「composition pattern」を含む例文一覧(4879)
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ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - RESIST COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING RELIEF PATTERN, AND ELECTRONIC COMPONENT
レジスト組成物、レリーフパターンの製造方法、及び電子部品 - 特許庁 - RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD
感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁 - NEGATIVE RESIST COMPOSITION FOR LIFT-OFF, AND PATTERN FORMING METHOD
リフトオフ用ネガ型レジスト組成物及びパターン形成方法 - 特許庁 - INK COMPOSITION, AND PRINTING METHOD AND PATTERN FILM USING THE SAME
インク組成物と、それを用いた印刷方法及びパターン膜 - 特許庁 - CHEMICALLY AMPLIFIED PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN
化学増幅型フォトレジスト組成物及びパターン形成方法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD OF PRODUCING PATTERN, AND ELECTRONIC PART
感光性樹脂組成物、パターンの製造法及び電子部品 - 特許庁 - POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING IT
ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁 - To obtain a radiation sensitive composition excellent in sensitivity, resolution and pattern shape and to provide a pattern forming method using the composition.
感度、解像度、パタン形状に優れた感放射線組成物およびこれを用いたパタン形成方法を提供する。 - 特許庁 - RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND POLYMER COMPOUND
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物 - 特許庁 - POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME
ポジ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁 - PHOTORESIST COMPOSITION FOR PHOTOMASK AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
ホトマスク用ホトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁 - RESIST COMPOSITION FOR SURFACE LAYER IMAGING AND PATTERN FORMING METHOD
表層イメージング用レジスト組成物およびパターン形成方法 - 特許庁 - The method for resist pattern formation comprises utilization of the positive resist composition.
該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法。 - 特許庁 - COMPOSITION FOR FORMING RESIST LOWER LAYER FILM, AND PATTERN FORMING METHOD
レジスト下層膜形成用組成物及びパターン形成方法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING PATTERN AND ELECTRONIC PARTS
感光性樹脂組成物、パターンの製造法及び電子部品 - 特許庁 - NEGATIVE RESIST COMPOSITION FOR LIFT OFF AND PATTERN FORMING METHOD
リフトオフ用ネガ型レジスト組成物及びパターン形成方法 - 特許庁 - CHEMICALLY AMPLIFIED TYPE PHOTORESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD
化学増幅型フォトレジスト組成物及びパターン形成方法 - 特許庁 - COMPOSITION FOR ANTIREFLECTION COATING AND PATTERN FORMING METHOD
反射防止コーティング用組成物およびパターン形成方法 - 特許庁 - POLYMERIZABLE RESIN COMPOSITION, PATTERN, COLOR FILTER AND DISPLAY DEVICE
重合性樹脂組成物、パターン、カラーフィルタ及び表示装置 - 特許庁 - THERMOSETTING COMPOSITION, THERMOSET ARTICLE AND METHOD FOR FORMING PATTERN
熱硬化性組成物、熱硬化物およびパターン形成方法 - 特許庁 - POLYMERIZABLE RESIN COMPOSITION, COATING FILM, PATTERN AND DISPLAY DEVICE
重合性樹脂組成物、塗膜、パターンおよび表示装置 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND PHOTORESIST FILM, FORMATION METHOD OF RESIST PATTERN AND FORMATION METHOD OF CONDUCTOR PATTERN USING THE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION
感光性樹脂組成物、これを用いたフォトレジストフィルム、レジストパターンの形成方法及び導体パターンの形成方法 - 特許庁 - COMPOSITION FOR UNDERLAYER FILM AND MULTILAYER RESIST PATTERN FORMING METHOD
下層膜用組成物及び多層レジストパターン形成方法 - 特許庁 - CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD
化学増幅型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - PATTERN FORMING METHOD AND COMPOSITION FOR FORMING RESIST UNDERLAY FILM
パターン形成方法及びレジスト下層膜形成用組成物 - 特許庁 - COMPOSITION FOR FORMING RESIST UNDERLAY FILM AND PATTERN FORMING METHOD
レジスト下層膜形成用組成物及びパターン形成方法 - 特許庁 - The method for forming resist pattern comprises using the positive type resist composition.
