「diffusion heating」を含む例文一覧(216)
＜前へ 1 2 3 4 5 次へ＞- For example, if a heating element such as a CPU, etc. is brought into contact with the center of the thermal diffusion sheet 1, the heat generated by the heating element is rapidly diffused to the periphery to radiate the heat, and overheat of the heating element is prevented well.
このため、例えば熱拡散シート１の中央にＣＰＵ等の発熱体を当接させると、その発熱体が発生した熱を周囲に迅速に拡散させて放熱することができ、その発熱体の過熱を良好に防止することができる。 - 特許庁 - By this setup, even when a heat diffusion plate 73 is stuck on a heating plate 74, a force is applied in a nearly horizontal direction to the peripheral part 39 of the heat diffusion plate 73, whereby the heat diffusion plate 73 can be moved obliquely upward.
これにより、加熱プレート７４に対して熱拡散板７３が吸着した場合であっても、熱拡散板７３の外周部３９から略水平方向に力を与えることにより、加熱プレート７４に対して熱拡散板７３が斜め上方向に移動させることができる。 - 特許庁 - At the heating of the wafer W, the distance of irradiation between the thermal diffusion plate 73 and the heating plate 74 holding the wafer W and the light source 5 are adjusted so that predetermined intensity for the irradiation is obtained.
このときの半導体ウェハーＷを保持する熱拡散板７３および加熱プレート７４と光源５との間の照射距離は予め定められた照射強度が得られるように調整される。 - 特許庁 - The temperature sensor and heater 8 has an adhesion layer 4, a diffusion prevention layer 5, an electric heating layer 6 and a diffusion prevention and adhesion layer 7 from the lowest layer, and the temperature sensor and heater 8 is covered with an interlayer insulation film 9.
温度センサ兼ヒータ８は、下層から順に密着層４、拡散防止層５、電熱層６及び拡散防止兼密着層７を有し、温度センサ兼ヒータ８が層間絶縁膜９によって被覆されている。 - 特許庁 - The limiting current type oxygen sensor 10 is equipped with: an ion conductor 11; electrodes 12a and 12b; a gas diffusion mechanism 16 for supplying a gas limited in its diffusion rate; and a heater 17 for heating the ion conductor 11.
限界電流式酸素センサ１０は、イオン導電体１１と、電極１２ａ，１２ｂと、拡散律速されたガスを供給するガス拡散機構１６と、イオン伝導体１１を加熱するヒータ１７とを備える。 - 特許庁 - To provide a heater for realizing highly efficient radiation heating without blowing out hot air and to prevent temperature of a high-temperature gas diffusion prevention body from increasing.
温風を吹出さない高効率の輻射暖房と高温ガス拡散防止体の温度上昇防止を実現する暖房機の提供。 - 特許庁 - Thereafter, heating is executed at a temperature allowing diffusion of the metal into tin and the columnar bodies 3' are each changed into an alloy of tin and the metal.
然る後、前記金属がスズ中に拡散可能な温度下に加熱を行い、柱状体３’をスズと該金属との合金に変化させる。 - 特許庁 - The film in which Ni and Ti are coexistent is subjected to melting or solid phase diffusion by heating, thus the Ti-Ni alloy film can be obtained.
このＮｉとＴｉが共存した皮膜を加熱によって溶融若しくは固相拡散せしめることで、Ｔｉ-Ｎｉ合金膜が得られる。 - 特許庁 - The quartz glass forming the light diffusion plate 53 shuts off near infrared light thermally radiated from a wafer W in heating using a flash.
光拡散板５３を形成する石英ガラスは、閃光による加熱時に基板Ｗから熱放射される近赤外領域の光を遮断する。 - 特許庁 - A heating body plate 30 of the thermal print head includes: an insulation substrate, a circuit pattern 40, an insulation layer 52, a heat diffusion section 50 and a protection layer 54.
サーマルプリントヘッドの発熱体板３０は、絶縁基板、配線パターン４０、絶縁層５２、熱拡散部５０、および、保護層５４を備えている。 - 特許庁 - To provide a reaction treatment device which can highly precisely control temperature, even when heat diffusion is generated from an adjacent heating part.
