「form pattern」を含む例文一覧(4548)
＜前へ 1 2 .... 34 35 36 37 38 39 40 41 42 .... 90 91 次へ＞- Moreover, in the embodiment adopting the cross sections of the form of the trigonometric functions, a pattern in which only the height is changed while keeping the width of the projections and recesses constant, a pattern in which the width and height is varied while keeping the product of the width and height constant, or a pattern in which the combinations of the width and height are variously changed may be used.
その他、三角関数形状では、凹凸の幅を一定にして高さのみを種々変化させる態様、幅及び高さの積を一定にして幅及び高さを種々変化させる態様、または幅及び高さの組み合わせを種々変化させる態様を採用してもよい。 - 特許庁 - In the process to form a pole part of a recording head, a dummy pattern is formed by using the material such as photoresist so that the end of the pattern is positioned at the position for forming the pole part, and a soft magnetic material becoming the pole is formed to the film on the side surface of this dummy pattern by using a method such as a gradient sputtering.
記録ヘッドのポール部分を形成する工程において、ポール部分を形成する位置にパターンの端が位置するようにフォトレジストなどの材料を用いてダミーパターンを形成し、このダミーパターンの側面に傾斜スパッタリングなどの手法を用いてポールとなる軟磁性材料を成膜する。 - 特許庁 - The resist film 102 subjected to the pattern exposure is developed to form a first resist pattern 102b, and subsequently, a water-soluble film 105 containing a crosslinking agent to crosslink with the structural material of the resist is formed over the entire surface including the first resist pattern 102 on the substrate 101.
パターン露光を行なったレジスト膜１０２を現像して第１レジストパターン１０２ｂを形成し、続いて、基板１０１の上に第１レジストパターン１０２ｂを含む全面にわたって、レジストの構成材と架橋する架橋剤を含む水溶性膜１０５を形成する。 - 特許庁 - An arbitrary pattern which is formed on a wafer and for constituting the thin-film magnetic head is lightened, reflected light from the pattern is imaged to form an image, which is photoelectrically converted into an image signal, so that feature quantities of the pattern are obtained from the image signal.
ウェハ上に形成された、薄膜磁気ヘッドを構成するための任意のパターンを照明し、該パターンからの反射光を結像して画像を形成して、該画像を光電変換して画像信号に変換し、該画像信号から上記パターンの特徴量を求めるものである。 - 特許庁 - The step of correcting the defect portion includes forming a resist film on the photomask again, performing prescribed pattern drawing on a prescribed region including the defect portion, developing it to form a correction resist pattern, and removing the residual substance at the defect portion by performing etching using the resist pattern as a mask.
欠陥部分を修正する工程は、フォトマスク上に再度レジスト膜を形成し、欠陥部分を含む所定領域に所定のパターン描画を行い、現像して修正用レジストパターンを形成し、該レジストパターンをマスクとしてエッチングを施して欠陥部分の余剰物を除去する。 - 特許庁 - The second layer 103 is a layer in which a scoop-shaped conductor pattern along the width center of conductor patterns in the first layer 102 and the third layer 104 and an L-shaped conductor pattern 111 used to form a loop 117 so as to face the bent part of the J-shaped conductor pattern 106 are arranged.
第２層１０３は、第１層１０２及び第３層１０４の導体パターンの幅中心に沿って柄杓型導体パターンと、Ｊ字状導体パターン１０６の屈曲部と向かい合ってループ１１７を形成するようなＬ字状導体パターン１１１とを配した層である。 - 特許庁 - Further, the speed control means controls the moving speed of the reading-out means by switching over the speed pattern for outputting a target speed signal according to the drive signal to the drive means form a certain speed pattern to another speed pattern in accessing the desired track on the recording medium.
さらに、速度制御手段は、記録媒体上の所望のトラックへのアクセス時に、駆動手段への駆動信号に応じて、目標速度信号として出力するための速度パターンを、ある速度パターンから他の速度パターンに切り換えて、読出手段の移動速度を制御するようにした。 - 特許庁 - Inks 300 and 301 are sprayed on and applied to the respective design projecting surfaces 21 of a cementitious treated panel 2 by ink jet coating to form an ink pattern layer 201 and the inks 300 and 301 in the ink pattern layer 201 are partially flocculated to generate a spotted pattern 213.
