「design pattern」を含む例文一覧(1574)

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  • First, design pattern data to design the pattern of a semiconductor device is stored in a memory device.
    まず、半導体装置のパターンを設計するための設計パターンデータを記憶装置に記憶させる。 - 特許庁
  • METHOD FOR PRODUCING MASK AND MASK PATTERN DESIGN DEVICE
    マスク作成方法及びマスクパターン設計装置 - 特許庁
  • PATTERN DESIGN METHOD AND DROPLET DISPOSING METHOD
    パターン設計方法および液滴配置方法 - 特許庁
  • DESIGN SUPPORT SYSTEM FOR MAKING PATTERN OF GARMENT
    衣服の型紙作成を設計支援するシステム - 特許庁
  • design consisting of a pattern of regularly spaced circular spots
    規則的な間隔をあけた円い点の模様 - 日本語WordNet
  • The method for printing the building plate prints a design pattern on a design surface 21 of the building plate 2.
    建築板２の意匠面２１に柄模様を印刷する方法。 - 特許庁
  • A pattern layout is divided into plural design layers.
    パターンレイアウトを複数の設計層に分割する。 - 特許庁
  • PATTERN DATA CREATION SYSTEM AND PATTERN DATA CREATION METHOD OF CLOTHES DESIGN
    服飾デザインの型紙データ作成システムおよび型紙データ作成方法 - 特許庁
  • PATTERN CORRECTION DEVICE, PATTERN OPTIMIZATION DEVICE, AND INTEGRATED CIRCUIT DESIGN DEVICE
    パターン修正装置、パターン最適化装置及び集積回路設計装置 - 特許庁
  • A layout pattern showing a circuit pattern is prepared in the design side (S101).
    設計側で回路パターンを示すレイアウトパターンを作成する（Ｓ１０１）。 - 特許庁
  • Simulation for forming the transfer pattern is performed on the basis of the design pattern (DT103).
    設計パターンに基づいて、転写パターン形成のシミュレーションを行う（DT103）。 - 特許庁
  • Also, the pattern accuracy of the mask pattern is reverse calculated from the design margin M.
    また、この設計マージンＭからマスクパターンのパターン精度を逆算する。 - 特許庁
  • Since the simulation pattern created is similar to the design pattern in terms of its hierarchical structure, the simulation pattern is compared with the design pattern to increase the speed of comparison with the design pattern and reduce the amount of data on the result of comparison with the design pattern.
    作成したシミュレーションパターンは設計パターンと階層構造が近似するため、シミュレーションパターンと設計パターンとを比較することで、設計パターンとの比較を高速化できるとともに、設計パターンとの比較結果のデータ量を低減できる。 - 特許庁
  • WIRING PATTERN DESIGN DEVICE, METHOD AND PROGRAM
    配線パターン設計装置及び方法並びにプログラム - 特許庁
  • a pattern or design used for decoration
    装飾のためにほどこす図形や色の組み合わせ - EDR日英対訳辞書
  • To provide melon bread applied with a picture, a design or a pattern.
    絵や柄、模様を施したメロンパンを提供する。 - 特許庁
  • The external design pattern 20 and the internal design pattern 26 are obtained by corrugating their surface, etc.
    外側デザインパターン２０や内側デザインパターン２６は例えば表面に凹凸を施すことによって得られる。 - 特許庁
  • METHOD FOR CORRECTING DESIGN PATTERN, METHOD FOR SETTING PARAMETER, DESIGN PATTERN CORRECTING APPARATUS, PARAMETER SETTING APPARATUS, AND PROGRAM
    設計パターン補正方法、パラメータ設定方法、設計パターン補正装置、パラメータ設定装置、及びプログラム - 特許庁
  • Shows you how to use the Design Pattern wizard to easily apply a schema design pattern to an XML schema file.
    「デザインパターン」ウィザードを使用し、XML スキーマファイルにスキーマデザインパターンを簡単に適用する方法を示します。 - NetBeans
  • METHOD OF GENERATING DESIGN LAYOUT PATTERN OF SEMICONDUCTOR AND APPARATUS FOR GENERATING FIGURE PATTERN
    半導体設計レイアウトパタン生成方法および図形パタン生成装置 - 特許庁
  • METHOD OF GENERATING DESIGN LAYOUT PATTERN OF SEMICONDUCTOR AND APPARATUS FOR GENERATING GRAPHIC PATTERN
    半導体設計レイアウトパタン生成方法および図形パタン生成装置 - 特許庁
  • In pattern step-up 1, a left symbol or a right symbol is changed from the design of a pattern 1 to the design of a pattern 2 in a pattern table (S205).
    図柄ステップアップ１では、左図柄又は右図柄を、図柄パターンテーブルにおける１のパターンのデザインから２のパターンのデザインに変更する（Ｓ２０５）。 - 特許庁
  • In pattern step-up 2, the left symbol or the right symbol is changed from the design of the pattern 2 to the design of a pattern 3 in the pattern table (S206).
    図柄ステップアップ２では、左図柄又は右図柄を、図柄パターンテーブルにおける２のパターンのデザインから３のパターンのデザインに変更する（Ｓ２０６）。 - 特許庁
  • SEMICONDUCTOR DEVICE, DESIGNING METHOD OF ITS PATTERN, AND PROGRAM FOR PATTERN DESIGN
    半導体装置並びにそのパターン設計方法及びパターン設計用プログラム - 特許庁
  • In pattern step-up 4, the left symbol or the right symbol is changed from the design of the pattern 4 to the design of a pattern 5 in the pattern table (S208).