隣接する加熱部からの熱拡散が生じた場合であっても温度制御を高精度で行うことができる反応処理装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a technique that has high drying efficiency and prevents the diffusion of malodor caused by heating as a means for drying waste containing moisture.
水分を含んだ廃棄物を乾燥させる手段で、乾燥の効率が高く、加熱による悪臭拡散を防止できる手法を提供する。 - 特許庁 - To improve the heating effect by preventing diffusion of the heat from a heat source to the outside of a kotatsu as much as possible and reflecting the heat to the inside of the kotatsu.
熱源からの熱を炬燵外部へ放散させるのを極力防止すると共に、炬燵内部に反射させて暖房効果の向上を図ること。 - 特許庁 - Data retention can be stabilized after write because diffusion loss of a conductive path due to self heating (Joule heat) of the variable resistance 2 element can be prevented.
可変抵抗素子２の自己発熱（ジュール熱）による導電経路の拡散消失が回避されうるため、書込み後のデータの保持動作が安定化する。 - 特許庁 - The air is diffused in the diffusion passage 102, and ejected toward a substrate 9 from a plurality of ejection openings 101 formed on the upper surface of the heating plate 10.
エアは、拡散流路１０２にて拡散され、加熱プレート１０上面に設けられた複数の噴出口１０１から基板９に向けて噴出される。 - 特許庁 - The food heating plates 3 are obtained by subjecting the surface of a nickel material containing ≥95% nickel to diffusion treatment of Al.
食品加熱プレート３は，重量比にして，ニッケルを９５％以上含有するニッケル材料の表面に，Ａｌ元素の拡散処理を行ったものよりなる。 - 特許庁 - To provide: a light diffusion plate having sufficient strength and heat resistance to sufficiently prevent the heat deformation even under a sever heating condition; a surface light source device using the diffusion plate; and a liquid crystal display device.
十分な強度と優れた耐熱性を備えていて厳しい熱条件下においても熱変形を十分に防止できる光拡散板と、前記拡散板を用いた面光源装置、及び液晶表示装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a continuous diffusion processing apparatus that can prevent a heating furnace from increasing in size due to a factor irrelevant to the size of a processing target even by using a construction which can continuously perform diffusion processing on the processing target.
被処理物の拡散処理を連続的に行うことができる構成でありながら、被処理物の大きさとは関係のない要因によって、加熱炉が大型化するのを防ぐことが可能となる連続拡散処理装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a hot plate which prevents the diffusing and splashing of the oil smoke produced during cooking using heat in food preparation of the food prepared by heating and also prevents the diffusion of the smells of the oil smoke produced from the food prepared by heating.
加熱調理物の加熱調理中に発生する油煙の拡散や飛散を防止しするとともに、この加熱調理物から発生する油煙の臭いの拡散についても防止するホットプレートを提供する。 - 特許庁 - A program for calculating an area thermal diffusion time of the heating surface and the back is composed, and by calling it recursively, calculation of the area thermal diffusion time of the heating surface and the back of the multilayered material having an optional number of layers becomes possible, to thereby improve a development efficiency of a multilayered material thermophysical analysis program.
加熱表面裏面の面積熱拡散時間を計算するプログラムを作成し、それを再帰的に呼び出すことで任意の層の数の多層材料の加熱表面裏面の面積熱拡散時間の計算が可能となり、多層材料熱物性解析プログラムの開発効率を向上させる。 - 特許庁 - To obtain a thick film type thermal head which has a diameter of bores reduced, is improved in a thermal responsiveness and characteristics of bores, and can be low-cost by setting a heating part of a heating resistor associated with the power supply to an electrode to the side of a front face and suppressing thermal diffusion before heating bores of a master.
電極への通電に伴う発熱抵抗体の発熱部分を表面側とし、マスターの穿孔加熱までの熱拡散を抑制し、穿孔径を小さくすると共に熱応答性を向上して穿孔特性を改善した、低コスト化が可能な厚膜式サーマルヘッドを得る。 - 特許庁 - A heating/cooling system equipped with the heating medium diffusion member 10 in which the directional changing member 12 is arranged contacting a partitioning surface of the room to be heated or cooled, allows the heating medium to diffuse along the partitioning surface so that the heat can be conducted efficiently to the partitioning surface of the room.
