「form pattern」を含む例文一覧(4548)
＜前へ 1 2 .... 38 39 40 41 42 43 44 45 46 .... 90 91 次へ＞- A microcomputer 560 for game control determines a variation pattern which is the performance form of the variable display of performance patterns from several variation patterns.
遊技制御用マイクロコンピュータ５６０は、演出図柄の可変表示の演出態様である変動パターンを、複数種類の変動パターンのうちから決定する。 - 特許庁 - To provide an embossing apparatus which can efficiently form an uneven pattern at a high operation rate on a rolled web.
原反に凹凸柄を形成するエンボス装置であって、とりわけ、高い稼働率で効率的に原反に凹凸柄を形成することができるエンボス装置を提供する。 - 特許庁 - A curable resin ink film is formed on an ink releasable film, and unnecessary parts are removed with a removing plate so as to form a protruding pattern of the curable resin ink film.
インキ剥離性のフィルム上に硬化性樹脂インク膜を形成し、除去版により不要部を除去し、硬化性樹脂インク膜の凸状パターンを形成する。 - 特許庁 - The conducting layer at the end of the source wiring is removed in the intersection of the source wiring and the gate wiring to form an extended pattern of the semiconductor layer.
そして、ソース配線とゲート配線の交差部において、ソース配線の端部の導電層を除去して、半導体層がはみ出した形状とする。 - 特許庁 - A layer (1) comprising the radiation sensitive resin composition is formed on a substrate (2), exposed and developed to form a pattern and a transparent film (5) is obtained.
この感放射線性樹脂組成物からなる層（１）を基板（２）の上に形成し、該層（１）を露光したのち現像してパターンを形成して、透明膜（５）を得る。 - 特許庁 - Next, P-type impurities 4 are introduced into the surface layer of the substrate 1 through ion implantation using the pattern 3 as a mask to form a P-type region 5.
次に、パターン３をマスクにしたイオン注入によって基板１の表面層にＰ型不純物４を導入し、Ｐ型領域５を形成する。 - 特許庁 - In an imprint device 1, an imprint material 12 on a substrate 10 is molded and hardened by a die 8, so as to form a pattern on the substrate 10.
インプリント装置１は、基板１０上のインプリント１２材を型８により成形して硬化させ、基板１０上にパターンを形成するものである。 - 特許庁 - To form a highly fine pattern while eliminating poor insulation between electrodes and improving the characteristics of an EL without causing damages and chemical changes in an organic layer.
電極間の絶縁不良をなくし、有機層にダメージや化学変化を来さずＥＬ特性の改善を図り、高精細なパターンの形成を可能とする。 - 特許庁 - For example, a blocking pattern 2 is formed in the membrane 1 by an ink jet method to form multiple flow paths 3, 4 having different flow path length in one membrane 1.
例えば、インクジェット法によりメンブレン１に遮断パターン２を形成し、１枚のメンブレン１に流路長が異なる複数の流路３，４を形成する。 - 特許庁 - The receiving section 16 is made into a circular form by combining a pair of semicircular coils 20 symmetrically and forms the directions of coil pattern of the coil 20 which is to be mutually reversed.
受信部１６は、一対の半円形状のコイル２０を対称に組み合わせて円形とし、コイル２０のコイルパターン方向を互いに反対に形成した。 - 特許庁 - To form fine patterns through a smaller number of steps and more simply in wafer treatment of performing a plurality of resist-pattern forming processes on a predetermined underlayer film.
所定の下地膜上に複数回のレジストパターンの形成処理を行うウェハ処理において、より少ない工程でより簡単に微細なパターンを形成する。 - 特許庁 - To finally form a pattern at optional size when patterns are formed by conducting exposure treatment plural times between resist film formation and development.
レジスト膜形成処理と現像処理との間に複数回の露光処理を行うパターン形成処理において、最終的に所望の寸法のパターンを形成する。 - 特許庁 - A substrate 12 is etched by using as a mask a resist pattern provided on the substrate 12 to form a groove 13 on the surface of the substrate 1.
