「diffraction peak」を含む例文一覧(378)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 次へ＞- Such a magnesium-alloy sheet as has a highest proportion between the peak of the (111) face and its equivalent peak in the X-ray diffraction pattern is used.
Ｘ線回折パターンにおける（１１０）面のピーク及びこれと等価なピークの比率が最も高くなるようなマグネシウム合金薄板を用いる。 - 特許庁 - There is provided the crystal of a hydrate of 3-(2-cyanophenyl)-5-(2-pyridyl)-1-phenyl-1,2-dihydropyridin-2-one, which shows a diffraction peak at a diffraction angle (2θ±0.2°) of 8.7° in a powder X-ray diffraction.
粉末Ｘ線回折において、回折角度（２θ±０．２°）８．７°に回折ピークを有する、３−（２−シアノフェニル）−５−（２−ピリジル）−１−フェニル−１，２−ジヒドロピリジン−２−オンの水和物の結晶。 - 特許庁 - Of the plurality of illumination light sources, the diffraction efficiency of the diffraction peak wavelength corresponding to the illumination light source having a characteristic in which the power consumption is the smallest when current of the same value is made to flow is set lower than that of the other diffraction peak wavelength.
複数の照明光源のうち、同じ値の電流を流したときに消費電力が最も少ない特性を有する照明光源に対応した回折ピーク波長の回折効率は、他の回折ピーク波長の回折効率よりも低く設定されている。 - 特許庁 - The fiber-like porous silica particles has an X-ray diffraction peak at a diffraction angle of 0.5 to 5°(CuKα), the X-ray diffraction peak showing a regular arrangement structure of the pores, and has the maximum value of pore diameter distribution in the pore diameter range of ≥8 nm.
繊維状多孔質シリカ粒子であって、回折角０．５乃至５度（ＣｕＫα）に細孔の規則配列構造を示すＸ線回折ピークを有し且つ細孔径８ｎｍ以上に細孔径分布の極大を有する繊維状多孔質シリカ粒子とする。 - 特許庁 - This bioactive crystallized glass bead contains Ca and the ratio of the intensity (I2) of diffraction peak at d=2.94 Å spacing of wallastonite and/or diopside over the intensity (I1) of diffraction peak at d= 2.94 Å of apatite satisfies the equation: 0<I2/I1<3/4 in an X-ray diffraction.
Ｃａを含有し、Ｘ線回折においてウォラストナイト及び／又はディオプサイドの面間隔ｄ＝２．９４Åの回折ピーク強度（Ｉ_2）とアパタイトの面間隔ｄ＝２．８３Åの回折ピーク強度（Ｉ_1）の比が０＜Ｉ_2／Ｉ_1＜３／４の範囲となることを特徴とする。 - 特許庁 - The piezoelectric/electrostrictive body has a ratio between a diffraction peak intensity I_001 of the (001) face and a diffraction peak intensity I_100 of the (100) face of I_001/I_100≤1, in an X-ray diffraction pattern in the same plane after the polarization treatment.
また、本発明の圧電／電歪体は、分極処理後の、電界の印加方向と垂直な面におけるＸ線回折パターンにおいて、（００ｌ）面の回折ピーク強度Ｉ_００ｌと（ｌ００）面の回折ピーク強度Ｉ_ｌ００との比がＩ_００ｌ／Ｉ_ｌ００≦１である。 - 特許庁 - (2) An intensity ratio I_003/I_104 of diffraction peak intensity I_003 of (003) planes in the vicinity of 2θ=19° determined in the X-ray diffraction image and diffraction peak intensity of (104) planes in the vicinity of 2θ=44° is 1.0 to 1.5.
（２）前記Ｘ線回折像において測定される２θ＝１９゜付近の（００３）面回折ピーク強度Ｉ_００３と２θ＝４４°付近の（１０４）面回折ピーク強度Ｉ_１０４との強度比Ｉ_００３／Ｉ_１０４が、１．０より大きく１．５より小さいこと。 - 特許庁 - The hologram original plate is constituted by shifting the diffraction peak wavelength in a reverse direction by sticking film 9 provided with a material layer 8 to shift the diffraction peak wavelength in the reverse direction to volume hologram photosensitive material film 1 after hologram-recording so that the deterioration of the diffraction efficiency caused by the shifting of the diffraction peak wavelength due to the shrinkage or the like of the volume hologram photosensitive material film after hologram-recording is prevented.