また、熱媒体拡散部材１０を備え、変換部材１２が冷暖房室の区画面に接触するように配置されている冷暖房システムは、区画面に沿って熱媒体が拡散していって効率よく冷暖房室の区画面に熱を伝達することができる。 - 特許庁 - To provide a method and an apparatus for induction-heating with which in the method and the apparatus for induction-heating of a billet for forging by heating a columnar billet 13, especially the columnar billet 13 having large weight and diameter, a scratch generated in a billet conveying way in the induction-heating apparatus 1 is restrained and diffusion-joining of both billets 13 is restrained.
円柱状ビレット１３、特に重量及び直径の大きい円柱状ビレット１３を加熱する鍛造用ビレット誘導加熱方法及び装置において、誘導加熱装置１内のビレット搬送路に発生する摺動傷を抑制し、ビレット１３同士の拡散接合を抑制する誘導加熱方法及び装置を提供することを目的とする。 - 特許庁 - The semiconductor substrate 11 is mounted in a diffusion furnace 14, polymerization reaction is made to progress by heating at 450°C for sixty minutes while N2 gas is made to flow into the diffusion furnace 14, and the organic SOG film 12 is cured, as shown in a figure (d).
次いで、図１（ｄ）に示すように、拡散炉１４内に半導体基板１１を載置し、拡散炉１４の中にＮ_2 ガスを流し込みながら、４５０℃６０分間加熱することにより、重合反応を進行させ、有機ＳＯＧ膜１２を硬化させる。 - 特許庁 - In the high silicon steel sheet obtained by subjecting a steel sheet containing ≤4 wt% Si to heating treatment, siliconizing treatment, diffusion soaking treatment and cooling treatment in succession, the average concentration of C in the steel sheet after the diffusion soaking treatment is ≤90 ppm.
Si：4wt％以下を含む鋼板に、加熱処理、浸珪処理、拡散均熱処理及び冷却処理を順次施すことにより得られる高けい素鋼板において、前記拡散均熱処理後の鋼板平均C濃度が90ppm以下である高けい素鋼板。 - 特許庁 - Furthermore, the heating temperature is preferably lower than the eutectic temperature of the magnesium alloy and the powder metal, in order to efficiently accelerate the solid diffusion, and sulfur hexafluoride gas is preferably used for the atmospheric gas in heating.
さらに、固体拡散を効率的に促進するために、加熱温度はマグネシウム合金と粉末金属との共晶温度未満の温度であることが好ましく、加熱時の雰囲気ガスは、六弗化硫黄ガスを使用することが望ましい。 - 特許庁 - Then, the temperature inside the furnace which is preferably under 800-900°C is raised to 850°C, and the silicon substrate, where a gate insulating film is made is taken out of the heating diffusion furnace (period T4).
その後、８００〜９００℃が望ましい炉内温度を８５０℃に上げて、ゲート絶縁膜が形成されたシリコン基板を加熱拡散炉から取り出す（期間Ｔ４）。 - 特許庁 - A hot water conduit for heating is fixed to the upper surface of the floor which is provided with a reflective insulation material, and a thermal diffusion plate is provided so as to uniformly diffuse heat to the entire floor.
反射断熱材を設けた床の上面に暖房用の温水導管を固定し、熱が床全体に均等に拡散するように熱拡散板を設けて成る。 - 特許庁 - Since diffusion caused by a single heating stage is reduced and the internal stress to be generated is small, the stress is easily relaxed by slow cooling, and high residual stress does not remain.
一度の加熱工程で生ずる拡散が少なく発生する内部応力が小さいので、徐冷により容易に応力緩和され大きな残留応力が残らない。 - 特許庁 - A porous gas diffusion body and an electrode-electrolyte film junction (MEA) are superimposed on each other and integrated with each other by heating and pressing them by a press device to use the integrated body as a layered product.
多孔質のガス拡散体と電極−電解質膜接合体（ＭＥＡ）とを重ねて、プレス装置で加熱加圧することにより一体化して、積層体として使用する。 - 特許庁 - The heat affected zones 1A and 2A are re-heated with an induction heating coil 5a to raise the temperature to the tempering temperature (the heat treatment temperature) lower than the liquid phase diffusion welding temperature.
