「composition pattern」を含む例文一覧(4879)
＜前へ 1 2 .... 7 8 9 10 11 12 13 14 15 .... 97 98 次へ＞- POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN MAKING METHOD USING THE SAME
ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - ACTIVE PARTICLES, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD
活性粒子、感光性樹脂組成物及びパターン形成方法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, CURED RELIEF PATTERN AND SEMICONDUCTOR DEVICE
感光性樹脂組成物、硬化レリーフパターン及び半導体装置 - 特許庁 - PHOTORESIST COMPOSITION, PHOTORESIST PATTERN FORMING METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE
フォトレジスト組成物、フォトレジストパターン形成方法、及び、半導体素子 - 特許庁 - PHOTORESIST COMPOSITION, PHOTORESIST PATTERN FORMING METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE
フォトレジスト組成物、フォトレジストパターン形成方法及び半導体素子 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE POLYMER COMPOSITION, PATTERN PRODUCING METHOD AND ELECTRONIC COMPONENT
感光性重合体組成物、パターン製造法及び電子部品 - 特許庁 - RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN-FORMING METHOD, COMPOUND, AND ACID GENERATOR
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、酸発生剤 - 特許庁 - PATTERN FORMING METHOD, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION AND RESIST FILM
パターン形成方法、化学増幅型レジスト組成物及びレジスト膜 - 特許庁 - RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD AND COMPOUND
感放射線性樹脂組成物、パターン形成方法及び化合物 - 特許庁 - RADIATION SENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
感放射線組成物及びそれを用いたパタ−ン形成方法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING PATTERN AND ELECTRONIC PARTS
感光性樹脂組成物、パターン製造方法及び電子部品 - 特許庁 - RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD
感放射線性樹脂組成物及びレジストパターンの形成方法 - 特許庁 - POSITIVE RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND POLYMER COMPOUND
ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物 - 特許庁 - DEVELOPER COMPOSITION FOR RESIST AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
レジスト用現像液組成物およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁 - PHOTOCURABLE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING IRREGULAR PATTERN
光硬化性樹脂組成物及び凹凸パターンの形成方法 - 特許庁 - POSITIVE-TYPE RESIST COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD USING SAME
ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD
ポジ型感光性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁 - RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD, COMPOUND AND ACID GENERATOR
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、酸発生剤 - 特許庁 - SILICON-CONTAINING COMPOUND, RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMATION METHOD
珪素含有化合物、レジスト組成物およびパターン形成方法 - 特許庁 - RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION LITHOGRAPHY AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE THIN FILM AND METHOD FOR FORMING PATTERN
感光性組成物、感光性薄膜、及びパターン形成方法 - 特許庁 - POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION, AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THAT
感光性樹脂組成物およびそれを用いるパターン形成方法 - 特許庁 - RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION LITHOGRAPHY AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME
ポジ型レジスト組成物およびこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - COMPOUND, NEGATIVE TYPE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
化合物、ネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - COMPOSITION FOR PATTERN FORMATION, AND PATTERN FORMING MATERIAL, APPARATUS, AND METHOD
パターン形成用組成物、パターン形成材料、及びパターン形成装置並びにパターン形成方法 - 特許庁 - METHOD FOR PATTERN FORMATION, AND RESIST COMPOSITION, DEVELOPING SOLUTION, AND RINSING LIQUID FOR USE IN METHOD FOR PATTERN FORMATION
パターン形成方法、該パターン形成方法に用いられるレジスト組成物、現像液及びリンス液 - 特許庁 - METHOD OF FORMING POSITIVE PATTERN ON SUBSTRATE AND NEGATIVE PATTERN FORMING COMPOSITION USED IN METHOD
基板にポジパターンを形成する方法及びその方法で使用されるネガパターン形成用組成物 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING MATERIAL, PHOTOSENSITIVE LAMINATE, PATTERN FORMING METHOD AND PLASMA DISPLAY
感光性組成物、パターン形成材料、感光性積層体、パターン形成方法、及びプラズマディスプレイ - 特許庁 - COVERING PATTERN FORMING PROCESS, MATERIAL FOR FORMING RESIST COVERING FILM, RESIST COMPOSITION, AND PATTERN FORMING PROCESS
被覆パターン形成方法、レジスト被覆膜形成用材料、レジスト組成物、パターン形成方法 - 特許庁 - REFRACTIVE INDEX VARIABLE COMPOSITION, METHOD FOR FORMING REFRACTIVE INDEX PATTERN, REFRACTIVE INDEX PATTERN, AND OPTICAL MATERIAL
屈折率変化性組成物、屈折率パターンの形成方法、屈折率パターンおよび光学材料 - 特許庁 - To prevent elution of a dye from an already existing pattern when a composition is applied onto the existing pattern.