体積ホログラム感光材料フィルムのホログラム記録後の収縮等による回折ピーク波長シフトによる回折効率低下を防止するために、ホログラム記録後の体積ホログラム感光材料フィルム１に回折ピーク波長を反対方向にシフトさせる材料層８を設けたフィルム９を貼り付けて、回折ピーク波長を反対方向へシフトさせてホログラム原版とする。 - 特許庁 - The lower electrode 15 is a metal thin film with a thickness of less than 2000 nm whose main component is tantalum and in which intensity ratio I_α/I_β between peak intensity I_β of (002) diffraction peak of tetragonal β phase and peak intensity I_α of (110) diffraction peak of cubic crystal α phase is at most 0.1.
下部電極１５は、タンタルを主成分とする厚さ２０００ｎｍ未満の金属薄膜であって、そのＸ線回折ピークにおいて、正方晶β相の（００２）回折ピークのピーク強度Ｉ_βと立方晶α相の（１１０）回折ピークのピーク強度Ｉ_αとの強度比Ｉ_α／Ｉ_βが０．１以下である。 - 特許庁 - The hologram optical element has a plurality of diffraction peak wavelengths corresponding to the wavelengths of the plurality of illumination light sources.
ホログラム光学素子は、複数の照明光源の波長に対応する複数の回折ピーク波長を持っている。 - 特許庁 - It is preferable that the molding has a sheet shape and the intensity ratio, I_(002)/I_(110) of intensity I_(110) of a diffraction peak at a (110) plane of carbon to intensity I_(002) of a diffraction peak at a (002) plane in an X-ray diffraction chart obtained by irradiating X-ray in the thickness direction of the sheet, is ≤10.
成形体がシート状をなし、その厚み方向にＸ線を照射して得られる黒鉛粉末のＸ線回折図における炭素の（１１０）面の回折ピークの強度Ｉ_(110)に対する（００２）面の回折ピークの強度Ｉ_(002)の比Ｉ_(002)／Ｉ_(110)が１０以下であることが望ましい。 - 特許庁 - The copper alloy containing 2.0 to 4.0mass% Ti is characterized in that other impurity elements are ≤0.01mass% in total and that the diffraction peak of a β phase (TiCu_3) observed on an X-ray diffraction pattern is <1/10 of the diffraction peak of (111) if largest.
Ｔｉを２．０〜４．０質量％含有する銅合金において、他の不純物元素が合計で０．０１質量％以下であり、Ｘ線回折パターン上に見られるβ相（ＴｉＣｕ_３）の回折ピークが最大のものでも（１１１）の回折ピークの１／１０未満であることを特徴とする銅合金。 - 特許庁 - (1) When a half-value width of a diffraction peak 'a' in which a diffraction angle 2θ in powder X-ray diffraction measurement using CuKα_1 rays exists around 22 to 27° is FWHMa, an FWHMa value is to be 0.6 or more.
（イ）ＣｕＫα_１線を使用した粉末Ｘ線回折測定における回折角２θが２２〜２７°付近に存在する回折ピークａの半価幅をＦＷＨＭａとした時に、ＦＷＨＭａ値が０．６以上である。 - 特許庁 - The carbon material is insoluble in an organic solvent and has the highest peak at diffraction angles of 10 to 18° in a range of diffraction angle of 3 to 30° in X-ray diffraction measurement results using the CuKα-line.
有機溶媒に不溶であり、かつ、ＣｕＫα線を使用したＸ線回折測定結果における回折角３〜３０°の範囲内で、最も強いピークが回折角１０〜１８°の範囲に存在する炭素材料。 - 特許庁 - The obtained silicon oxide becomes noncrystalline SiO_x (x<1) which does not show a diffraction peak derived from metal silicon and silicon dioxide in X-ray diffraction measurement.