そこで、この熱影響部１Ａ，２Ａを誘導加熱コイル５ａにより再加熱して、液相拡散接合温度よりも低い焼戻し温度（熱処理温度）に昇温する。 - 特許庁 - Heating by near field light 7a, since recording is carried out simultaneously or just after it, allows the effect of thermal diffusion to be ignored and the utilization efficiency of a laser beam to be enhanced.
近接場光７ａによって過熱されると同時ないし直後に記録されるため、熱拡散の影響は無視でき、レーザ光の利用効率を高めることができる。 - 特許庁 - The gas carburization treatment device performing carburization and diffusion treatment of the workpiece made of metal includes an inductive heating device 12 and a mass flow controller 13 as a gas control part.
金属製のワークに浸炭処理および拡散処理を施すガス浸炭処理装置に、誘導加熱装置１２と、ガス制御部としてのマスフローコントローラ１３とを設ける。 - 特許庁 - To provide a light diffusion plate having sufficient strength and heat resistance and small in the linear expansion coefficient and anisotropy to prevent the deformation even under a sever heating condition.
十分な強度と耐熱性を備え、厳しい熱条件下においても線膨張率及びその異方性が小さくて熱変形を防止できる光拡散板を提供する。 - 特許庁 - The surface of a diffusion layer of at least a source region is formed of a metal silicide layer in a metal oxide field effect transistor actuating the heating element.
本発明は、発熱素子を駆動する金属酸化物電界効果型トランジスタの少なくともソース領域の拡散層表面を金属シリサイド層により形成する。 - 特許庁 - Thus, since recording is carried out simultaneously with or immediately after heating by the near field light, the effect of heat diffusion is ignored, and laser beam utilization efficiency is increased.
そのため、近接場光によって加熱されると同時又は直後に記録されるため、熱拡散の影響は無視でき、レーザ光の利用効率を高めることができる。 - 特許庁 - Residual methane gas is diffused under conditions of heating and drying in the dry chamber and dry air is blown in to promote diffusion of methane gas to a conductive body side.
そして、乾燥室内で加温乾燥している状態で残留メタンガスを拡散するようにし、乾燥空気を吹き込んでメタンガスの導体側への拡散を促進している。 - 特許庁 - Once the temperature reaches the equilibrium temperature, further heating is carried out, the temperature is raised to the temperature needed for the high-rate diffusion, and the transmission band is inspected.
一度平衡温度が達成されると更なる加熱が行われ、温度は高レートの拡散を生み出すために必要な温度まで上げられ、伝送帯域が検査される。 - 特許庁 - After the brazing heating, a Si non-diffusion part with the Si concentration being below 0.10 mass % and the thickness being ≥ 10 μm remains in the core 2.
そして、ろう付け加熱後において、心材２中にＳｉ濃度が０．１０質量％未満であり厚さが１０μｍ以上であるＳｉ無拡散部を残留させる。 - 特許庁 - In the device for moving dispersion liquid, an image projection screen 18 has: light diffusion particles which diffuse the projection light for projecting an image; a dispersion medium in which the light diffusion particles are dispersed; a dispersion liquid enclosing member 1 enclosing the dispersion medium in shape defined as a circular ring in topology; and a heating means 13 heating the dispersion liquid by heating a part of the dispersion liquid enclosing member 1.
この発明に係る映像投射用スクリーンは、映像を投射する投射光を光拡散する光拡散粒子と前記光拡散粒子を分散させる分散媒と前記分散媒を位相幾何学の円環で定義される形状で封入する分散液封入部材１と前記分散液封入部材１の一部を加熱し前記分散液を加熱する加熱手段１３とを有する。 - 特許庁 - The steam generating apparatus is characterized by having the heat exchanger disposed in a housing, a diffusion pipe which is disposed in the neighborhood of the heat exchanger in the housing and generates the steam by diffusing hot water in the heat exchanger heated by a heating means, and a control means for changing the diffusion regions of hot water to the heat exchanger from the diffusion pipe.
