「design pattern」を含む例文一覧(1575)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 31 32 次へ＞- This method is a part of the Visitor design pattern implementation.Parameter object
このメソッドは、ビジター・デザインパターンの実装の一部です。 パラメータ object - PEAR - PATTERN DESIGN SIMULATION SYSTEM, SERVER USED FOR PATTERN DESIGN SIMULATION SYSTEM, PATTERN DESIGN SIMULATION METHOD AND PROGRAM, COMPUTER-READABLE RECORDING MEDIUM WITH PROGRAM RECORDED THEREON AND OUTPUTTED PRODUCT
柄デザインシミュレーションシステム及び柄デザインシミュレーションシステムに用いるサーバ及び柄デザインシミュレーション方法並びにプログラム及びプログラムを記録したコンピュータに読み取り可能な記録媒体及び出力物 - 特許庁 - (Step S3) The density of the dummy pattern and the design pattern is calculated for every division region.
ダミーパターンと設計パターンとの密度を分割領域毎に算出する（ステップＳ３）。 - 特許庁 - PATTERN EXPOSURE MASK, PATTERN EXPOSURE METHOD DEVICE, MASK DESIGN METHOD/DEVICE, AND INFORMATION STORAGE MEDIUM
パターン露光マスク、パターン露光方法／装置、マスク設計方法／装置、情報記憶媒体 - 特許庁 - DEVICE FOR PREPARING CIRCUIT, DEVICE FOR PREPARING TEST PATTERN, DEVICE FOR SUPPORTING DESIGN, AND METHOD OF PREPARING TEST PATTERN
回路作成装置、テストパターン作成装置、設計支援装置、及びテストパターン作成方法 - 特許庁 - After that the shape of the design pattern is varied again and a defined pattern is then displayed.
その後、装飾図柄の形状を再度変動させた後、確定図柄を表示させる。 - 特許庁 - To provide a pattern forming method capable of shortening the creation time of a pattern with a design.
模様付きパターンの作成時間を短縮できるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - A design pattern to be formed on an induction substrate is set (S21), and the correction of a pattern shape for correcting the proximity effect is calculated regarding the design pattern (S22).
感応基板上に形成すべき設計パターンを設定（Ｓ２１）し、それについて近接効果補正のためのパターン形状補正を計算する（Ｓ２２）。 - 特許庁 - To provide a test pattern producing apparatus, a circuit design apparatus, a test pattern producing method, a circuit design method, a test pattern producing program, and a circuit design program, for reducing the processing time in test pattern production and the amount of memory used.
テストパターン生成時の処理時間や使用メモリ量の削減を図るテストパターン生成装置、回路設計装置、テストパターン生成方法、回路設計方法、テストパターン生成プログラム、回路設計プログラムを提供する。 - 特許庁 - The upper surface of the base layer sheet is provided with a design pattern.
基層シートの上面には、意匠模様が設けられている。 - 特許庁 - PATTERN COATED METAL SHEET EXCELLENT IN DESIGN PROPERTIES AND ITS MANUFACTURING METHOD
意匠性に優れた模様塗装金属板とその製造方法 - 特許庁 - The time to design the liquid-crystal array pattern can be reduced.
液晶アレイパターンの設計時間の短期間化を実現できる。 - 特許庁 - any ornamental pattern or design (as in embroidery)
どんな装飾的なパターンまたはデザインでも（刺繍の場合のように） - 日本語WordNet - A design pattern that is used to present information in JSP pages.
JSP ページに情報を表示するために使用されるデザインパターン。 - NetBeans - a pattern whose design has been made to look as if it has been created through splashing
ところどころに,小さくかすったように置かれた模様 - EDR日英対訳辞書 - a fabric pattern obtained by drawing on a wet surface with India ink and then transfering the design to cloth, called 'nagashisumi'
墨流しという技法を用いて写し取った模様 - EDR日英対訳辞書 - DESIGN PROBLEM SOLUTION SYSTEM AND METHOD USING FUZZY PATTERN MATCHING
ファジイパターンマッチングを用いた設計問題解決システム及び方法 - 特許庁 - METHOD FOR CORRECTING DESIGN PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING EXPOSURE MASK
設計パターンの補正方法および露光マスクの製造方法 - 特許庁 - DESIGN PATTERN CORRECTING APPARATUS, DESIGN PATTERN CORRECTING METHOD, DATA CALCULATING APPARATUS FOR SIZE SETTING, DATA CALCULATING METHOD FOR SIZE SETTING, AND PROGRAM
設計パターン補正装置、設計パターン補正方法、サイズ設定用データ算出装置、サイズ設定用データ算出方法、及びプログラム - 特許庁 - A minimum design dimension of a wiring width of the first wiring pattern is smaller than a minimum design dimension of a wiring width of the second wiring pattern.