基板１２上に設けられたレジストパターン３０をマスクに用いて基板１２がエッチングされ、基板１２の表面上に溝１３が形成される。 - 特許庁 - A juncture 18a expanding just a part of a grounding conductive pattern 18 to an island form is formed in a portion where a clip 15 and the flexible wiring board 13 touch.
クリップ１５とフレキシブル配線基板１３とが接する部分には、接地導電パターン１８を一部だけ島状に広げた接続部１８ａが形成される。 - 特許庁 - To precisely form a pattern part from a transparent and colorless water-repellent film layer only by label transfer without performing a mask operation.
マスキング作業をすることなく、ラベル転写のみでガラス表面に的確に無色透明撥水性膜層からなる絵柄部を形成できるようにする。 - 特許庁 - To provide an image processor capable of suppressing deviation in the gradation reproducibility without unbalancing color balance even when a screen pattern and an output form are revised.
スクリーンパターンや出力形式を変更してもカラーバランスを崩すすことなく階調再現性のずれを抑えることができる画像処理装置を提供する。 - 特許庁 - To form a film thickness measuring pattern for measuring the film thickness of an epitaxial semiconductor layer formed by the selective growth, without needing any special constituting material element.
選択成長によるエピタキシャル半導体層の膜厚を測定する膜厚測定パターンを、特段の構成材料要素を要せずに形成する。 - 特許庁 - To provide an electrode pattern forming method for avoiding the occurrence of peeling even if a laminated metal film has an inverted taper form, and to provide a semiconductor device.
積層金属膜が逆テーパであっても剥離の発生を回避することが可能となる電極パターン形成方法および半導体装置を提供する。 - 特許庁 - Next, glass fiber mats are laminated on the gel coat layer while being impregnated with a synthetic resin incorporated with a coloring agent and the pattern material to form a resin mat layer.
次にガラスマットを、着色剤と柄材とを配合した合成樹脂を含浸させつつゲルコート層上に積層し、樹脂マット層を形成する。 - 特許庁 - The resist pattern for forming via holes is used to form a via hole 1s reaching the Ni layer 8 from the back side of the insulating board 1 on the insulating board.
次に、ビアホール形成用レジストパターンを用いて、絶縁性基板１に、その裏面側からＮｉ層８まで到達するビアホール１ｓを形成する。 - 特許庁 - A code pattern on a business form 22 output from a printer 20 is read by a scanner 15 and is collated with code data provided in a database 12 of a management system 1.
プリンタ２０から出力された帳票２２のコードパターンをスキャナ１５で読み取り、管理システム１のデータベース１２が持つコードデータと照合する。 - 特許庁 - To form an electrode pattern for an organic device in any given shape with high accuracy, without being tied to various hurdles in an electrode patterning process.
電極パターニング工程に伴う種々の制約に捕われることなく、自由な形状にかつ高精度に有機デバイスの電極パターンを形成する。 - 特許庁 - In order to keep a terminal width as narrow as possible, 10 terminals or more are constituted as one block and a pattern is formed so that both neighbors may form Y axis symmetry.
端子の幅を極力大きくしないため、１０本以上を１ブロックとして構成し、両隣はＹ軸ミラー写しとなるようにパターン形成をした。 - 特許庁 - The impedance matching circuit 7 between the optical component and the electrical component is designed by combining a pattern form, a resistor 15, a coil 16 and a capacitor 17.
光部品と電気部品間のインピーダンス整合回路７を、パターン形状、抵抗１５、コイル１６およびコンデンサ１７の組み合わせにより設計する。 - 特許庁 - To provide: copper foil for a printed wiring board, which can form a circuit pattern at a favorable fine pitch; a laminated body using the copper foil; and a printed wiring board.