得られた珪素酸化物は、Ｘ線回折測定において金属珪素および二酸化珪素に由来する回折ピークを示さない、非結晶質のＳｉＯ_x（ｘ＜１）となる。 - 特許庁 - A half- width ratio ΔD of a X-ray diffraction peak of Al in the dendrite region, is preferably 0.70 times or less of a half-width ratio ΔD_0 of a X-ray diffraction for a standard sample.
デンドライト領域のAlのＸ線回析ピーク半価幅率ΔＤが標準試料のＸ線回析ピーク半価幅率ΔＤ_0 の0.70倍以下であることが好ましい。 - 特許庁 - A fiber formed product has a crystallization peak in the vicinity of an angle (2θ) of diffraction of 6-10° as a result of analysis by X-ray diffraction method and the formed product is composed of a crystallized single-wall carbon nanotube.
Ｘ線回折法による解析結果、回折角２θ＝６〜１０°付近に結晶化ピークを有する、結晶化した単層カーボンナノチューブからなる繊維成型体。 - 特許庁 - An example of a graph of diffraction intensity by an X-ray diffraction method of the obtained ITO film (as shown), and a strong peak corresponding to the (400) plane of ITO is observed.
選択図には得られたＩＴＯ膜のＸ線回折法による回折強度のグラフの一例を示し、ＩＴＯの（４００）面に対応する強いピークが観測されている。 - 特許庁 - When the molding is measured in X-ray diffraction by using a 7.5 kW X ray, the compact having a peak in the angle of diffraction of 0.4-12.6° is excluded.
該成形体は、７．５ｋＷのＸ線を用いてＸ線回折を測定したときに、０．４〜１２．６°の範囲の回折角に対応するピークを備えるものを除く。 - 特許庁 - The SiC film is coated on the glassy carbon material by a chemical vapor deposition(CVD) method, the X-ray diffraction peak strength of the SiC crystal face (111) of the film is ≤10 kc.p.s, and the diffraction peak strength of the SiC crystal face (111) is ≥80% of the diffraction peak strength of the whole crystal faces (hkl).
ＣＶＤ法によりＳｉＣ膜を被覆したＳｉＣ膜被覆ガラス状炭素材において、Ｘ線回折によるＳｉＣ膜のＳｉＣ（１１１）結晶面の回折ピーク強度が１０ｋｃ．ｐ．ｓ以下であり、該ＳｉＣ（１１１）結晶面の回折ピーク強度が全結晶面（ｈｋｌ）の回折ピーク強度の８０％以上であることを特徴とする。 - 特許庁 - It is also desirable that the peak intensity P1 at an Si peak point appearing around 2θ=28° and the base intensity P2 at the peak point assumed by using the average gradient in the vicinity of the Si peak point satisfy (P1-P2)/P2≤0.2 in a graph obtained by X-ray diffraction.
また、Ｘ線回折により得られたグラフにおいて、２θ＝２８°付近に発生するＳｉピーク点におけるピーク強度Ｐ１と、ピーク点前後の平均勾配から想定したピーク点におけるベース強度Ｐ２が、（Ｐ１−Ｐ２）／Ｐ２≦０．２を満足することが望ましい。 - 特許庁 - The alkaline battery contains the positive electrode active material with a specified diffraction peak, as the positive electrode active material.
該アルカリ電池は、上記正極活物質として、上記特定の回折ピークを有する正極活物質を含有する。 - 特許庁 - (6) A shift amount to a logic value of a diffraction angle 2θ of the strongest beam peak of the half-Heusler compound is ±0.1 deg.
（６）ハーフホイスラー化合物は、最強線ピークの回折角２θの理論値に対するシフト量が±０．１ｄｅｇである。 - 特許庁 - In the diffraction optical element 1, the surface is provided with a diffraction optical face 10, and the cross-sectional shape of the diffraction optical face 10 is the brazed one, and the ridgeline 12 of the peak with a brazed shape is continuously formed spirally from the outer circumferential part of the diffraction optical face 10 toward the central part.