インクジェット塗装により，セメント系処理板２の各意匠用凸面２１に噴霧塗装したインク３００，３０１によりインク模様層２０１を形成し，インク模様層２０１におけるインク３００，３０１を部分的に凝集させてマダラ模様２１３を発生させる。 - 特許庁 - The method for manufacturing the color filter consists in (1) forming the pattern with a nearly rectangular planar shape and a nearly rectangular sectional shape or the pattern with a circular planar shape and a nearly rectangular sectional shape formed by using the photoresist an (2) grinding the pattern so as to form the protrusion with the circular arc shaped sectional shape.
１）フォトレジストを用いて平面形状及び断面形状が略矩形状のパターン、或いは平面形状が円形状で断面形状が略矩形状のパターンを形成し、２）該パターンを研磨して、その断面形状を円弧状の突起に形成しすること。 - 特許庁 - After exposure treatment for a resist film via a mask on which a pattern is formed, a form in the vertical direction of a photoresist pattern formed by developing treatment is detected as a signal waveform and quality judgement of the photoresist pattern is made by a correlation ratio between the signal waveform and a quadratic function.
パターンの形成されたマスクを通してレジスト膜を露光処理した後、現像処理を行うことにより形成されたフォトレジストパターンの垂直方向の形状を信号波形として検出し、この信号波形と２次関数との相関率からフォトレジストパターンの良否の判定を行う。 - 特許庁 - To provide an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition useful to form a fine pattern in semiconductor manufacturing and remarkably reducing pattern collapse, development defects, liquid immersion defects (residual water defects, bubble defects) and scum, and a pattern forming method using the same.
半導体製造における微細なパターン形成に有用な、パターン倒れ、現像欠陥、液浸欠陥（水残り欠陥、バブル欠陥）、スカムを著しく低減できる感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - A first dummy pattern DP_1 of relatively large area and a second dummy pattern DP_2 of relatively small area are arranged in a dummy area FA, to form the dummy pattern up to the vicinity of the boundary BL between a device forming area DA and the dummy area FA.
相対的に面積の大きい第１ダミーパターンＤＰ_１と相対的に面積の小さい第２ダミーパターンＤＰ_２とをダミー領域ＦＡに配置することによって、素子形成領域ＤＡとダミー領域ＦＡとの境界ＢＬ近くまでダミーパターンを配置することができる。 - 特許庁 - The forming method is as follows: the print pattern of the conductive paste is formed on the print object by the intaglio offset printing method using the transfered body whose surface is formed of a silicone rubber, and the print pattern is baked at temperature ≥500°C to form a conductive pattern.
形成方法は、表面をシリコーンゴムにて形成した転写体を用いて、凹版オフセット印刷法により、被印刷物上に、上記導電性ペーストからなる印刷パターンを形成したのち、この印刷パターンを５００℃以上で焼成して導電性パターンを形成する。 - 特許庁 - A first pattern calculating part 6 forms an array antenna pattern constituted of all antennas, and second and third pattern calculating parts 7 and 8 form in-group array antenna patterns constituted of antennas respectively for the group of antennas 10a-40a and the group of antennas 50a-80a by using different frequencies.
第１パターン算出部６は、全てのアンテナによるアレーアンテナパターンを形成し、第２、第３パターン算出部７、８はそれぞれアンテナ１０ａ〜４０ａのグループ、アンテナ５０ａ〜８０ａのグループに対して異なる周波数を用いて、グループ内のアンテナによるアレーアンテナパターンを形成する。 - 特許庁 - A solution liquid in which a fluorine-containing polymer (A) substantially having no reactive functional group (x) is solved in a solvent is applied on the pattern of a mold 4 having the reverse pattern of the fine pattern, and the solvent is removed at a temperatures below 80°C to form a fluorine-containing polymer layer 1 on the surface of the mold 4.
