IN SAME
感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に於ける化合物 - 特許庁 - To provide a top coating composition for a photoresist, and a method of forming a photoresist pattern using the same.
フォトレジスト用のトップコーティング組成物、及びそれを用いたフォトレジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁 - The composition forms a prescribed pattern through the alkali development after exposure, by the action of a photosensitive agent contained therein.
本発明は、感光剤を有することで、露光後のアルカリ現像によって所定のパターンを形成できる。 - 特許庁 - To provide a negative resist composition having good alkali solubility, and to provide a method of forming a resist pattern.
良好なアルカリ溶解性を有するネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法が提供する。 - 特許庁 - POLYAMIC ESTER, ITS PRODUCTION, PHOTOPOLYMER COMPOSITION, PRODUCTION OF PATTERN THEREFROM, AND ELECTRONIC COMPONENT
ポリアミド酸エステル、その製造法、感光性樹脂組成物、それを用いたパターン製造法及び電子部品 - 特許庁 - FLUORINE-CONTAINING COMPOUND, FLUORINE-CONTAINING POLYMER, NEGATIVE-TYPE RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME
含フッ素化合物、含フッ素高分子化合物、ネガ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR ELECTRON BEAM, EUV LIGHT OR X-RAY AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
電子線、ＥＵＶ光又はＸ線用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - To provide a resist composition with which a pattern having excellent line width roughness(LWR) can be obtained.
優れたラインウィズスラフネス（ＬＷＲ）を有するパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - POSITIVE PHOTOSENSITIVE POLYBENZOXAZOLE PRECURSOR COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING PATTERN AND ELECTRONIC PART USING THE SAME
ポジ型感光性ポリベンゾオキサゾール前駆体組成物、パターンの製造方法及びこれを用いた電子部品 - 特許庁 - The base resin composition 4 is prepared by kneading and mixing a pattern material 6 with a resin material 5.
樹脂材料５に柄材６を練り込んで混合することによってベース樹脂組成物４を調製する。 - 特許庁 - COMPOSITION FOR FORMING RESIST UNDERLAYER FILM, RESIST UNDERLAYER FILM, METHOD FOR FORMING THE SAME, AND METHOD FOR FORMING PATTERN
レジスト下層膜形成用組成物、レジスト下層膜、レジスト下層膜の形成方法、及びパターン形成方法 - 特許庁 - COMPOSITION FOR FORMING RESIST UNDERLAYER FILM INCLUDING IONIC POLYMER AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME
イオン性重合体を含むレジスト下層膜形成組成物及びそれを用いたレジストパターンの形成方法 - 特許庁 - POLYMER FOR RESIST, RESIST COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING SUBSTRATE ON WHICH PATTERN IS FORMED, AND POLYMERIZABLE MONOMER
レジスト用重合体、レジスト組成物、パターンが形成された基板の製造方法、および重合性モノマー - 特許庁 - POLYMERIZABLE COMPOSITION, NEGATIVE RESIST USING THE SAME AND IMAGE PATTERN FORMING METHOD USING THE NEGATIVE RESIST
重合性組成物およびそれを用いたネガ型レジストおよびそれを用いた画像パターン形成方法。 - 特許庁 - COMPOSITION FOR FORMING FILM CONTAINING SILICON FOR MULTILAYER RESIST PROCESSING, FILM CONTAINING SILICON, AND METHOD OF FORMING PATTERN
多層レジストプロセス用シリコン含有膜形成用組成物及びシリコン含有膜並びにパターン形成方法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR FORMING OPTICAL WAVEGUIDE, OPTICAL WAVEGUIDE, AND METHOD FOR FORMING OPTICAL WAVEGUIDE PATTERN
光導波路形成用感光性樹脂組成物、光導波路及び光導波路パターンの形成方法 - 特許庁
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