回路パターンを良好なファインピッチで形成することができるプリント配線板用銅箔、それを用いた積層体及びプリント配線板を提供する。 - 特許庁 - To suppress the generation of cracks at the bottom and on the side of the opening of a film to be worked which is formed by etching, and to form a pattern into a prescribed shape.
エッチングによって形成される被加工膜の開口部の底部及び側部にクラックが発生することを抑制し、所定の形状にパターンを形成する。 - 特許庁 - The electronic pen 10 reads a dot pattern on the application form 3 with movement, and entry data related to the check mark entered by the user are acquired.
電子ペン１０は、移動に伴って申込書３上のドットパターンを読み取り、利用者が記入したチェックマークに関する記入データを取得する。 - 特許庁 - A male connector 32 and an electronic component 33 are mounted on a printed board 31 on which a prescribed circuit pattern is formed, to form a circuit main body 30.
所定の回路パターンが形成されたプリント基板３１には、オス型コネクタ３２と電子部品３３とが実装されて回路本体３０が形成される。 - 特許庁 - For a certain assembly of patterns, a difference between the characteristic vector of each pattern and an average characteristic vector of each right category is calculated to form an assembly of difference vectors.
あるパターン集合について、各パターンの特徴ベクトルと各正解カテゴリの平均特徴ベクトルの差分をとり、差分ベクトルの集合を生成する。 - 特許庁 - To provide a paper for receiving the ink-jetting ink for wall paper that can form a design or a pattern standing the heat and the light necessary for producing wall paper.
壁紙作製に必要な加熱に耐え且つ耐光性に勝れる絵柄をインクジェットプリント方法で作成できる壁紙用インクジェットインク受像紙を提供する。 - 特許庁 - A continuous strip of material is wrapped in a helical pattern over the length of the joined first and second of the sections of tubing to form a pipeline segment.
接合された第１および第２の一連の管の長さ全体に、連続帯状材が螺旋状パターンを描いて巻き付けられ、パイプラインセグメントを形成する。 - 特許庁 - This substrate has a surface substantially parallel to a {111} plane of the crystal material and the surface is processed to form cubic elements consisting of recesses, protrusions, or a combination of the recesses and protrusions in a given pattern.
この基板の表面を加工して、凹部、凸部、または凹部と凸部との組み合わせからなる立体形状要素を所定のパターンで形成する。 - 特許庁 - To provide a method to form an organic supermolecular pattern of several nanometers or less using the self-assembly of organic supermolecules and selective chemical adsorption of metals.
有機超分子の自己集合及び金属の選択的化学吸着を用いて数ナノメートル以下の有機超分子パターンを形成する方法を提供する。 - 特許庁 - By selecting a peak of 50% deuterium substitution at the center of the peak groups and performing MS/MS analysis, product ions form an isotope pattern due to the polymerization degree of deuterium.
該ピーク群の中心にある50%重水素置換ピークを選び出し、MS/MS分析を行うと、プロダクトイオンは重水素の重合度により同位体パターンを形成する。 - 特許庁 - At least the uppermost layer (the elctro-conductive layer 103 in an illustrated example) is partly removed by irradiation of laser beams L to form a layer pattern (Figure (c)).
そして、少なくとも最上層（図示の例では導電層１０３）をレーザー光Ｌの照射によって部分的に除去して層パターンを形成する（図１ｃ））。 - 特許庁 - A metal mask is placed on the surface of a substrate 11 and a fluorine coating agent is vapor-deposited on the metal mask to form a liquid repellant layer 16 with a prescribed negative pattern.
基板１１の表面にメタルマスクをのせて、フッ素系コーティング剤を蒸着することで、所定のネガパターンの撥液性層１６を形成する。 - 特許庁 - To perform exposure of high contrast with small amount of electron beam irradiation, accurately form a pattern on a wafer, and perform a highly accurate inspection.
少ない電子線の照射量で高いコントラストの露光を行わせ、かつ高精度にウェーハ上にパターンを形成させると共に、高精度な検査を行う。 - 特許庁 - To provide a plasma etching method and a plasma etching apparatus with which it becomes possible to form a pattern having a high aspect ratio and a uniform inner diameter.