微細パターンの反転パターンを有するモールド４の該パターン上に、反応性官能基（ｘ）を実質的に有さない含フッ素重合体（Ａ）を溶媒に溶解させた溶液を塗布し、８０℃未満で溶媒を除去して、モールド４の表面に含フッ素重合体層１を形成する。 - 特許庁 - To improve a savor of a game by preventing the fact that a specified display result is to be derived and displayed at one special pattern display device from becoming predictable by the display form of the other special pattern display device in a game machine provided with the plurality of special pattern display devices.
複数の特別図柄表示器を備えた遊技機において、一方の特別図柄表示器にて特定表示結果が導出表示されることが、他方の特別図柄表示器の表示態様によって予測可能となってしまうことを防止し、遊技の興趣を向上させる。 - 特許庁 - The manufacturing method comprises applying a photosensitive resist 4 on one side of a substrate 1, carrying out laser lithography to the photosensitive resist 4, developing the drawn image to form a mask pattern 5 having a desired opening pattern 5a, and etching the substrate 1 through the mask pattern 5 to a desired depth to obtain a mold 11.
基板１の一方の面に感光性レジスト４を塗布し、この感光性レジス４トにレーザ描画を行い、その後、現像を施して、所望の開口パターン５ａを有するマスクパターン５を形成し、このマスクパターン５を介して基板１を所望の深さまでエッチングしてモールド１１とする。 - 特許庁 - To provide a projector type headlight for a vehicle structured so as to form a low-beam light distribution pattern, with a structure of shade standardized, and capable of forming a light distribution pattern for OHS (Overhead Sign) irradiation without generating large light distribution unevenness on the low-beam light distribution pattern.
ロービーム用配光パターンを形成するように構成されたプロジェクタ型の車両用前照灯において、シェードの構成を標準化した上で、ロービーム用配光パターンに大きな配光ムラを発生させてしまうことなく、ＯＨＳ照射用配光パターンを形成可能とする。 - 特許庁 - To provide a pattern forming method excellent in line width variation (LWR), focus latitude (DOF) and pattern profile to more stably form a high-precision fine pattern for producing a highly integrated high-precision electronic device, and to provide a resist composition and a resist film suitable for the method.
高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、線幅バラツキ（ＬＷＲ）、フォーカス余裕度（ＤＯＦ）及びパターン形状に優れるパターン形成方法、並びにこれに好適なレジスト組成物及びレジスト膜を提供する。 - 特許庁 - To obtain a colored photosensitive composition which is used to form a green colored pattern in a color filter, has excellent curability and a large development latitude in the formation, reduces pattern defects in development, and forms a green colored pattern having excellent chemical resistance.
カラーフィルタにおける緑色着色パターンの形成に用いられ、その形成の際に、硬化性に優れ、現像ラチチュードが大きく、更には、現像時のパターン欠けが抑制され、且つ、耐薬品性に優れた緑色着色パターンを形成しうる着色感光性組成物を得ること。 - 特許庁 - To form a finger wiring pattern 73a in a thick film (high in aspect ratio) and to prevent enlargement 3 or reduction 4 at the time of starting from generating on the main surface of a substrate 9, when the finger wiring pattern 73a crossing a buss wiring pattern 71a is formed on the main surface of the substrate 9.
バス配線パターン７１ａに対して交差するフィンガー配線パターン７３ａを基板９の主面に形成する際に、フィンガー配線パターン７３ａを厚膜（高アスペクト比）に形成するとともに、基板９の主面に開始太り３および開始細り４が発生することを防止する。 - 特許庁 - In this etching process, for the first region, the insulating layer 30 is etched to form a through hole 34 for electrical connection with the metal pattern 18, and for the second region, the insulating layer 30 and the semiconductor pattern 16 are etched to remove the second portion 28 of the semiconductor pattern 16.
エッチング工程で、第１領域では絶縁層３０をエッチングして金属パターン１８との電気的接続のための貫通穴３４を形成し、第２領域では絶縁層３０及び半導体パターン１６をエッチングして、半導体パターン１６の第２部分２８を除去する。 - 特許庁 - When a second big win lottery is performed, a lighting pattern in the reversed form of the lighting pattern prepared beforehand is formed, and respective lamps 221-228 of a second special symbol display part 112b are lighted according to the formed lighting pattern to show the lottery result of the second big win lottery.