筐体内に配置された熱交換器と、該熱交換器の近傍の筐体内に配置され加熱手段で加熱された状態の熱交換器に湯水を拡散することにより蒸気を発生させる拡散パイプと、該拡散パイプから熱交換器への湯水の拡散領域を変化させる制御手段と、を備えたことを特徴とする。 - 特許庁 - The diffusion furnace includes a cylindrical heat-insulating cylinder 21 and heating wire 22 that is spirally arranged on the inner circumferential surface of the heat-insulating cylinder 21, and the heating wire 22 is fixed at a movable type separator 23B that can be moved in the direction of outside diameter of the heat-insulating cylinder 21.
拡散炉は、円筒状の断熱筒２１と、断熱筒２１の内周面に螺旋状に配置される電熱線２２とを備え、断熱筒２１の径外方向に移動可能な移動式セパレーター２３Ｂに電熱線２２を固定する。 - 特許庁 - At the implantation depth heating step S12, after the surface heating step S10, at least the semiconductor substrate 12 at the depth 50 is heated until reaching a temperature of the hydrogen ion outward-diffusion temperature or higher within a hydrogen ion activation-temperature range.
注入深さ加熱工程Ｓ１２は、表面加熱工程Ｓ１０後に、少なくとも前記深さ５０の半導体基板１２を、水素イオン活性化温度域内にあって水素イオン外方拡散温度以上の温度に到達するまで加熱する。 - 特許庁 - In the manufacturing method, p-type high resistance wafer obtained through CZ method is employed to effect heating treatment for the purpose of oxygen outward diffusion of 1-5 hours at 1,100-1,250°C in a tuning atmosphere.
製造方法はＣＺ法によるｐ型の高抵抗ウェーハを用い、調整雰囲気中にて１１００〜１２５０℃で１〜５時間の酸素外方拡散を目的とした加熱処理をおこなう。 - 特許庁 - The solution tank 11 is used for heating the GaN base semiconductor wafer 4, the solution tank 12 is used for impurity diffusion, and the solution tank 13 is used for cooling the GaN base semiconductor wafer 4.
ここで、溶液槽１１はＧａＮ系半導体ウエハ４の加熱用、溶液槽１２は不純物拡散用、溶液槽１３はＧａＮ系半導体ウエハ４の冷却用である。 - 特許庁 - The thermal diffusion member 11 includes: a graphite sheet 12 provided on the heating element; a protective layer 13 covering the graphite sheet 12; and a connector 14 provided on the graphite sheet 12.
熱拡散部材１１は、発熱体上に設けられるグラファイトシート１２と、グラファイトシート１２を覆う保護層１３と、グラファイトシート１２上に設けられるコネクタ１４とを備えている。 - 特許庁 - Vaporization of the reducing agent is accelerated by heating the mixture, so that the supply distribution of the reducing agent for the NOx reduction catalyst is uniformized and diffusion is improved.
また、混合気が加熱されることで、還元剤の気化が促進されるので、ＮＯｘ還元触媒に対する還元剤の供給分布が均一化され、拡散性が向上される。 - 特許庁 - Footrest heaters 34 and 35 for heating the footrests 30 and 32 are provided on the bottom board 2, and a heat diffusion plate 64 is disposed between the footrests 30 and 32 and the footrest heaters 34 and 35.
また、足載せ台３０，３２を加熱する足載せ台ヒータ３４，３５を底板２上に設け、足載せ台３０，３２と足載せ台ヒータ３４，３５との間に熱拡散板６４を配置した。 - 特許庁 - To provide an air conditioner vertically swinging a blow-off direction while suppressing diffusion of blow-off air flow in swinging movements of a horizontal flap during cooling operation or heating operation.
冷房運転中や暖房運転中の水平フラップのスイング動作において、吹出空気流の拡散を抑制しつつ吹出方向を上下にスイングできる空気調和機を提供する。 - 特許庁 - To prevent early degradation and diffusion of the oxygen in a core part so as to restrict oxidization by including a ceramic resistance heating part including the sintered mixture of silicon carbide grains, dopant grains and mineral grains.
高温の酸化性雰囲気中で使用しても酸素は容易には拡散することができず、かくして酸化による早期老化が防止できる電気抵抗発熱体を提供する。 - 特許庁
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