    図柄ステップアップ４では、左図柄又は右図柄を、図柄パターンテーブルにおける４のパターンのデザインから５のパターンのデザインに変更する（Ｓ２０８）。 - 特許庁
  • METHOD FOR PERFORMING PATTERN DECOMPOSITION FOR FULL CHIP DESIGN
    フルチップ設計のパターン分解を行うための方法 - 特許庁
  • The copy pattern data is copied to the copy destination design data.
    コピーパターンデータをコピー先の設計データにコピーする。 - 特許庁
  • DUMMY PATTERN DESIGN METHOD, INFORMATION PROCESSOR, AND PROGRAM
    ダミーパタン設計方法、情報処理装置およびプログラム - 特許庁
  • PATTERN EXTRACTION CALCULATION ALGORITHM, DESIGN PROGRAM, AND SIMULATOR
    パターン抽出計算アルゴリズム、設計プログラム及びシミュレータ - 特許庁
  • In addition, reference images are created from pattern design data.
    また、パターンの設計データから参照画像を作成する。 - 特許庁
  • PATTERN WIRING STRUCTURE ON SUBSTRATE AND ITS DESIGN METHOD
    基板上のパターン配線構造及びその設計方法 - 特許庁
  • TILE CARPET EXCELLENT IN DESIGN AND HAVING STRIP PATTERN
    ストライプ柄パターンを有する意匠性に優れたタイルカーペット - 特許庁
  • DESIGN METHOD OF MASK PATTERN, PHOTOMASK, AND SEMICONDUCTOR DEVICE
    マスクパターンの設計方法、フォトマスク及び半導体装置 - 特許庁
  • Please send the draft for the new clothing design to the pattern maker.
    新しい服のデザイン案をパタンナーへ送ってください。 - Weblio英語基本例文集
  • According to the decision, drawing of the design pattern at the time of the watermark design printing is performed (S3303), or drawing of the design pattern at the time of the overlap design printing is performed (S3306).
    この決定に応じて、透かし地紋印刷時の地紋パターン描画を行い(Ｓ３３０３)、または、重ね地紋印刷時の地紋パターン描画を行う(Ｓ３３０６)。 - 特許庁
  • A design circuit pattern which realizes the design circuit on a semiconductor substrate is prepared.
    設計回路を半導体基板上で実現する設計回路パタンが用意される。 - 特許庁
  • METHOD FOR CORRECTING PATTERN, PATTERN CORRECTING SYSTEM, METHOD FOR MANUFACTURING MASK, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, PATTERN CORRECTING PROGRAM AND DESIGN PATTERN
    パターン補正方法、パターン補正システム、マスク製造方法、半導体装置製造方法、パターン補正プログラム、及び設計パターン - 特許庁
  • Then points on the contour line of the pattern figure in the design pattern data are corrected.
    次に、設計パターンデータのパターン図形の輪郭線上の各点を補正する。 - 特許庁
  • A design pattern or a pattern of design template for use in pattern matching is weighted so that a region of low reliability pattern and a region of high reliability pattern can be discriminated.
    パターンマッチングに使用するデザインパターン又はデザインテンプレートのパターンに重みを付し、信頼性の低いパターンの領域と信頼性の高いパターンの領域を重みにより区別可能にする。 - 特許庁
  • METHOD FOR CORRECTING MASK PATTERN, MASK PATTERN CORRECTION DEVICE, CIRCUIT DESIGN DEVICE, AND PROGRAM FOR CORRECTING MASK PATTERN
    マスクパターンの補正方法、マスクパターンの補正装置、回路設計装置及びマスクパターンを補正するプログラム - 特許庁
  • An original design pattern is altered till difference between an objective pattern and a simulation pattern becomes below a specified value.
    目標パターンとシミュレーションパターンとの差異が規定値以下になるまでオリジナル設計パターンが変更される。 - 特許庁
  • DESIGN CORRECTION METHOD, DESIGN PATTERN GENERATING METHOD, AND PROCESS PROXIMITY CORRECTION METHOD
    設計パターン補正方法と設計パターン作成方法及びプロセス近接効果補正方法 - 特許庁
  • METHOD FOR CREATING PATTERN DATA, METHOD FOR CREATING DESIGN LAYOUT AND METHOD FOR VERIFYING PATTERN DATA
    パターンデータ作成方法、設計レイアウト作成方法及びパターンデータ検証方法 - 特許庁
  • PRODUCTION OF FIBER FABRIC HAVING TISSUE PATTERN-LIKE DESIGN
    組織柄調の図柄を有する繊維布帛の製造方法 - 特許庁
  • To design a semiconductor device wherein densities of a dummy pattern and a design pattern are made uniform in all the parts of a semiconductor chip.
    ダミーパターンと設計パターンとの密度を、半導体チップの全部分において均一化した半導体装置を設計する。 - 特許庁
  • DEVICE AND METHOD FOR CORRECTING DESIGN PATTERN, AND PROGRAM
    設計パターン補正装置、設計パターン補正方法、及びプログラム - 特許庁
  • METHOD, DEVICE AND PROGRAM FOR CHECKING DESIGN DATA PATTERN FOR PHOTOMASK
    フォトマスク用設計データパターンチェック方法、装置及びプログラム - 特許庁
  • PHOTOMASK DESIGN METHOD, PATTERN PREDICTION METHOD, AND PROGRAM
    フォトマスクの設計方法、パターン予測法方法およびプログラム - 特許庁
  • To provide a method for checking design data pattern for photomask, in which easily and efficiently checking design data pattern for photomask.
    フォトマスク用設計データパターンを簡単かつ効率的にチェックできるフォトマスク用設計データパターンチェック方法を提供する。 - 特許庁
  • DESIGN PATTERN VERIFICATION METHOD OF PHOTOMASK FOR MULTIPLE EXPOSURE TECHNOLOGY
    多重露光技術用フォトマスクの設計パタン検証方法 - 特許庁
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