表面に回折光学面１０を有し、回折光学面１０の断面形状がブレーズド形状の回折光学素子１であって、ブレーズド形状の山の稜線１２が、らせん状に回折光学面１０の外周部から中心部に向かい連続して形成されている。 - 特許庁 - This catalyst for a fuel cell contains tungsten carbide for which a half-value width of the maximum diffraction peak in a region having a diffraction angle 2θ(±0.3°) of 40°-60° by an X-ray diffraction method (Cu-K_α ray) is not less than 0.80°.
Ｘ線回折法（Ｃｕ−Ｋ_α線）による回折角２θ（±０．３゜）が４０゜以上６０゜以下の領域における最大回折ピークの半値幅が、０．８０゜以上である炭化タングステンを含有する燃料電池用触媒。 - 特許庁 - Each crystal has crystallinity that shows the diffraction peak of X-rays at a position same as the diffraction point (200) of TiO or TiN with a face-centered cubic lattice structure.
この結晶は、後述するように、面心立方格子構造のＴｉＯもしくはＴｉＮの回折点（２００）と同じ位置にＸ線の回折ピークを示す結晶性を有するものである。 - 特許庁 - In the aluminum nitride powder, the intensity ratio I(002)/I(100) of diffraction peak of (002) plane to that of (100) plane in X-ray diffraction using a Cu-Kα ray is 0.2-0.5.
Cu−Kα線を用いたX線回折において（００２）面と（１００）面からの回折ピークの強度比Ｉ（００２）／Ｉ（１００）が０．２〜０．５であることを特徴とする窒化アルミニウム粉末。 - 特許庁 - Further, the above oxide has a half-value width at a diffraction peak appearing at 15°<2θ<20° and 30°<2θ<45° of 5°(2θ) or more in an X-ray diffraction method using CuKα beams.
また、ＣｕＫα線を用いたＸ線回折法で、１５°＜２θ＜２０°および３０°＜２θ＜４５°に現れる回折ピークの半値幅が５°（２θ）以上である上記酸化物を用いる。 - 特許庁 - When analyzed by X-ray diffraction measurement, this molybdenum exhibits, in at least part of the region corresponding to a sheet-thicknesswise depth of one fifth of the whole thickness from the surface, areas which each contain such a domain where the peak intensities of the (110) and (220) diffraction planes are each lower than the peak intensity of the (211) diffraction plane.
本発明のモリブデン材は、表面から板厚方向に向かって全厚の５分の１の深さに該当する領域において、Ｘ線回折測定した場合、結晶回折面（１１０）および（２２０）のそれぞれのピーク強度が、（２１１）のピーク強度未満となる領域が存在する部分を少なくとも一部に有する。 - 特許庁 - The spherical alumina powder is characterized in that the ratio of the δ-phase peak intensity detected at 2θ=45.6° to the θ-phase peak intensity detected at 2θ=44.8°, (δ-phase peak intensity/θ-phase peak intensity), is ≥1.0 in X-ray diffraction, the average sphericity is ≥0.90, and the average particle diameter is ≤100 μm.
Ｘ線回折において２θ＝４５．６°に検出されるδ相ピーク強度と２θ＝４４．８°に検出されるθ相ピーク強度の比、（δ相ピーク強度／θ相ピーク強度）が１．０以上である、平均球形度が０．９０以上、平均粒子径１００μｍ以下の球状アルミナ粉末。 - 特許庁 - In the measurement by XRD (X-Ray Diffraction spectroscopy), the relationship between the peak intensity P1 at the Si peak point occurring in a vicinity of 2θ=28°C and the base intensity P2 at the peak point imagined from the average intensity gradient before and behind the peak point is given by the inequality P1/P2≤3.
