「composition pattern」を含む例文一覧(4879)
＜前へ 1 2 .... 10 11 12 13 14 15 16 17 18 .... 97 98 次へ＞- PATTERN FORMING METHOD USING RESIST COMPOSITION CONTAINING SILICON-CONTAINING POLYMER
ケイ素含有ポリマを含むレジスト組成物を用いるパターン形成方法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE POLYIMIDE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD BY USING SAME
感光性ポリイミド組成物、およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME
ポジ型フォトレジスト組成物及びそれを用いるパタ−ン形成方法 - 特許庁 - POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
ポジ型フォトレジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - POLYMER, PHOTORESIST COMPOSITION, AND METHOD OF FORMING PHOTOLITHOGRAPHIC PATTERN
ポリマー、フォトレジスト組成物、およびフォトリソグラフィパターンを形成する方法 - 特許庁 - ANTIREFLECTION FILM FORMING COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD
反射防止膜形成用組成物およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁 - PHOTORESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, POLYMER, AND COMPOUND
フォトレジスト組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物 - 特許庁 - PHOTORESIST COMPOSITION, PHOTORESIST PATTERN FORMING METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE
フォトレジスト組成物、フォトレジストパターン形成方法および半導体素子 - 特許庁 - PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PHOTORESIST PATTERN USING THE SAME
フォトレジスト組成物及びこれを用いるフォトレジストパターンの形成方法 - 特許庁 - AQUEOUS ZINC INK PASTE COMPOSITION FOR PATTERN FORMATION OF TIN OXIDE FILM
酸化錫膜のパタ−ン形成用水性亜鉛インクペ−スト組成物 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND SEMICONDUCTOR DEVICE HAVING PATTERN OF THE SAME
感光性樹脂組成物およびそのパターンを有する半導体装置 - 特許庁 - PHOTORESIST COMPOSITION, PHOTORESIST PATTERN FORMING METHOD AND SEMICONDUCTOR, DEVICE
フォトレジスト組成物、フォトレジストパターンの形成方法、及び半導体素子 - 特許庁 - PHOTORESIST COMPOSITION, FORMING METHOD OF PHOTORESIST PATTERN AND SEMICONDUCTOR DEVICE
フォトレジスト組成物、フォトレジストパターンの形成方法、及び、半導体素子 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE POLYMER COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING PATTERN AND ELECTRONIC COMPONENT
感光性重合体組成物、パターンの製造法及び電子部品 - 特許庁 - DECOMPOSABLE RESIN COMPOSITION AND PATTERN-FORMING MATERIAL USING THE SAME
分解性樹脂組成物及びそれを用いるパターン形成材料 - 特許庁 - PATTERN FORMING METHOD AND PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR USE IN SAME
パターン形成方法およびそれに用いる感光性樹脂組成物 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM AND RESIST PATTERN FORMING METHOD
感光性樹脂組成物、感光性フィルム及びレジストパターンの製造法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE POLYMER COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN, AND ELECTRONIC PARTS
感光性重合体組成物、パターンの製造法及び電子部品 - 特許庁 - POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PROCESS FOR FORMATION OF RESIST PATTERN WITH THE SAME
ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁 - POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PROCESS FOR FORMATION OF RESIST PATTERN USING SAME
ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁 - The invention provides a silicone rubber composition for the correction of a tire pattern model.
タイヤパターンモデルの修正に用いられるシリコーンゴム組成物である。 - 特許庁 - COMPOUND, ACID-GENERATING AGENT, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
化合物、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁 - METHOD FOR PRODUCING RESIN, RESIN, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
樹脂の製造方法、樹脂、レジスト組成物、レジストパターン形成方法 - 特許庁 - The composition for microfabrication of a resist pattern is used in a resist pattern forming method including steps of applying a composition for microfabrication of a resist pattern on a resist pattern formed by using a radiation-sensitive resin composition, and baking, followed by cleaning to microfabricate the resist pattern, and the composition contains an acidic low-molecular weight compound and a solvent that does not dissolve the resist pattern.
感放射線性樹脂組成物を用いて形成したレジストパターン上に、レジストパターン微細化組成物を塗布し、ベーク後、洗浄してレジストパターンを微細化する工程、を含むレジストパターン形成方法で用いられる、酸性低分子化合物と、レジストパターンを溶解しない溶媒と、を含有するレジストパターン微細化組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a negative type radiation-sensitive composition developable with an aqueous alkali developing solution without swelling a fine pattern and excellent also in shelf stability and to provide a pattern forming method using the composition and a method for producing a semiconductor device using the composition.
水性アルカリ現像液で微細パタンが膨潤することなく現像でき、かつ保存安定性にも優れた感放射線組成物を提供することにある。 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE RESIN LAMINATE, RESIST PATTERN FORMATION METHOD AND CONDUCTOR PATTERN MANUFACTURING METHOD
感光性樹脂組成物、感光性樹脂積層体、レジストパターン形成方法及び導体パターン製造方法 - 特許庁 - To provide a resist composition that can form a resist pattern of excellent shape, and a resist pattern forming method.
