「composition pattern」を含む例文一覧(4879)
＜前へ 1 2 .... 14 15 16 17 18 19 20 21 22 .... 97 98 次へ＞- To provide a resist composition for forming a resist pattern with reduced roughness and to provide a method for forming a resist pattern.
ラフネスの低減されたレジストパターンを形成できるレジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - PHOSPHOR PATTERN FORMING COMPOSITION AND FORMING METHOD OF PHOSPHOR PATTERN TO PLASMA DISPLAY PANEL BACK PLATE
蛍光体パターン形成用組成物およびプラズマディスプレイパネル用背面板への蛍光体パターンの形成方法 - 特許庁 - To provide a positive resist composition and a resist pattern forming method, forming a resist pattern of a good shape.
良好な形状のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁 - BASE GENERATOR, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN FORMATION MATERIAL COMPRISING THE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND METHOD FOR PRODUCING RELIEF PATTERN AND ARTICLE USING THE COMPOSITION
塩基発生剤、感光性樹脂組成物、当該感光性樹脂組成物からなるパターン形成用材料、当該感光性樹脂組成物を用いたレリーフパターンの製造方法並びに物品 - 特許庁 - POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD USING THE POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, AND COMPOUND USED FOR THE POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION
ポジ型感光性組成物、該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該ポジ型感光性組成物に用いられる化合物 - 特許庁 - POSITIVE-WORKING PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, METHOD FOR PATTERN FORMATION USING COMPOSITION, AND RESIN FOR USE IN COMPOSITION
ポジ型感光性組成物、該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法、及び、該ポジ型感光性組成物に用いられる樹脂 - 特許庁 - RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD, NOVEL COMPOUND AND ACID GENERATOR
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物及び酸発生剤 - 特許庁 - PHOTOACTIVE COMPOUND, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN
光活性化合物及び感光性樹脂組成物並びにパターン形成方法 - 特許庁 - BASE POLYMER FOR RESIST COMPOSITION, RESIST MATERIAL AND METHOD FOR FORMING PATTERN
レジスト組成物用ベースポリマー並びにレジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, NOVEL COMPOUND AND ACID GENERATOR
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物および酸発生剤 - 特許庁 - POSITIVE RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND POLYMER COMPOUND
ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに高分子化合物 - 特許庁 - RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMATION METHOD, NEW COMPOUND AND ACID GENERATOR
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物及び酸発生剤 - 特許庁 - POSITIVE RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, POLYMER COMPOUND, AND COMPOUND
ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物、化合物 - 特許庁 - RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, NOVEL COMPOUND, AND ACID GENERATOR
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、および酸発生剤 - 特許庁 - POLYMER FOR PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING IT
感光性組成物用重合体およびこれをもちいたパターン形成方法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING MATERIAL, AND PHOTOSENSITIVE FILM, PATTERN FORMING METHOD, PATTERNED FILM, LOW REFRACTIVE INDEX FILM, OPTICAL DEVICE, AND SOLID-STATE IMAGE PICKUP DEVICE USING THE COMPOSITION
感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子 - 特許庁 - COMPOUND FOR RESIST, RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
レジスト用化合物、感放射線性組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE RESIN LAMINATE AND PATTERN FORMING METHOD
感光性樹脂組成物、感光性樹脂積層体およびパターン形成方法 - 特許庁 - PHOTOACTIVE COMPOUND, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING PATTERN
光活性化合物及び感光性樹脂組成物並びにパターン形成方法 - 特許庁 - ACID-SENSITIVE COPOLYMER, RESIST COMPOSITION, AND FORMATION OF RESIST PATTERN
酸感応性共重合体、レジスト組成物及びレジストパタ—ンの形成方法 - 特許庁 - POSITIVE TYPE ELECTRON BEAM RESIST COMPOSITION AND PRODUCTION OF RESIST PATTERN USING SAME
ポジ型電子線レジスト組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造法 - 特許庁 - POLYMER, RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR RESIST PATTERN FORMATION
重合体、感放射線性樹脂組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - PATTERN FORMING METHOD AND PHOTO-SEDIMENTATION TYPE COMPOSITION USED FOR THE METHOD
パターンの形成方法、及び該方法に用いられるフォト沈降型組成物 - 特許庁 - RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PATTERN, POLYMER, AND COMPOUND
感放射線性樹脂組成物、パターン形成方法、重合体及び化合物 - 特許庁 - POLYMER, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING SUBSTRATE FORMED WITH PATTERN
