「composition pattern」を含む例文一覧(4879)
＜前へ 1 2 .... 12 13 14 15 16 17 18 19 20 .... 97 98 次へ＞- WOODGRAIN PATTERN-FORMING THERMOPLASTIC RESIN COMPOSITION AND WOODGRAIN PATTERNED MOLDED PRODUCT
木目模様形成熱可塑性樹脂組成物及び木目模様成形品 - 特許庁 - To provide a new resist composition and a new resist pattern forming method.
新規なレジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - POSITIVE-TYPE RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN-FORMING METHOD, AND HIGH-MOLECULAR COMPOUND
ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法および高分子化合物 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE POLYMER COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING RELIEF PATTERN AND ELECTRONIC PARTS
感光性重合体組成物、レリーフパターンの製造法および電子部品 - 特許庁 - RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, NOVEL COMPOUND AND ACID GENERATOR
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、酸発生剤 - 特許庁 - RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION EXPOSURE, AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME
液浸露光用レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
ポジ型感光性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - SALT FOR ACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN
酸発生剤用の塩、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 - 特許庁 - COLORED COMPOSITION AND COLORED PATTERN DEFECT CORRECTION METHOD
着色組成物およびこれを用いた着色パターン欠陥修正方法 - 特許庁 - CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE SAME
化学増幅型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - This method for pattern formation comprises the steps of forming a film of a fluophor composition on a film of a resin composition for filters, exposing the film side of the resin composition to light using an exposure mask followed by carrying out a development operation, and thereby simultaneously forming a filter pattern and a fluophor pattern.
フィルタ用樹脂組成物の膜に蛍光体組成物の膜を形成し、露光マスクを用いてフィルタ用樹脂組成物の膜側から露光し現像して、フィルタパターンと蛍光体パターンを同時に形成する。 - 特許庁 - ACTIVE ENERGY RAY CURABLE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
活性エネルギー線硬化型樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE POLYMER COMPOSITION, PRODUCTION OF RELIEF PATTERN AND ELECTRONIC PARTS
感光性重合体組成物、レリーフパターンの製造法及び電子部品 - 特許庁 - RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND POLYMER
感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法及び重合体 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE POLYMER COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING RELIEF PATTERN, AND ELECTRONIC PARTS
感光性重合体組成物、レリーフパターンの製造法及び電子部品 - 特許庁 - POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN FORMATION METHOD AND ELECTRONIC COMPONENT
ポジ型感光性樹脂組成物、パターンの形成方法及び電子部品 - 特許庁 - ORGANIC SOLVENT TYPE PHOTOSENSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
有機溶剤型感光性レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE POLYMER COMPOSITION, METHOD OF MANUFACTURING PATTERN, AND ELECTRONIC PARTS
感光性重合体組成物及びパターン製造方法及び電子部品 - 特許庁 - COMPOUND, ACID GENERATING AGENT, RESIST COMPOSITION, AND METHOD OF RESIST PATTERN FORMATION
化合物、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION EXPOSURE AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN
液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE THERMOSETTING RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING SOLDER RESIST PATTERN
感光性熱硬化性樹脂組成物およびソルダーレジストパターン形成方法 - 特許庁 - RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION EXPOSURE AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
液浸露光用レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - CURABLE COMPOSITION FOR TRANSFER PRINTING MATERIAL AND METHOD OF FORMING FINE PATTERN
転写材料用硬化性組成物および微細パターン形成方法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, PATTERN FORMING METHOD AND PRINTED CIRCUIT BOARD
感光性組成物、感光性フィルム、パターン形成方法、及びプリント基板 - 特許庁 - POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION LITHOGRAPHY, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING RELIEF PATTERN AND SEMICONDUCTOR DEVICE
感光性樹脂組成物、レリーフパターンの製造方法及び半導体装置 - 特許庁 - POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION, HIGH MOLECULAR COMPOUND AND RESIST PATTERN FORMING METHOD
ポジ型レジスト組成物、高分子化合物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING PATTERN, AND ELECTRONIC COMPONENT
ポジ型感光性樹脂組成物、パターンの製造方法及び電子部品 - 特許庁 - NEGATIVE RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION EXPOSURE AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN
液浸露光用ネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMATION METHOD, NEW COMPOUND, AND ACID GENERATOR
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、酸発生剤 - 特許庁 - POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION LITHOGRAPHY, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD
液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - RESIN FOR RESIST, RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME
レジスト用樹脂、レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - POLYMER COMPOUND, POSITIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD
高分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - POLYMER COMPOUND, POSITIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD
高分子化合物、ポジ型レジスト組成物、およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN, AND ELECTRONIC COMPONENT
ポジ型感光性樹脂組成物、パターンの製造方法及び電子部品 - 特許庁 - COMPOSITION FOR FORMING UPPER ANTIREFLECTION FILM, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD
上層反射防止膜形成用組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁 - POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR MANUFACTURE OF PHOTOMASK AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
フォトマスク製造用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - POLYIMIDE AND PRECURSOR THEREOF, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND METHOD FOR PRODUCING PATTERN
ポリイミド及びその前駆体、感光性樹脂組成物、パターンの製造法 - 特許庁 - COMPOSITION FOR FORMING INORGANIC FILM FOR MULTILAYER RESIST PROCESS, AND METHOD FOR FORMING PATTERN
多層レジストプロセス用無機膜形成組成物及びパターン形成方法 - 特許庁 - TOPCOAT COMPOSITION FOR RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
レジスト膜用トップコート組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - MONOMER, POLYMER, PHOTORESIST COMPOSITION, AND METHOD OF FORMING PHOTOLITHOGRAPHIC PATTERN
モノマー、ポリマー、フォトレジスト組成物、およびフォトリソグラフィパターンを形成する方法 - 特許庁 - OVERCOAT COMPOSITION FOR PHOTORESIST AND METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN
フォトレジスト用オーバーコーティング組成物およびフォトレジストパターンの形成方法 - 特許庁 - COMPOSITION FOR USE IN LASER DECOMPOSITION AND PATTERN-FORMING MATERIAL USING THE SAME
レーザー分解用組成物およびそれを用いたパターン形成材料 - 特許庁 - LASER-DECOMPOSABLE RESIN COMPOSITION AND PATTERN-FORMING MATERIAL USING THE SAME
レーザー分解性樹脂組成物およびそれを用いるパターン形成材料 - 特許庁 - LASER-DECOMPOSABLE RESIN COMPOSITION AND PATTERN-FORMING MATERIAL USING THE SAME
レーザー分解性樹脂組成物及びそれを用いるパターン形成材料 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE POLYAMIDE IMIDE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING PATTERN AND ELECTRONIC PARTS
感光性ポリアミドイミド樹脂組成物、パターン製造法及び電子部品 - 特許庁 - SILOXANE COMPOUND, PHOTORESIST COMPOSITION COMPRISING THE SAME, AND PATTERN FORMATION METHOD
シロキサン化合物、これを含むフォトレジスト組成物、およびパターン形成方法 - 特許庁 - CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME
化学増幅型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
感放射線性組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁
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