第１の配線の配線幅の最小設計寸法は、第２の配線の配線幅の最小設計寸法よりも小さい。 - 特許庁 - If copy destination design data has pattern data of the same name, virtual design data is generated by copying pattern data to be copied.
コピー先の設計データに同名のパターンデータがある場合には、コピーするパターンデータをコピーした仮想設計データを作成する。 - 特許庁 - "Industrial design" is a pattern or shape of product to be produced consisting of shape, design, drawing, colors and etc.
「意匠」は生産される製品の模様や形状で、形、デザイン、図、色等から構成される。 - 特許庁 - To provide a method for forming a textile design, capable of drawing the textile design having accurate forms and dimensions required for forming a paper pattern, when the textile design is formed from a fashion design sketch.
ファッションデザイン画から意匠図を作成する場合に、型紙作成用として、正確な形状、寸法を描くことのできるデザイン意匠図作成方法。 - 特許庁 - To provide a correcting method of a design pattern which performs the correction of proximity effect to a design pattern by converting the area density of the design pattern into figure data so that the area density of the design pattern can be inputted into a general-purpose figure operating tool as a parameter.
設計パターンの面積密度を汎用的な図形演算ツールにパラメータとして入力できるように、設計パターンの面積密度を図形データに変換し、設計パターンに対して近接効果の補正を行う設計パターンの補正方法を提供する。 - 特許庁 - The printing system provided with a printer driver 13 having a design pattern image generating function includes an attaching range particularizing module 14 for particularizing an attaching range of the design pattern image, and a design pattern image generating module 15 for generating the design pattern image of the particularized range.
地紋画像作成機能を有するプリンタドライバ１３を備えた印刷システムにおいて、地紋画像の付加範囲を特定する付加範囲特定モジュール１４と、特定された範囲の地紋画像を作成する地紋画像作成モジュール１５とを備えるようにした。 - 特許庁 - If a color scheme of the design image is completed, a pattern image formation portion overlaps a pattern image with the colored design image, and sets up a color in the pattern image to a color of a position corresponding to the design image.
デザイン画像の配色が完了したら、地紋画像生成部は地紋画像と配色されたデザイン画像を重ね合わせ、地紋画像の色を対応するデザイン画像の位置の色に設定する。 - 特許庁 - To enhance design efficiency in pattern design by enabling complete and efficient conversion of design data among CADs when the pattern design of a wiring board is performed by using plural CADs.
配線基板のパターン設計を複数のＣＡＤを用いて行う場合に、ＣＡＤ間において、設計データを完全にかつ効率的に変換でき、パターン設計における設計効率を向上可能にする。 - 特許庁 - A specified wide rolled paper texture 1 is finished with embossed design 2, running pattern 3 and internal pattern 4 in the running pattern.
所定幅の帯状の兼用生地１にエンボス２、連続模様３及びその内側に内部模様４を施してある。 - 特許庁 - MASK PATTERN DESIGNING DEVICE, MASK PATTERN DESIGNING METHOD AND COMPUTER-READABLE RECORDING MEDIUM STORING MASK PATTERN DESIGN PROGRAM
マスクパターン設計装置、マスクパターン設計方法およびマスクパターン設計プログラムを格納したコンピュータ読取り可能な記録媒体 - 特許庁 - Design pattern density for a correction object area on the mask is computed and correction data for the mask pattern density corresponding to the design pattern density are selected to correct design pattern data of the correction object area according to the data.
一方、マスク上の補正対象領域に対する設計パターン密度を算出し、この設計パターン密度に対応するマスクパターン密度の補正データを選択し、これに基づいて、補正対象領域の設計パターンデータに補正を行う。 - 特許庁 - In the circuit substrate 10, a copper layer in accordance with a design pattern is etched in a predetermined pattern shape.
回路基板１０は、設計パターンに従って銅層が所定のパターン形状にエッチングされる。 - 特許庁 - To uniformly form a pattern of a dimension corresponding to a design pattern dimension on an entire substrate surface.
設計パターン寸法に応じた寸法のパターンを基板面内の全面で一様に形成すること。 - 特許庁 - DESIGN METHOD FOR PATTERN FORMATION SUBSTRATE, THE PATTERN FORMATION SUBSTRATE, ELECTROOPTICAL APPARATUS, AND ELECTRONIC DEVICE
パターン形成基板の設計方法及びパターン形成基板、電気光学装置並びに電子機器 - 特許庁 - DESIGN OF PRINTED WIRING PATTERN AND PRINTED WIRING BOARD SUBJECTED TO OUTLINE PUNCHING
プリント配線パターン設計と外形打抜きされたプリント配線板 - 特許庁 - The verification is LVS (Layout Versus Schematics) verification or pattern design rule verification.