重合体、レジスト組成物及びパターンが形成された基板の製造方法 - 特許庁 - POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD AND THIN FILM TRANSISTOR ARRAY SUBSTRATE
ポジ型感光性組成物、パターン形成方法、及び薄膜トランジスタアレイ基板 - 特許庁 - POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, MANUFACTURING METHOD OF RESIST PATTERN, AND ELECTRONIC DEVICE
ポジ型感光性樹脂組成物、レジストパターンの製造方法及び電子デバイス - 特許庁 - POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD OF MANUFACTURING RELIEF PATTERN AND ELECTRONIC PARTS
ポジ型感光性樹脂組成物、レリーフパターンの製造方法及び電子部品 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, CURED RESIN PATTERN USING THE SAME AND DISPLAY ELEMENT
感光性樹脂組成物、それを用いた硬化樹脂パターン及び表示素子 - 特許庁 - POSITIVE THERMOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD BY USING SAME
ポジ型感熱性樹脂組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁 - PHOTOSETTING-THERMOSETTING RESIN COMPOSITION AND RESINOUS INSULATION PATTERN FORMING METHOD
光硬化性・熱硬化性樹脂組成物及び樹脂絶縁パターン形成方法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING PATTERN AND ELECTRONIC PARTS USING THE SAME
感光性樹脂組成物、パターン製造法及びこれを用いた電子部品 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING PATTERN USING THE SAME AND ELECTRONIC PARTS
感光性樹脂組成物、これを用いたパターン製造法及び電子部品 - 特許庁 - NOVEL COPOLYMER, PHOTORESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING HIGH-ASPECT-RATIO RESIST PATTERN
新規コポリマー、ホトレジスト組成物、および高アスペクト比のレジストパターン形成方法 - 特許庁 - POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN AND ELECTRONIC DEVICE
ポジ型感光性樹脂組成物、レジストパターンの製造方法及び電子デバイス - 特許庁 - RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION LITHOGRAPHY, RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND FLUORINE-CONTAINING RESIN
液浸露光用レジスト組成物、レジストパターン形成方法および含フッ素樹脂 - 特許庁 - CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION FOR THERMAL FLOW AND PATTERN FORMING METHOD
サーマルフロー用化学増幅型ポジレジスト組成物及びパターン形成方法 - 特許庁 - COMPOSITION FOR FORMING PHOTOSENSITIVE RESIST UNDERLAYER FILM AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN
感光性レジスト下層膜形成組成物及びレジストパターンの形成方法 - 特許庁 - To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition excellent in resolution of an isolated pattern and to provide a pattern forming method using the composition.
孤立パターンの解像性に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - RESIST COMPOSITION FOR NEGATIVE-TONE DEVELOPMENT AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
ネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - To provide a positive resist composition having high resolution and giving a resist pattern of good rectangularity and a pattern forming method using the positive resist composition.
高解像性で、矩形性の良好なレジストパターンが得られるポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition capable of improving the standing wave of a side wall of a resist pattern and a pattern forming method using the positive resist composition.
レジストパターン側壁のスタンディングウェーブを改善できるポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE PASTE COMPOSITION AND BAKED MATERIAL PATTERN FORMED USING THE SAME
感光性ペースト組成物及びそれを用いて形成された焼成物パターン - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING MATERIAL, AND PHOTOSENSITIVE FILM, PATTERN FORMING METHOD, PATTERNED FILM, ANTIREFLECTION FILM, INSULATING FILM, OPTICAL DEVICE AND ELECTRONIC DEVICE USING THE COMPOSITION
感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、反射防止膜、絶縁膜、光学デバイス及び電子デバイス - 特許庁 - POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD OF FORMING PATTERN AND SEMICONDUCTOR DEVICE
ポジティブ型感光性樹脂組成物、パターン形成方法および半導体素子 - 特許庁 - COMPOSITION FOR FORMING POROUS FILM, METHOD FOR FORMING PATTERN AND POROUS SACRIFICE FILM
多孔質膜形成用組成物、パターン形成方法、及び多孔質犠性膜 - 特許庁 - UPPER LAYER FILM FORMING COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION AND METHOD OF FORMING PHOTORESIST PATTERN
液浸用上層膜形成組成物およびフォトレジストパターン形成方法 - 特許庁 - DIPROPYLENE GLYCOL DIALKYL ETHER AND SOLVENT COMPOSITION FOR FORMING PATTERN OF ELECTRONIC PART
ジプロピレングリコールジアルキルエーテル、及び電子部品パターン形成用溶剤組成物 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE POLYMER COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING RELIEF PATTERN, AND ELECTRONIC COMPONENT
感光性重合体組成物、レリーフパターンの製造方法及び電子部品 - 特許庁 - METHOD FOR CURING PHOTOCURABLE RESIN COMPOSITION, AND METHOD OF MANUFACTURING RELIEF PATTERN
光硬化性樹脂組成物の硬化方法、及びレリーフパターンの製造方法 - 特許庁
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