既設パターンに更に重ね塗りした際に既設パターンからの染料の溶出を防止する。 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE COMPOSITION FOR FORMATION OF THREE-DIMENSIONAL PATTERN AND METHOD FOR FORMING THREE-DIMENSIONAL PATTERN BY USING THE SAME
三次元パターン形成用感光性組成物、及びそれを用いた三次元パターン形成方法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE MATERIAL, METHOD FOR MANUFACTURING RELIEF PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING POLYIMIDE PATTERN
感光性組成物、感光材料、レリーフパターンの製造方法及びポリイミドパターンの製造方法 - 特許庁 - WATER-SOLUBLE RESIN COMPOSITION FOR FORMING FINE PATTERN AND METHOD FOR FORMING FINE PATTERN USING THE SAME
微細化パターン形成用水溶性樹脂組成物およびこれを用いた微細パターン形成方法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, METHOD FOR FORMING PERMANENT PATTERN, PERMANENT PATTERN, AND PRINTED BOARD
感光性組成物、感光性フィルム、永久パターン形成方法、永久パターン、及びプリント基板 - 特許庁 - To provide a photosensitive composition, a compound and a method for forming a pattern to obtain a pattern with few pattern collapses, reduced line edge roughness and having pattern profile.
パターン倒れが少なく、ラインエッジラフネスを小さくでき、パターンプロファイルが優れた感光性組成物、化合物及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - PHOTOPOLYMERIZABLE COMPOSITION FOR FORMING POROUS PATTERN, METHOD FOR FORMING THE POROUS PATTERN BY USING THE SAME AND THE POROUS PATTERN
多孔質パターン形成用光重合性組成物およびそれを用いて成る多孔質パターンの形成方法ならびに多孔質パターン - 特許庁 - OXIME DERIVATIVE, PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN-FORMING MATERIAL, PHOTOSENSITIVE LAMINATE, PATTERN-FORMING DEVICE AND METHOD FOR FORMING PATTERN
オキシム誘導体、感光性組成物、パターン形成材料、感光性積層体、並びにパターン形成装置及びパターン形成方法 - 特許庁 - SURFACE TREATMENT AGENT FOR RESIST PATTERN, RESIST COMPOSITION, AND SURFACE TREATMENT METHOD FOR RESIST PATTERN AND FORMATION METHOD FOR RESIST PATTERN BY USE OF THEM
レジストパターン表面処理剤、レジスト組成物、それらを用いたレジストパターンの表面処理方法及びレジストパターンの形成方法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME, METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN, RESIST PATTERN AND SUBSTRATE HAVING THE RESIST PATTERN LAMINATED THEREON
感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法、レジストパターン及びレジストパターン積層基板 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD USING THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND COMPOUND FOR USE IN THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION
感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に用いられる化合物 - 特許庁 - POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION
ポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物の製造方法及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, COMPOUND USED FOR THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN-FORMING METHOD USING THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION
感光性組成物、該感光性組成物に用いられる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD USING THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND COMPOUND USED FOR THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION
感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に用いられる化合物 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, COMPOUND USED IN THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION
感光性組成物、該感光性組成物に用いられる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁 - To provide a negative resist composition which exhibits good sensitivity and enables formation of a fine pattern of good pattern shape, and a pattern forming method using the negative resist composition.
感度が良好で、良好なパターン形状の微細パターンを形成可能なネガ型レジスト組成物、該ネガ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法、を提供する。 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD AND ELECTRONIC COMPONENT USING THIS PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION
感光性樹脂組成物、この感光性樹脂組成物を用いたパターン形成方法及び電子部品 - 特許庁 - CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION, AND RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE COMPOSITION
化学増幅型レジスト組成物、並びに、該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法 - 特許庁
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