焼結プロセスでのＳｉの析出が抑制され、ＸＲＤによる測定において、２θ＝２８°付近に発生するＳｉピーク点におけるピーク強度Ｐ１と、ピーク点前後の平均強度勾配から想定したピーク点におけるベース強度Ｐ２との関係が、Ｐ１／Ｐ２≦３となる。 - 特許庁 - The carbon material is insoluble in organic solvents and has peak height ratio H(B)/H(A) of 0.2 to 0.9, wherein H(A) represents height of the most intensive peak at the diffraction angle 2θ of 12°-16° and H(B) represents height of peak at the diffraction angle 2θ of 22°.
有機溶媒に不溶であり、かつ、ＣｕＫα線を使用したＸ線回折測定結果における回折角２θが１２〜１６゜の間の最も強いピークの高さをＨ（Ａ）、回折角２θが２２°のピークの高さをＨ（Ｂ）としたときのピーク高さ比Ｈ（Ｂ）／Ｈ（Ａ）が０．２以上０．９以下にある炭素材料。 - 特許庁 - The conductive compound has a main peak similar to a main peak of AgNiO_2 (X=Y=1) in X-ray diffraction, and is formed of a crystal where peaks of Ag_2O and AgO do not appear.
この導電性化合物は、Ｘ線回折においてＡｇＮｉＯ_2（Ｘ＝Ｙ＝１）の主ピークと同じ主ピークを有し、Ａｇ_2ＯおよびＡｇＯのピークが現れない結晶からなる。 - 特許庁 - In the X-ray diffraction pattern of the NOx absorbent material a peak due to the (111) face of BaCO3 is present and the intensity ratio (IA/IF) of the intensity IA of the peak after long-term use to the initial intensity IF is 0.2-1.
そのＸ線回折パターンには、ＢａＣＯ_３の（１１１）面のピークが存在し、このピークの耐久後強度（Ｉ_Ａ）と初期強度（Ｉ_Ｆ）との強度比Ｉ_Ａ／Ｉ_Ｆが、０．２〜１である。 - 特許庁 - This is conductive paste containing silver powder, an organic binder and solvent, and peak width at half band width of the main peak in the X-ray diffraction measurements of the silver powder is 0.25 degree or less.
銀粉末と、有機バインダと、有機溶剤とを含有する導電性ペーストであって、前記銀粉末のＸ線回折測定におけるメインピークの半値幅が０．２５度以下である。 - 特許庁 - In the step of forming the ZnO film, the ZnO film having a (002) peak at least 5 times greater than the (100) peak, as measured by X-ray diffraction, is formed.
上記ＺｎＯ膜を形成する工程では、一般的に、Ｘ線回折により測定される（００２）ピークが（１００）ピークよりも５倍以上大きいＺｎＯ膜を形成させる。 - 特許庁 - The diffraction peak of X rays is searched, while making the sample (crystal) 10 mounted on a goniometer vibrate by a piezoelectric element 34.
ゴニオメータに搭載された試料（結晶）１０を、ピエゾ素子３４により振動させながらＸ線の回折ピークを探索する。 - 特許庁 - The oxide containing vanadium is an oxide containing vanadium that exhibits a main peak at 2θ=26.2°(±0.2°) in X-ray diffraction spectrum.
バナジウム含有酸化物は、Ｘ線回折スペクトルにおいて２θ＝２６．２°（±０．２°）にメインピークを示すバナジウム含有酸化物である。 - 特許庁 - In the cryptocrystalline magnesia, a powder X-ray diffraction spectrum at a wavelength of 1.5405Å has an apex of a peak at 2θ=42.8°±0.3°.
水酸化マグネシウム及び／又は炭酸マグネシウムを３００℃以上、１０００℃未満で加熱し、潜晶質マグネシアを製造する。 - 特許庁 - The diffraction grating type optical function element has a Bragg diffraction grating formed halfway in an optical path guiding a light signal along the optical path and uses the transmission peak or reflection peak by the diffraction of the grating, and the diffraction grating is formed by irradiating a high-refractive-index glass material layer on a plane substrate with ultraviolet rays and performing a heat treatment at 510 to 850°C for 10 minutes to 24 hours.