該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法。 - 特許庁 - RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RELIEF PATTERN USING THE SAME
樹脂組成物、それを用いたレリーフパターンの形成方法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR FORMING PATTERN, AND COLOR FILTER
パターン形成用の感光性樹脂組成物およびカラーフィルタ - 特許庁 - METHOD FOR PRODUCING POSITIVE RESIST COMPOSITION, POSITIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD
ポジ型レジスト組成物の製造方法、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - BAKING RESIN COMPOSITION, BAKING PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND PROCESS FOR FORMING CERAMIC PATTERN
焼成用樹脂組成物、焼成用感光性樹脂組成物及びセラミックパターン形成方法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FILM AND RESIN PATTERN USING THOSE
感光性樹脂組成物、感光性樹脂組成物フィルム、およびそれらを用いた樹脂パターン - 特許庁 - STIMULUS-SENSITIVE COMPOSITION, COMPOUND, AND PATTERN FORMING METHOD USING STIMULUS-SENSITIVE COMPOSITION
感刺激性組成物、化合物及び感刺激性組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁 - POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION
ポジ型感光性組成物及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁 - POSITIVE RESIST COMPOSITION, POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR THERMAL FLOW, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD
ポジ型レジスト組成物、サーマルフロー用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION
ポジ型感光性組成物及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁 - THERMOPLASTIC COMPOUND RESIN COMPOSITION AND GRAIN TONE PATTERN RESIN COMPOSITION OBTAINED BY MOLDING THE SAME
熱可塑性複合樹脂組成物および、これを成形してなる木目調樹脂成形品 - 特許庁 - HEAT-RESISTANT PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN USING THE COMPOSITION, AND ELECTRONIC PARTS
耐熱感光性樹脂組成物、該組成物を用いたパターン製造方法、及び電子部品 - 特許庁 - METHOD OF MANUFACTURING POSITIVE RESIST COMPOSITION, POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMATION METHOD
ポジ型レジスト組成物の製造方法、ポジ型レジスト組成物、およびパターン形成方法 - 特許庁 - STIMULUS-SENSITIVE COMPOSITION, COMPOUND AND PATTERN FORMATION METHOD USING THE STIMULUS-SENSITIVE COMPOSITION
感刺激性組成物、化合物及び該感刺激性組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁 - BASE PROPAGATOR, BASE PROPAGATOR COMPOSITION, REACTIVE BASE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD
塩基増殖剤、塩基増殖剤組成物、塩基反応性組成物及びパターン形成方法 - 特許庁 - RESIN COMPOSITION FOR ION IMPLANTATION PROCESS AND PATTERN FORMING METHOD USING THE RESIN COMPOSITION
イオン注入工程用の樹脂組成物及び該樹脂組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁 - ORGANIC ANTIREFLECTION FILM COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING PATTERN OF PHOTORESIST BY USING THE COMPOSITION
有機反射防止膜組成物及びこれを利用したフォトレジストのパターン形成方法 - 特許庁 - CYCLIC COMPOUND, PHOTORESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE PHOTORESIST COMPOSITION
環式化合物、フォトレジスト組成物、およびフォトレジスト組成物を用いるパターン形成方法 - 特許庁 - POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION
ポジ型感光性組成物及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁 - To provide a positive resist composition excellent in sensitivity and improved in exposure latitude, pattern collapse, pattern profile and line edge roughness of a line pattern, and to provide a method for forming a pattern by using the composition.
感度に優れ、且つ、露光ラチチュード、パターン倒れ、パターンプロファイル、及びラインパターンのラインエッジラフネスが改良されたレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN-FORMING METHOD USING THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, AND COMPOUND IN THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION
感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に於ける化合物 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, COMPOUND FOR USE IN THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION
感光性組成物、該感光性組成物に用いる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD USING PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, AND COMPOUND IN PHOTOSENSITIVE COMPOSITION
感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に於ける化合物 - 特許庁
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