良好な形状のレジストパターンを形成できるレジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁 - PHOTOCURABLE RESIN COMPOSITION, ITS CURED PRODUCT PATTERN, AND PRINTED WIRING BOARD WITH THE CURED PRODUCT PATTERN
光硬化性樹脂組成物及びその硬化物パターン、並びに該硬化物パターンを具備するプリント配線板 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND MANUFACTURE OF RESIST PATTERN BY USING THE SAME, AND ELECTRIC CIRCUIT BOARD EACH BY USING THE RESIT PATTERN MANUFACTURING METHOD
感光性樹脂組成物、これを用いたレジストパターンの製造法及び電気回路板の製造法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, AS WELL AS PHOTOSENSITIVE FILM, PERMANENT PATTERN, METHOD FOR FORMING PERMANENT PATTERN, AND PRINTED SUBSTRATE
感光性組成物、並びに、感光性フィルム、永久パターン、永久パターン形成方法、及びプリント基板 - 特許庁 - PATTERN FORMING METHOD USING PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN, COLOR FILTER, AND IMAGE DISPLAY DEVICE
感光性樹脂組成物を用いたパターン形成方法、およびパターン、カラーフィルタ、並びに画像表示装置 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PHOTOSENSITIVE FILM, PERMANENT PATTERN, METHOD FOR FORMING PERMANENT PATTERN, AND PRINTED SUBSTRATE
感光性組成物、並びに、感光性フィルム、永久パターン、永久パターン形成方法、及びプリント基板 - 特許庁 - BLACK PASTE COMPOSITION, FORMING METHOD OF BLACK MATRIX PATTERN USING SAME, AND ITS BLACK MATRIX PATTERN
黒色ペースト組成物、及びそれを用いたブラックマトリックスパターンの形成方法、並びにそのブラックマトリックスパターン - 特許庁 - PHOTOCURABLE RESIN COMPOSITION, ITS CURED PRODUCT PATTERN, AND PRINTED WIRING BOARD WITH CURED PRODUCT PATTERN
光硬化性樹脂組成物及びその硬化物パターン、並びに該硬化物パターンを具備するプリント配線板 - 特許庁 - PATTERN FORMING METHOD OF METAL OXIDE THIN FILM AND COMPOSITION FOR FORMATION OF METAL OXIDE THIN FILM PATTERN
金属酸化物薄膜のパターン形成方法および金属酸化物薄膜パターン形成用組成物 - 特許庁 - This method for forming the nanometer order pattern comprises forming the nanometer order pattern with the polymer composition.
この重合体組成物を用いてナノオーダーパターンを形成するナノオーダーパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, AND PHOTOSENSITIVE FILM, PERMANENT PATTERN, METHOD FOR FORMING PERMANENT PATTERN, AND PRINTED CIRCUIT BOARD
感光性組成物、並びに、感光性フィルム、永久パターン、永久パターン形成方法、及びプリント基板 - 特許庁 - RESIN, POSITIVE-TYPE RESIST COMPOSITION COMPRISING THE RESIN, PROTECTING FILM-FORMING COMPOSITION COMPRISING THE RESIN, PATTERN-FORMING METHOD USING THE POSITIVE-TYPE RESIST COMPOSITION, AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE PROTECTING FILM-FORMING COMPOSITION
樹脂、該樹脂を含有するポジ型レジスト組成物、該樹脂を含有する保護膜形成組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法及び該保護膜形成組成物を用いたターン形成方法 - 特許庁 - POSITIVE RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING PATTERN USING THE SAME COMPOSITION, AND COMPOUND USED IN THE SAME COMPOSITION
ポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法及び該ポジ型レジスト組成物に用いられる化合物 - 特許庁 - POSITIVE RESIST COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD USING THE POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND COMPOUND USED FOR THE POSITIVE RESIST COMPOSITION
ポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法及び該ポジ型レジスト組成物に用いられる化合物 - 特許庁 - POSITIVE RESIST COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD USING POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND COMPOUND USED FOR POSITIVE RESIST COMPOSITION
ポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法及び該ポジ型レジスト組成物に用いられる化合物 - 特許庁 - POSITIVE RESIST COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD USING POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND COMPOUND FOR USE IN POSITIVE RESIST COMPOSITION
ポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法及び該ポジ型レジスト組成物に用いられる化合物 - 特許庁 - POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME
ポジ型感光性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE POLYMER COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING PATTERN AND ELECTRONIC PARTS
感光性重合体組成物及びパターン製造法及び電子部品 - 特許庁 - POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME
ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターンの形成方法 - 特許庁 - POSITIVE RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND POLYMER COMPOUND
ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法および高分子化合物 - 特許庁 - POLYMER COMPOUND, POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
高分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE POLYMER COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN AND ELECTRONIC PARTS
感光性重合体組成物及びパターン製造法及び電子部品 - 特許庁 - COMPOSITION FOR NANOIMPRINT, PATTERN FORMING METHOD, ETCHING RESIST, AND PERMANENT FILM
ナノインプリント用組成物、パターン形成方法、エッチングレジストおよび永久膜 - 特許庁 - POLYMER COMPOUND, POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
高分子化合物、ポジ型レジスト組成物、およびレジストパターン形成方法 - 特許庁
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