光信号を導波する光路の途中に、当該光路に沿ってブラッグ回折格子が形成され、その格子の回折による透過ピークあるいは反射ピークを利用する回折格子型光機能素子であって、平面基板上の高屈折率ガラス材料層に対する紫外線照射と、５１０〜８５０℃で１０分〜２４時間の熱処理により回折格子を形成する。 - 特許庁 - The substrate with an ink accepting layer has at least one peak in an X-ray diffraction pattern, and the diffraction angle (2θ) of at least one peak has a layer containing a micelle-containing inorganic oxide (C) represented by the formula, 2θ=2sin^-1(λ/2d).
Ｘ線回折パターンにおいて、少なくとも一つのピークを有し、かつそのうちの少なくとも一つのピークの回折角度（２θ）が（１）式で表されるミセル含有無機酸化物（Ｃ）を含んでなる層を有することを特徴とするインク受容層付基材である。 - 特許庁 - An Ni_3Sn_4 film, in which the thin film X-ray diffraction peak intensity ratio between SnO and Ni_3Sn_4, that is, SnO/Ni_3Sn_4 satisfies ≤0.046, is formed on the surface of a metal plate.
金属板の表面に、SnＯとNi_3Sn_4の薄膜Ｘ線回折ピーク強度比SnＯ／Ni_3Sn_4が0.046以下を満足するNi_3Sn_4系皮膜を形成する。 - 特許庁 - Further, the X-ray diffraction peak ratio between the ζ-phase and δ1 phase, (ζ/δ), is made to <0.2 or the area ratio of the ζ-phase in the surface layer is made to <10%.
また、ζ相とδ_1相のX線回折ピーク比率（ζ/δ）が0.2未満、あるいは表層のζ相面積率が10%未満である。 - 特許庁 - The peak wavelength λmax in a light grain distribution of the active layer is about 1530 nm, and the band gap wavelength of the diffraction grating is about 1510 nm.
活性層の光利得分布のピーク波長λ_maxは約１５３０ｎｍ、回折格子のバンドギャップ波長は約１５１０ｎｍである。 - 特許庁 - The fullerene whose half-width of peak of maximum intensity measured by X-ray diffraction is 0.20 ° or larger is reacted with the reactive gas.
Ｘ線回折測定における最大強度のピークの半値幅が０．２０°以上であるフラーレン類と反応性ガスとを反応させる。 - 特許庁 - The plate particles have a peak intensity ratio [003]/[104] of 1.6 or less in X-ray diffraction, and an aspect ratio of 2.1 to 20.
板状粒子においては、Ｘ線回折におけるピーク強度比［００３］／［１０４］が１．６以下であり、アスペクト比が２．１〜２０である。 - 特許庁 - Further, the half peak width obtained by the X-ray diffraction analysis of martensite of the rolling element 3 is ≤7.6° for all rolling elements.
また、転動体３のマルテンサイトのＸ線回折分析により得られたピークの半価幅は、全転動体ともに７．６°以下である。 - 特許庁 - The α-Mn_2O_3 has a new crystal structure in which peak intensity of lattice planes in X-ray diffraction satisfies (222)<(400).
Ｘ線回折における格子面のピーク強度が（２２２）＜（４００）である新規な結晶構造を有するα−Ｍｎ_２Ｏ_３を用いる。 - 特許庁 - The color filter has a colored layer, wherein the colored layer shows a diffraction peak of which the half-value width is ≥0.6° at a Bragg angle of 28±1° in an X-ray diffraction spectrum for a Cu-Kα ray.
着色層を有するカラーフィルタであって、該着色層が、Ｃｕ−Ｋα線に対するＸ線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角２８±１°に、半値幅が０．６°以上の回折ピークを示すカラーフィルタ。 - 特許庁 - The carrier for carrying a catalyst may contain 20 to 45% of a graphite-resembling structural component and 55 to 80% of an amorphous component in a peak near a diffraction angle of 26° in an X-ray diffraction graphic.
前記触媒担持用担体は、Ｘ線回折図形における回折角２６°付近のピークが、２０〜４５％の黒鉛類似構造成分と、５５〜８０％のアモルファス成分と、を含むこととしてもよい。 - 特許庁
- 特許庁
- Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