この検証はＬＶＳ（Layout Versus Schematics）検証やパターンデザインルール検証である。 - 特許庁 - METHOD FOR PLACING DUMMY PATTERN, SEMICONDUCTOR DESIGN APPARATUS, AND SEMICONDUCTOR DEVICE
ダミーパターンの配置方法、半導体設計装置及び半導体装置 - 特許庁 - The image forming apparatus for forming an image on the basis of image data attached with design pattern image data representing design patterns manifested by copying discriminates whether or not the image data are attached with the design pattern image data and limits image processing affecting the attached design pattern image data when it is discriminated that the design pattern image data are attached to the image data.
複写により顕像化される地紋を示す地紋画像データを付加した画像データに基づき画像を形成する画像形成装置で、地紋画像データが付加されるか否かを判定し、地紋画像データが付加されると判定された場合に、付加される地紋画像データに影響する画像処理を制限する。 - 特許庁 - METHOD FOR CORRECTING DESIGN PATTERN DATA FOR SEMICONDUCTOR CIRCUIT, PHOTOMASK USING THE CORRECTED DESIGN PATTERN DATA, METHOD OF INSPECTING THE PHOTOMASK, AND METHOD OF MANUFACTURING PATTERN DATA FOR PHOTOMASK INSPECTION
半導体回路の設計パタンデータ補正方法と、補正された設計パタンデータを用いたフォトマスク、該フォトマスクの検査方法およびフォトマスク検査用パタンデータ作製方法 - 特許庁 - The Composite View design pattern pertains to web application design when you are creating a view from numerous subviews.
複合ビューデザインパターンは、ビューを多数のサブビューから作成する際の Web アプリケーションのデザインに関係します。 - NetBeans - To provide a method for correcting a mask pattern for accurately transferring a circuit pattern based on circuit design data, and to provide a mask pattern correction device, a circuit design device and a program for correcting the mask pattern.
回路設計データに基づいた回路パターンを正確に転写するマスクパターンの補正方法、マスクパターンの補正装置、回路設計装置及びマスクパターンを補正するプログラムマスクパターンを提供する。 - 特許庁 - DESIGN METHOD AND DESIGN PROGRAM OF PRINTED WIRING BOARD, PATTERN CHECK APPARATUS, RECORDING MEDIUM WITH DESIGN PROGRAM RECORDED, AND PRINTED WIRING BOARD MANUFACTURED USING DESIGN METHOD
プリント配線板の設計方法、その設計プログラム、パターンチェック装置、その設計プログラムを記録した記録媒体及びその設計方法を用いて製造されたプリント配線板 - 特許庁 - PATTERN TEACHING SYSTEM, PATTERN IDENTIFICATION DEVICE USING THE SAME, COMPUTER PROGRAM, AND DIGITAL LOGIC CIRCUIT DESIGN METHOD FOR PATTERN IDENTIFICATION DEVICE
パターン教示システム、それを用いたパターン識別装置、コンピュータプログラム及びパターン識別装置のデジタル論理回路設計方法 - 特許庁 - A determination process of an application layer of the design pattern (S3301) determines that a watermark printing or an overlap printing is used for printing of the design pattern on the basis of an area in which the design pattern overlaps an original content of the original data.
地紋パターン適用レイヤー決定処理(Ｓ３３０１)は地紋パターンと原稿データにおける原稿内容とが重なる面積に基づき、地紋パターンの印刷を透かし印刷または重ね印刷に決定する。 - 特許庁 - Optimization calculation of design of a tread pattern is performed by an ECAT (Evolutional Clustering Algorithm for Topological optimization).
トレッドパターンの意匠を、ＥＣＡＴを用いて最適化計算する。 - 特許庁 - To design a layout for obtaining a desired pattern by simple processing.
簡単な処理で、希望するパターンを得るレイアウト設計を可能にする。 - 特許庁 - To widen a detectable zone while improving the degree of freedom of pattern design.
パターン設計の自由度を高めつつ検出可能帯域を拡げる。 - 特許庁 - To improve sensitivity of PES while improving the degree of freedom of pattern design.
パターン設計の自由度を高めつつＰＥＳの感度向上を図る。 - 特許庁 - To facilitate an optimum design of a gradation pattern of a light diffusion layer.
光拡散層のグラデーションパターンの最適設計を容易にすること。 - 特許庁 - MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE, DESIGN METHOD OF MASK PATTERN, AND PROGRAM
半導体装置の製造方法、マスクパターンの設計方法およびプログラム - 特許庁 - To make it easy to design the pattern layout forming a data signal transmission line.
データ信号の伝送路をなすパターンレイアウトの設計をやり易くする。 - 特許庁
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