一方、第２大当たり抽選をおこなうと、あらかじめ用意された点灯パターンを反転させた点灯パターンを生成して、生成された点灯パターンにしたがって第２特別図柄表示部１１２ｂの各ランプ２２１〜２２８を点灯させ、第２大当たり抽選の抽選結果を示す。 - 特許庁 - In some embodiments, a converged gallium ion beam not containing a deposition precursor gas is scanned on a silicon substrate with a pattern to form a conductive pattern, and copper structure is formed on the conductive pattern by electrochemical deposition with one or more kinds of metals.
いくつかの実施形態では、付着前駆体ガスを含まない集束ガリウム・イオン・ビームが、シリコン基板上をあるパターンで走査して、導電パターンを生成し、次いでこの導電パターン上に、１種または数種の金属の電気化学付着によって銅構造が形成される。 - 特許庁 - To provide a patterning method in which a first drawing pattern and a second drawing pattern are aligned with high accuracy when patterns are drawn as overlapped to form a pattern by using a plurality of patterning steps by use of a photolithographic process on the same substrate.
同一基板上にフォトリソグラフィー法を用いた複数のパターニング工程を用いてパターンを形成するために重ね合わせ描画する場合、１回目の描画パターンと２回目の描画パターンとが高い精度で位置合わせされて形成されるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a resist composition which suppresses occurrence of shape anomaly and can form a fine and high-definition resist pattern with good dimensional accuracy, and to provide a resist pattern forming method by which a fine and high-definition resist pattern can be efficiently formed with good dimensional accuracy, and a method for manufacturing a semiconductor device.
形状異常の発生を抑制し微細かつ高精細なレジストパターンを寸法精度よく形成可能なレジスト組成物、微細かつ高精細なレジストパターンを効率的かつ寸法精度よく形成可能なレジストパターンの形成方法、及び半導体装置の製造方法の提供。 - 特許庁 - The cut form sheet 1 with a watermark comprises a watermark ensign portion 3 having a watermark pattern layer 4 printed with oily ink on a surface of base paper 2 and edging pattern layers 5 printed along peripheral edges of the watermark pattern with shielding ink of paper color.
原紙２の紙面上に油性インキにより印刷された透かし模様層４と、紙色の遮光インキにより該透かし模様の周縁に沿って印刷された縁取り模様層５とで構成される透かし標章部３を備えたことを特徴とする透かし入り帳票用紙１である。 - 特許庁 - Wherein the refraction member comprises a prism array formed by arranging in series the prism pattern of a V shape with its tip directing to the edge of the light guide plate, and further is possible to form light projecting units in part of the prism pattern for preventing light that propagates around each optical axis of the point-like light sources from being entirely reflected on the prism pattern.
前記屈折部材は、頂点が前記導光板の縁側を向くV字状のプリズムパターンが反復配列されたプリズムアレイを含み、前記点光源の光軸の付近の光が前記プリズムパターンにより全反射されることを防止する投光部をさらに備えうる。 - 特許庁 - After a preparatory resist pattern 63 having a projection part 63T at a position P3 corresponding to a flare point is formed by selectively exposing and developing a resist film, the preparatory resist pattern 63 is heated to form a resist pattern for forming a main magnetic pole layer.
レジスト膜を選択的に露光して現像することにより、フレアポイントに対応する位置Ｐ３に突起部６３Ｔを有する前準備レジストパターン６３を形成したのち、その前準備レジストパターン６３を加熱することにより、主磁極層を形成するためのレジストパターンを形成する。 - 特許庁 - The pattern forming method comprises a step of forming an organic film on a substrate, a step of compression-bonding a plasma-processed mold, having pattern-forming protrusions and recesses on the organic film with the mold so as to face the substrate, and a step of removing the mold from the substrate to form a pattern.