高アスペクト比を有しながら内径が均一なパターンを形成することが可能なプラズマエッチング方法及びプラズマエッチング装置を提供すること。 - 特許庁 - To form a high resolution and high accuracy chemically amplified resist film pattern having excellent dry etching resistance and small edge roughness in electron beam lithography.
電子線リソグラフィにおいて、ドライエッチング耐性に優れ、エッジラフネスが小さい、化学増幅型高解像度・高精度レジスト膜パターンの形成を可能にする。 - 特許庁 - Phosphorus is ion-implanted in an n-type well forming region 30 and in a positioning pattern forming region 40 on a substrate 1 to form n-type wells 6a and 6b.
基板１のｎ型ウェル形成領域３０と位置合わせパターン形成領域４０に燐をイオン注入してｎ型ウェル６ａ、６ｂを形成する。 - 特許庁 - The array has multiple (for example, two or more) individual proteins deposited in a spatially defined pattern on a surface in a given form.
本発明によるアレイは、表面上に空間的に規定されたパターンで配置された複数（例えば、２つ以上）の個別のタンパク質をある形式で有する。 - 特許庁 - A diamond film 161 is formed on the pattern surface of a mold material 160 and hydrogen plasma treatment 162 is applied to the diamond film 161 to form the mold release layer 163.
モールド材料１６０のパターン表面に、ダイヤモンド膜１６１を形成し、さらに水素プラズマ処理１６２をすることで離型層１６３を形成する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a liquid jetting head which can well form a high-density wiring pattern on a joining substrate with a penetration part.
貫通部を有する接合基板上に高密度な配線パターンを良好に形成することができる液体噴射ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method of designing a mask capable of providing a dummy pattern in a new form, and to provide a semiconductor element and a method of manufacturing the semiconductor device.
本発明は、新たな形態のダミーパターンを提供できるマスクの設計方法、半導体素子、及びその製造方法を提供するためのものである。 - 特許庁 - A pattern phase difference film is manufactured by transferring a convex-concave shape formed on a metal mold 13 for transfer onto a transparent sheet material to form an alignment film.
転写用の金型１３に形成された凹凸形状を透明のシート材に転写して配向膜を形成し、パターン位相差フィルムを製造する。 - 特許庁 - After fine circuit grooves are formed on the surface of the composite layer, conductive material is filled into the grooves to form the fine circuit pattern inlaid in the composite layer.
微細回路溝が複合層の表面上に形成され、導電材料が溝に充填され、複合層にちりばめられる微細回路パターンを形成する。 - 特許庁 - The method for manufacturing the inorganic material membrane structure is performed by providing the photosensitive composition on a substrate, exposing and developing to form a pattern and firing.
該感光性組成物を基板上に設け、露光、現像処理してパターンを形成し、その後、焼成する無機材料膜構造物の製造方法。 - 特許庁 - An electroforming master 3 is a substrate for electroforming to form a fine die 23 on its upper surface by electroforming and has a base portion 2 and a pattern portion 1.
電鋳マスター３は、電気鋳造法により上面に微細金型２３を形成するための電鋳用基板であって、基体２と、パターン体１とを備えている。 - 特許庁 - The recording and reproducing device is able to form an arbitrary recording pattern by making two or more luminous fluxes selectively incident to an objective lens on the basis of recording signals.
複数の光束を記録信号に基づいて選択的に対物レンズに入射させ、任意の記録パターンを形成できる記録再生装置を提供する。 - 特許庁 - The part of the silylation resist 20 corresponding to the position above the crosslinked part 15 is crosslinked in a groove pattern (in a parallelepiped form), and then the whole surface of the wafer is silylated.
シリル化レジスト２０の一部で架橋部１５の上に位置する部分を溝状に（直方体状に）架橋させた後、ウエハ全面をシリル化する。 - 特許庁
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