「composition pattern」を含む例文一覧(4879)
＜前へ 1 2 .... 18 19 20 21 22 23 24 25 26 .... 97 98 次へ＞- RADIATION-CURABLE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN UTILIZING THE SAME
感放射線硬化型樹脂組成物およびこれを利用したパターン形成方法 - 特許庁 - POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION, BOARD WITH PHOTOSENSITIVE FILM AND RESIST PATTERN FORMING METHOD
ポジ型ホトレジスト組成物、感光性膜付基板およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁 - POSITIVE RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, POLYMERIC COMPOUND, AND COMPOUND
ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物および化合物 - 特許庁 - COMPOUND, POLYMERIC COMPOUND, POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN
化合物、高分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR THIN FILM IMPLANTATION PROCESS AND RESIST PATTERN FORMING METHOD
薄膜インプランテーションプロセス用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, NEW COMPOUND, AND ACID GENERATING AGENT
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物および酸発生剤 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE POLYMER, RESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME, AND METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN
感光性ポリマー及びこれを含むレジスト組成物と、フォトレジストパターン形成方法 - 特許庁 - POLYIMIDE COPOLYMER, POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN
ポリイミド共重合体、ポジ型感光性樹脂組成物、およびパターン形成方法 - 特許庁 - COMPOSITION FOR FORMING ANTIREFLECTION FILM, LAYERED BODY, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
反射防止膜形成用組成物、積層体およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁 - TOP LAYER FILM FORMING COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN USING THE SAME
上層膜形成組成物及びそれを用いたフォトレジストパターン形成方法 - 特許庁 - COMPOSITION FOR FORMING RESIST UNDERLAYER FILM AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME
レジスト下層膜形成組成物及びそれを用いたレジストパターンの形成方法 - 特許庁 - POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR ELECTRON BEAM OR EUV, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD
電子線又はＥＵＶ用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - PHOTORESIST-OVERCOATING COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN, AND SEMICONDUCTOR DEVICE
フォトレジストオーバーコーティング用組成物、フォトレジストパターン形成方法及び半導体素子 - 特許庁 - POLYIMIDE PRECURSOR, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PRODUCTION OF RELIEF PATTERN, AND ELECTRONIC PART
ポリイミド前駆体、感光性樹脂組成物、レリーフパターンの製造法及び電子部品 - 特許庁 - SULFONIUM SLAT, PHOTORESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME
スルホニウム塩化合物、フォトレジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - PHOTO-SOLDERING RESIST RESIN COMPOSITION FOR ELECTROLESS GOLD PLATING AND RESIST PATTERN FORMING METHOD
無電解金メッキ用フォトソルダーレジスト樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁 - POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR MULTILAYER RESIST AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
多層レジスト用ポジ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - ALKALI NEGATIVE DEVELOPMENT TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PRODUCTION METHOD OF PATTERN AND ELECTRONIC PARTS
アルカリネガ現像型感光性樹脂組成物、パターンの製造法及び電子部品 - 特許庁 - POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR EUV EXPOSURE, AND PATTERN FORMING METHOD USING IT
ＥＵＶ露光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
化学増幅型ポジ型レジスト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - Incidentally, the resin composition of the second layer is preferably coated in a dot-like pattern shape.
なお、二層目の樹脂組成物はドット様の模様状に塗布されるのがよい。 - 特許庁 - POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION EXPOSURE AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING SAME
液浸露光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - RADIATION SENSITIVE POSITIVE COMPOSITION AND MANUFACTURE OF RESIST PATTERN BY USING THE SAME
ポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造法 - 特許庁 - POLYMER, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING SUBSTRATE ON WHICH RESIST PATTERN IS FORMED
重合体、レジスト組成物及びパターンが形成された基板の製造方法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN USING THE SAME, AND ELECTRONIC COMPONENT
感光性樹脂組成物、これを用いたパターン製造方法及び電子部品 - 特許庁 - POSITIVE RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND MANUFACTURE OF RESIST PATTERN BY USING SAME
ポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN PRODUCING METHOD USING THE SAME AND ELECTRONIC COMPONENT
感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターンの製造方法、電子部品 - 特許庁 - RESIN FOR RESIST, CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD
レジスト用樹脂、化学増幅型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME
感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁 - COMPOUND, POLYMER COMPOUND, POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD
化合物、高分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD OF PRODUCING CURED RELIEF PATTERN, AND SEMICONDUCTOR DEVICE
感光性樹脂組成物、硬化レリーフパターンの製造方法及び半導体装置 - 特許庁 - A face pattern detection part 105 detects a face pattern from the one composite face image obtained by the image composition part 104.