有機膜を基板上に形成する工程と、上記有機膜にプラズマ処理を行ったパターン形成用の凸部又は凹部を有するモールドを前記基板に対向するように圧着させる工程と、前記基板から前記モールドを脱着することによりパターンを形成するパターン形成方法。 - 特許庁 - In respective pattern displays 23a to arranged inside of the machine, the upstream side and the downstream side of a pattern moving direction on a pattern moving surface on a front side opposing the see through window part 16 with respect to an axis L orthogonal with the front face 16g of the part 16 form a nearly equal angles.
機内部に配置された各図柄表示器２３ａ〜２３ｃは、透視窓部１６の前面１６ｇと直交する軸線Ｌに対して透視窓部１６と対向する前側の図柄移動面における図柄移動方向の上流側と下流側が略等角度となっている。 - 特許庁 - The metallic film pattern can be fabricated by transferring an alkanethiol monomolecular film pattern 51 by a stamping method to a substrate 40 after formation of a catalyst layer; immersing the substrate in an aqueous solution for lowering the catalytic activity of the catalyst layer 60, stripping the monomolecular film pattern from the catalyst layer and then immersing the substrate in an electroless plating bath to form a metallic film.
触媒層形成後に、スタンプ法でアルカンチオール単分子膜パターン５１を基体４０に転写、前記触媒層６０の触媒活性を低下する水溶液に浸漬、単分子膜パターンの剥離、無電解めっき浴に浸漬し形成を行う金属膜パターン製造方法。 - 特許庁 - The mask M is used to form a thin film having a first pattern on a substrate and comprises: a substrate S made from a nonmagnetic material having an opening 22 corresponding to the first pattern; and a film 28 made from a magnetic material, which has a second pattern and is arranged on the substrate S.
被成膜基板に対して第一パターンを有する薄膜を形成するためのマスクＭであって、第一パターンに対応する開口部２２を有する非磁性体基板Ｓと、非磁性体基板Ｓ上に第二パターンを有して配置された磁性体膜２８と、を備える。 - 特許庁 - An auxiliary pattern 6 is wound around the tapered part 4A, a main pattern 5 is wound around the surface from the outer circumference of the auxiliary pattern 6 and the circumference of the middle part to the butt side of the core bar 4 to form a inner-fitting bulged part 2A at the tip section of a hollow butt side member 2.
小径部４Ａに補助パターン６を巻回するとともにその補助パターン６の外周面と芯金４の中間部から元側に掛けての外周面とに亘ってメインパターン５を巻回し、中空状の竿元側部材２の竿先側に内嵌合膨出部２Ａを形成する。 - 特許庁 - The reversal pattern of a mold having the reversal pattern of the fine pattern is coated with a solution, which is prepared by dissolving a fluorine-containing polymer (A) not substantially containing a reactive functional group (x) in a solvent, and the solvent is removed to form a fluorine-containing polymer layer 1 on the surface of the mold 4.
微細パターンの反転パターンを有するモールド４の該パターン上に、反応性官能基（ｘ）を実質的に有さない含フッ素重合体（Ａ）を溶媒に溶解させた溶液を塗布し、溶媒を除去して、モールド４の表面に含フッ素重合体層１を形成する。 - 特許庁 - When a decorative pattern variable display start timing comes, a CPU (central processing unit) 101 for performance control starts the high-speed variation in each of the patterns of a first display surface 9a facing a player (Figure (A)), and stops the left pattern and right pattern of an LCD 9A in a ready-to-win display form.
演出制御用ＣＰＵ１０１は、飾り図柄の可変表示開始タイミングになると、遊技者に正対している第１表示面９ａの各図柄の高速変動を開始し（図４４（Ａ））、ＬＣＤ９Ａの左図柄と右図柄をリーチ表示態様で停止させる。 - 特許庁 - In the printed wiring board which has a printed contact pattern for inserting a connector, a chamfered portion is formed at the resin edge of the printed wiring board, and a part of the pattern is patterned on the chamfered portion, and the chamfered portion of the pattern and the chamfered portion of the resin edge form a continuous surface.
