「composition pattern」を含む例文一覧(4879)
＜前へ 1 2 .... 13 14 15 16 17 18 19 20 21 .... 97 98 次へ＞- NEGATIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING PATTERN, AND ELECTRONIC COMPONENT
ネガ型感光性樹脂組成物、パターンの製造方法及び電子部品 - 特許庁 - RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
感放射線性樹脂組成物及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
感光性樹脂組成物及びこれを用いたレジストパターンの形成方法 - 特許庁 - CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
化学増幅型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - NEGATIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN, AND ELECTRONIC COMPONENT
ネガ型感光性樹脂組成物、パターンの製造方法及び電子部品 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR MANUFACTURING RESIST PATTERN USING THE SAME
感光性樹脂組成物、及びこれを用いたレジストパターンの製造方法 - 特許庁 - CREPE-PATTERN COATING MATERIAL COMPOSITION, AND DESIGNED METAL CONTAINER COATED THEREWITH
ちぢみ模様塗料組成物及びそれを塗布した意匠金属容器 - 特許庁 - To provide a resist composition which enables a resist pattern of proper configuration to be formed, and to provide a resist pattern forming method that uses the resist composition.
良好な形状のレジストパターンを形成できるレジスト組成物、および該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING PATTERN AND ELECTRONIC PARTS
ポジ型感光性樹脂組成物、パタ−ンの製造法および電子部品 - 特許庁 - POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PRODUCTION OF RELIEF PATTERN, AND ELECTRONIC PARTS
ポジ型感光性樹脂組成物、レリーフパターンの製造法及び電子部品 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE POLYMER COMPOSITION, MANUFACTURE OF RELIEF PATTERN AND ELECTRONIC COMPONENTS
感光性重合体組成物、レリ—フパタ—ンの製造法及び電子部品 - 特許庁 - POSITIVE-TYPE RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION LITHOGRAPHY AND RESIST PATTERN-FORMING METHOD
液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD OF PRODUCING RESIST PATTERN
化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 - 特許庁 - To provide a resist composition for supercritical development process which suppresses pattern deformation due to swelling and pattern collapse and can obtain a pattern having a high aspect ratio, and a pattern forming method using the composition.
パターンの膨潤による変形及びパターン倒れを抑制するとともに、高アスペクト比のパターンを得ることのできる超臨界現像プロセス用レジスト組成物及び当該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, LAYER OF PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION USING THE SAME AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN
感光性樹脂組成物、これを用いた感光性樹脂組成物の層及びレジストパターンの製造法 - 特許庁 - RESIST COMPOSITION FOR EXTREME ULTRAVIOLET (EUV), PRODUCTION METHOD OF RESIST COMPOSITION FOR EUV, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
ＥＵＶ用レジスト組成物、ＥＵＶ用レジスト組成物の製造方法、およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - ACTINIC-RAY- OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE COMPOSITION
感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁 - ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION/FILM, AND PATTERN FORMING METHOD USING THIS COMPOSITION
感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、膜及び該組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁 - LIQUID STATE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, AQUEOUS PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THESE COMPOSITIONS
液状感光性組成物、水系感光性組成物及びそれらの組成物を使用したパターン形成方法 - 特許庁 - ALICYCLIC COMPOUND, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, COMPOSITION CONTAINING THE SAME AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING THE COMPOSITION
脂環式化合物、その製造方法、それを含む組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁 - METHOD OF MANUFACTURING RESIN FOR RESIST, RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND METHOD OF MANUFACTURING RESIST PATTERN USING THE COMPOSITION
レジスト用樹脂の製造方法、感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造方法 - 特許庁 - POLYMER FOR RADIOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, RADIOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
感放射線性樹脂組成物用重合体、感放射線性樹脂組成物、及びレジストパターン形成方法 - 特許庁 - To provide: a resist composition having excellent development failure performance; and a pattern forming method using the composition.
現像欠陥性能に優れたレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE COMPOSITION
感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁 - ACTIVE RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE COMPOSITION
感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、膜及び該組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁 - POLYMER FOR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST PATTERN-FORMING METHOD
感放射線性樹脂組成物用重合体、感放射線性樹脂組成物、及びレジストパターン形成方法 - 特許庁 - To provide a positive resist composition and a method for forming a resist pattern which uses the positive resist composition.
ポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁 - PHOTO-ACID GENERATING AGENT, PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME AND PATTERN FORMING METHOD USING THE COMPOSITION
光酸発生剤及びそれを含有するフォトレジスト組成物、並びに該組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁 - ALKALI-SOLUBLE PASTE COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN ON GREEN SHEET BY USING THE PASTE COMPOSITION
アルカリ可溶性ペースト組成物及びそのペースト組成物を用いたグリーンシート上へのパターン形成方法。 - 特許庁 - To provide a negative resist composition and a resist pattern forming method using the negative resist composition.
ネガ型レジスト組成物および該ネガ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - ACTINIC RAY- OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE COMPOSITION
感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁 - To provide a positive photosensitive coating material composition and a pattern forming method using the coating material composition.
ポジ型感光性塗料組成物及びその塗料組成物を使用したパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE COMPOSITION
感活性光線または感放射線性樹脂組成物、および該組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁 - To provide a positive resist composition which can keep a wide process window in the process of forming an isolated groove (trench) pattern and a dense trench pattern, and to provide a method for forming a pattern by using the composition.
孤立溝（トレンチ）パターン及び密トレンチパターン形成において広いプロセスウインドウ確保が可能なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - An image composition means 30 reads the patterns from a pattern storage means 10 according to a combination pattern stored in a pattern storage means 20.
画像合成手段３０はパターン記憶手段２０に記憶された組み合わせパターンに従って、図柄記憶手段１０から図柄を読み出す。 - 特許庁 - To provide a curable composition for imprint being excellent in pattern formability regardless of an atmosphere in which a pattern is formed and also having fewer pattern defects.
パターンを形成する雰囲気にかかわらず、パターン形成性に優れ、かつ、パターンの欠陥が少ないインプリント用硬化性組成物を提供する。 - 特許庁 - SURFACE TREATMENT AGENT FOR FORMING RESIST PATTERN, RESIST COMPOSITION, AND SURFACE TREATMENT PROCESS FOR RESIST PATTERN AND FORMATION PROCESS FOR RESIST PATTERN BY USE OF THEM
レジストパターン形成用表面処理剤、レジスト組成物、それらを用いたレジストパターンの表面処理方法及びレジストパターンの形成方法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE RESIN LAMINATE, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR PRODUCING CONDUCTOR PATTERN
感光性樹脂組成物、感光性樹脂積層体、レジストパターン形成方法及び導体パターンの製造方法 - 特許庁 - In the resist pattern forming method, a resist pattern is formed on a substrate using the composition and baked.
該組成物を用いて基板上にレジストパターンを形成した後、該レジストパターンを焼成するレジストパターン形成方法。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a composition floor tile having a cloud-shaped pattern or a marble pattern of the clear contour.
輪郭の鮮明な雲形模様又はマーブル模様を有するコンポジション床タイルの製造方法の提供。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition excellent in lithography characteristics and pattern shape, and to provide a resist pattern forming method.
リソグラフィー特性やパターン形状に優れたポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁 - To provide a pattern forming method for forming a pattern having a small number of development defects, and to provide a resist composition.
現像欠陥の少ないパターンを形成可能とするパターン形成方法及びレジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition and a resist pattern forming method for forming a resist pattern with reduced line width roughness.
ＬｉｎｅＷｉｄｔｈＲｏｕｇｈｎｅｓｓの低減されたレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, COMPOUND AND POLYMER FOR USE IN THE SAME, AND PATTERN FORMING METHOD AND PATTERN USING THE SAME
感光性組成物、それに用いる化合物および重合体、およびそれを用いたパターン形成方法とパターン - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, FILM, AND LAMINATE, AND PERMANENT PATTERN FORMING METHOD, PERMANENT PATTERN, AND PRINTED CIRCUIT BOARD
感光性組成物、感光性フィルム、感光性積層体、永久パターン形成方法、永久パターン、及びプリント基板 - 特許庁 - To provide a negative resist composition excelling in pattern shape having a wide defocus latitude, and to provide a method for forming a pattern.
パターン形状が良好で、デフォーカスラチチュードの広いネガ型レジスト組成物およびパターン形成方法の提供。 - 特許庁 - To provide a negative resist composition giving a resist pattern with high rectangularity and a resist pattern forming method.
矩形性が高いレジストパターンが得られるネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition for forming a resist pattern of a good profile and a method of forming resist pattern.
良好な形状のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁 - To obtain a polymer composition for forming a pattern by laser beam irradiation, and to provide a method for forming the pattern.
レーザ光の照射によりパターンが形成可能なポリマー組成物と、このパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition forming a resist pattern with high resolution, and to provide a method for forming the resist pattern.
高解像性のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁
- 特許庁
- Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