顔パターン検出部１０５は、画像合成部１０４で合成された１つの顔画像から顔パターンを検出する。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition which reduces falling of a pattern and surface roughness and dependence on the pattern density during etching.
パターン倒れ、エッチング時の表面荒れ及び疎密依存性が軽減されたポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide a pattern forming method which forms a pattern utilizable also as an optical element and having an inclined side wall in its sectional shape and to provide a photosensitive resin composition.
光学素子としても利用可能な断面形状において傾斜した側壁を有するパターンを形成する。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition capable of forming a resist pattern of a good profile and a resist pattern forming method.
良好な形状のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT, METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN USING THE ELEMENT AND METHOD FOR PRODUCING PRINTED WIRING BOARD USING THE PATTERN
感光性樹脂組成物、感光性エレメント、及びこれを用いたレジストパターンの製造法とプリント配線板の製造法 - 特許庁 - To provide a method of forming a conductor pattern inexpensively forming a conductor pattern uniform in terms of composition with high throughput.
組成的に均一な導体パターンを高スループット、かつ、安価に形成できる導体パターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a resist composition and a method for forming a resist pattern, by which a resist pattern in a good shape with high sensitivity can be formed.
高感度で、良好な形状のパターンを形成できるレジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁 - PHOTOCURABLE RESIN COMPOSITION, FINE UNEVEN PATTERN- TRANSFERRING FOIL, OPTICAL COMPONENT, STAMPER AND METHOD FOR FORMING FINE UNEVEN PATTERN
光硬化性樹脂組成物、微細凹凸パターン転写箔、光学物品、スタンパー及び微細凹凸パターンの形成方法 - 特許庁 - To provide a negative resist composition having high sensitivity and capable of forming a high resolution resist pattern, and a resist pattern forming method.
高感度で高解像性のレジストパターンを形成できるレジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - PHOTOCURABLE RESIN COMPOSITION, FINE IRREGULAR PATTERN TRANSFER FOIL, OPTICAL ARTICLE, STAMPER, AND METHOD OF FORMING FINE IRREGULAR PATTERN
光硬化性樹脂組成物、微細凹凸パターン転写箔、光学物品、スタンパー及び微細凹凸パターンの形成方法 - 特許庁 - NEGATIVE RESIST PATTERN FORMING METHOD, DEVELOPER AND NEGATIVE CHEMICAL-AMPLIFICATION RESIST COMPOSITION USED THEREFOR, AND RESIST PATTERN
ネガ型レジストパターン形成方法、それに用いられる現像液及びネガ型化学増幅型レジスト組成物、並びにレジストパターン - 特許庁 - To provide a negative resist composition exhibiting excellent sensitivity, pattern profile and defocus latitude, and to provide a method for forming a pattern.
優れた感度、パターンプロファイルおよびデフォーカスラチチュードを示すネガ型レジスト組成物およびパターン形成方法の提供。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition capable of forming a resist pattern excellent in resolution and a resist pattern forming method.
解像性に優れたレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition for forming a resist pattern with excellent resolution, and to provide a method for forming a resist pattern.
解像力に優れたレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a resist composition and a resist pattern formation method with excellent lithographic properties and excellent resist pattern shapes.
リソグラフィー特性が良好で、レジストパターン形状も良好なレジスト組成物、及びレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition and a resist pattern forming method capable of forming a resist pattern with reduced roughness.
ラフネスの低減されたレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a negative resist composition capable of forming a resist pattern of a good shape and a resist pattern forming method.
良好な形状のレジストパターンを形成できるネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a pattern forming material allowing formation of a pattern excellent in sensitivity and resolution in pattern formation by irradiation with electron beams or EUV, and to provide a negative resist composition using the pattern forming material, and a pattern forming method and an electronic component using the negative resist composition.
電子線又はＥＵＶの照射によるパターン形成において、感度及び解像力に優れたパターンを形成可能なパターン形成材料、当該パターン形成材料を用いたネガ型レジスト組成物、及び当該ネガ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法並びに電子部品を提供する。 - 特許庁 - To provide a resist composition for forming a resist pattern excellent in resolution and a profile, to provide a resist pattern forming method using the resist composition, and to provide a compound suitable for the resist composition.
解像性および形状に優れたレジストパターンを形成できるレジスト組成物、該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法、および該レジスト組成物用として好適な化合物を提供する。 - 特許庁
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