コネクタ挿入用プリントコンタクトパターンを有するプリント配線板において、プリント配線板の樹脂端部が面取り部を有しており、かつパターンの一部が面取り部を有するパターンし、前記パターンの面取り部と前記樹脂端部の面取り部とは連続した面を形成する、プリント配線板。 - 特許庁 - Input pads are separately arranged on both sides opposing each other, a bypass pattern 125 is formed within a chip 140 in the form of a wire pattern, and input/output patterns 123 and 124 are linked to each other at the inside of the chip 140 by another wire pattern provided within the chip 140.
入力パッドを２つの互いに対向する両辺に分けて配置し、バイパスパターン１２５をチップ１４０内部に配線パターン形態で設け、入・出力パターン１２３，１２４をチップ１４０内部に具備された別途の配線パターンによりチップ１４０内側で連結する。 - 特許庁 - To form a metal pattern into an accurate shape, related to a method where a photosensitized plating resist is coated on the surface of a circuit board after a catalyst layer is formed, which is exposed into a prescribed pattern and then developed, and the patterned plating resist is used for a metal pattern by electroless plating.
回路基板の表面に触媒層を形成してから感光性のメッキレジストを塗布し、これを所望パターンに露光してから現像し、これでパターニングされたメッキレジストを利用して金属パターンを無電解メッキにより形成する方法において、金属パターンを正確な形状に形成する。 - 特許庁 - The disciplined recessed pattern 1c is provided on the outer surface of a sleeve 1 by treating the whole of the cylindrical sleeve at a high temperature, depositing ink into the prescribed pattern on the outer surface of the sleeve 1 to form a mask pattern 2 and etching.
そこで、この目的を達成するために本発明は、円筒状のスリーブ全体を高温処理し、次にこのスリーブ１外表面に、インクを所定パターンで付着させてマスクパターン２を形成し、その後エッチングによって前記スリーブ１の外表面に規則性のある凹状パターン１ｃを設けるものである。 - 特許庁 - To provide the forming method of a resist pattern, which can form a comparatively larger pattern which does not reach the limit of a resolution using a KrF exposure technique, and an extremely microscopic pattern which is under the limit of the resolution using the KrF exposure technique, simultaneously and favorably, and to provide an aligner which is used for this forming method.
ＫｒＦ露光技術の解像限界に達しない比較的大きなパターンとＫｒＦ露光技術の解像限界以下の極く微細なパターンを同時に良好に形成できるレジストパターンの形成方法及びこの方法に用いる露光装置を提供する。 - 特許庁 - The painting method includes, (1) a process of applying undercoat paint comprising at least one species of colored particles dispersed in a dispersion medium onto a substrate to form an undercoat face, and (2) a process of applying transparent color paint in a form of streaks onto the undercoat face to form a streak pattern face.
基材に対し、（１）少なくとも１種以上の着色粒状物が分散媒中に分散した下塗材を塗付して、下塗面を形成する工程、（２）当該下塗面に対し、透明着色塗料を筋状に塗付して、筋状模様面を形成する工程、を行う。 - 特許庁 - An insulating material corresponding to a part of a wiring pattern of an insulated material layer 12 formed on a metal plate 11 is removed to form a groove, and a metal is separated in this groove to form a first wiring body contained metal plate 15 in which a wiring body 14 and an insulator 12a form one layer.
金属板１１上に形成した絶縁材料層１２の配線パターン相当部分の絶縁材料を除去して溝を形成し、この溝に金属を析出させて配線体１４と絶縁体１２ａとが一つの層をなした第１配線体付金属板１５を形成する。 - 特許庁 - The method of manufacturing the flexible libretto includes placing a masking sheet 1 having a libretto pattern on a sheet of an electrostatic flocking material, applying an adhesive agent on the same, removing the masking sheet to form a desired libretto pattern by the adhesive agent, and flocking a pile (hair) on the pattern to form the libretto.
リブレットのパターン模様が施されたマスキングシート1を静電植毛可能な材質からなるシート上に載せ、その上から接着剤を塗布した後、マスキングシートを取り除くことにより前記シート上に、前記接着剤による所望のリブレットのパターン模様を形成し、当該パターン模様上に静電植毛技術によりパイル（毛）を植毛し、リブレットを形成することからなる柔軟リブレットの製造方法。 - 特許庁 - The wiring board includes: a base material 12 formed of an insulating resin material; a substrate layer 16 formed on a surface of the base material, comprising a material prepared by mixing metal particles 20 and a binder resin, the metal particles serving as a plating catalyst, and patterned to form a pattern corresponding to a wiring pattern; and a metal film deposited on the substrate layer by plating to form the wiring pattern 18.
配線基板は、絶縁性を有する樹脂材料で形成された基材１２と、めっきの触媒となる金属粒子２０とバインダ樹脂とを混合した材料により基材の表面に形成され、配線パターンに対応してパターン化された下地層１６と、下地層上にめっきにより析出され配線パターン１８を形成する金属膜と、を備えている。 - 特許庁 - A pair of MREs 12 and 13 constituting the first MRE bridge 10 form a first V-shaped pattern together, and a pair of MREs 14 and 15 constituting the second MRE bridge form a V-shaped pattern inverted by 180° to the first V-shaped pattern with the direction orthogonal to the center line 4a of the IC chip 4 as the axis.
第１のＭＲＥブリッジ１０を構成する一対のＭＲＥ１２、１３は、互いに第１のハの字状パターンを形成しており、第２のＭＲＥブリッジ１２を構成する一対のＭＲＥ１４、１５は、第１のハの字状パターンに対してＩＣチップ４の中心線４ａに直交する方向を軸として１８０°反転したハの字状パターンを形成している。 - 特許庁 - An information processing system being a print control system for controlling attachment of a tint pattern to printed matters is characterized in to include: a means that has settings associated with forms on a tint pattern print setting user interface, makes the tint pattern setting user interface issue a print job, and generates a form; and a means that registers the generated form to a printer or the printer driver.
印刷物に対して地紋パターンの付加を制御する印刷制御システムであって、地紋印刷設定ユーザインタフェース上にフォームに関する設定を有し、前記地紋印刷設定ユーザインタフェースから印刷ジョブをおこし、フォームを生成する手段と、前記生成されたフォームをプリンタもしくはプリンタドライバに登録する手段、を有することを特徴とする情報処理システム。 - 特許庁 - The pattern forming method has a step A for discharging droplets of a liquid material from a discharging part to the surface of a material body in order to form a pattern on the surface of the material body, a step B for imaging the pattern and obtaining an imaging data by using an imaging device, and a step C for inspecting the profile of the pattern based on the imaging data.
パターン形成方法は、物体の表面にパターンを形成するために吐出部から前記表面へ液状材料の液滴を吐出する工程Ａと、撮像装置を用いて前記パターンを撮像して撮像データを得る工程Ｂと、前記撮像データに基づいて前記パターンの形状を検査する工程Ｃと、を包含している。 - 特許庁 - On the other hand, the Pachinko game machine determines that the specified pattern can not be stop-displayed in the pattern display area when the result of the variable display of the identification information becomes the specified display form and determines the patterns so as not to stop-display the specified pattern in the pattern display area even when the operation of the operation means is performed at the prescribed timing.
一方、パチンコ遊技機は、識別情報の可変表示の結果が特定の表示態様となる場合には、図柄表示領域に特定の図柄が停止表示不可能に決定し、操作手段の操作が所定のタイミングで行われても、図柄表示領域に特定の図柄が停止表示させないように図柄を決定する。 - 特許庁 - The resist pattern 1 of a rugged mold 21 is transferred onto a resist layer 12 formed on a board 11 through an imprint method, and then the side face of the protrudent pattern of the transferred resist pattern 1 is etched to form a resist pattern 2 equipped with projections 15 having a width w4 narrower than the width w6 of the corresponding recess 23 of the mold 21.
基板１１上に形成されたレジスト層１２にインプリント法で凹凸形状を有するモールド２１のレジストパターン１を転写した後、転写されたレジストパターン１の凸形状のパターン側面をエッチングすることにより、対応するモールド２１の凹部２３の幅ｗ６よりも狭い幅ｗ４の凸形状１５を有するレジストパターン２を形成する。 - 特許庁
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