「form pattern」を含む例文一覧(4548)
＜前へ 1 2 .... 40 41 42 43 44 45 46 47 48 .... 90 91 次へ＞- A first right light-emitting element to a fifth right light-emitting element of the headlamp apparatus form a right addition light distribution pattern PAR, and each element is horizontally arrayed in a row by dividing the right addition light distribution pattern PAR.
前照灯装置において、第１右発光素子〜第５右発光素子の各々は、右付加配光パターンＰＡＲを形成し、各々が右付加配光パターンＰＡＲを分割して水平方向に一列に並ぶよう形成される。 - 特許庁 - The method includes a winding process wherein a flexible substrate made of a thermoplastic resin and provided with a wiring pattern thereon is subjected to thermocompression bonding while being wound on a winding core, so that the wiring pattern is wound around the winding core to form an electronic element.
熱可塑性樹脂からなり、表面に配線パターンが形成されたフレキシブル基板を、巻回芯に巻回しつつ熱圧着することで、巻回芯に前記配線パターンを巻回して電子素子とする巻回工程を有する。 - 特許庁 - Consequently, even if the bonus flag is the win drawn state, it is not until a stop operation is executed in a form avoiding the pattern combination corresponding to the regular flag that the pattern combination corresponding to the bonus flag is stationarily displayed.
したがって、ボーナスフラグに対応する図柄組み合わせは、ボーナスフラグが当選成立状態であったとしても、一般フラグに対応する図柄組み合わせを回避するかたちで停止操作が行われたことを条件に、停止表示される。 - 特許庁 - To provide a mask for near field exposure, a near field exposure method, and a near field exposure apparatus capable of forming a resist pattern over a large area in the case of using a cylindrical member to form the resist pattern.
円柱状部材を用いてレジストパターンを形成するに際して、大面積に亙ってレジストパターンを形成することが可能となる近接場露光用マスク、近接場露光方法、及び近接場露光装置を提供する。 - 特許庁 - A plurality of convex light-condensing elements 44 is also two-dimensionally and evenly arranged on the front side of the transparent material 41, each line of the light-condensing elements 44 being given the same directivity as that of the image pattern, to form a light-condensing element pattern.
透明素材４１の表面には、複数の凸レンズ状の集光素４４を各集光素４４の並びに前記画像パターンと同じ方向性を持たせて２次元的に等配列して集光素パターンが形成される。 - 特許庁 - To provide a method for forming a seal pattern of a liquid crystal display for improving the productivity and for reducing the tack time (tact time) relating to a large-area substrate by using a split mask to efficiently form a seal pattern.
本発明は、分割マスクを使って效率的にシールパターンを形成することで大面積基板における生産性向上及びタックタイム(tact time)を短縮するようにした液晶表示装置のシールパターン形成方法に関する。 - 特許庁 - To form a constitution capable of preventing the generation of a breakdown between a re-wiring pattern and a semiconductor board, the breaking of an internal element or an insulating film or the like by charges collected in the re-wiring pattern in a WL-CSP ashing process.
ＷＬ−ＣＳＰアッシング工程にて、再配線パターンに溜まった電荷によって、再配線パターンと半導体基板間における絶縁破壊，内部素子、あるいは絶縁膜の破壊などの発生を防止し得る構成とする。 - 特許庁 - The secondary laminate 4a is preliminarily cut parallel at two or more parts so that the end part of the first internal electrode pattern 12a and the end part of the second internal electrode pattern 13a may be exposed in a matrix form and the preliminary cut laminate is obtained.
第１内部電極パターン１２ａの端部及び第２内部電極パターン１３ａの端部が行列状に露出するように、二次積層体４ａを複数箇所で平行に予備切断し、予備切断積層体を得る。 - 特許庁 - To form an image having a pattern similar to an image of a model, and having a size larger than that of the image of the model, using the image serving as the model, and to restrain a defect of a pattern from being generated in the formed image.
モデルとする画像を利用して、同様の模様を有し、かつサイズが大きい画像を作成することが可能であると共に、作成した画像に柄癖が発生することを抑えた画像作成方法およびシステムを提供する。 - 特許庁 - Next, a second pattern exposure which irradiates exposing light on the second resist film 105 through a second mask 103B is carried out, and the second resist film 105 develops to form a second resist pattern 105a from the second resist film 105.
続いて、第２のレジスト膜１０５に第２のマスク１０３Ｂを介した露光光を照射して第２のパターン露光を行い、第２のレジスト膜１０５を現像して、第２のレジスト膜１０５から第２のレジストパターン１０５ａを形成する。 - 特許庁 - A phase shift mask in which a phase of a transmitted light through one electrode pattern is inverted to a phase of a transmitted light through the other electrode pattern is used as a reticle for forming the reproducing track width of the magnetic head of the magnetic disk device to form ≤0.25μm track width.
磁気ディスク装置の磁気ヘッドの再生トラック幅を形成するためのレチクルに、一方の電極パターンの透過光の位相が他方の透過光の位相と反転する位相シフトマスクを用い、0.25μｍ以下のトラック幅を形成する。 - 特許庁 - The method for forming the pattern comprises a step A of coating the substrate with the paste, a step B of thermally drying the printed paste, and a step of repeating the steps A and B plural times to form the pattern, thereby manufacturing the semiconductor device.
樹脂ペーストを基板上に塗布する工程Ａ及び印刷された樹脂ペーストを加熱乾燥する工程Ｂを含み、工程Ａ及び工程Ｂを複数回繰り返し、精密パターンを形成して半導体装置を製造する。 - 特許庁 - To obtain a method for manufacturing a cosmetic product which can accurately form a pattern required on the surface of the cosmetic product, an apparatus for manufacturing the cosmetic product, and the cosmetic product on the surface of which the pattern or the like required is accurately formed.
化粧品の表面に所望する模様などを正確に形成することができる化粧品の製造方法及び化粧品の製造装置と、表面に所望する模様などが正確に形成された化粧品を得る。 - 特許庁 - A liquid channel pattern is formed on a plane including the end face of the plurality of piezoelectric vibrators 11, a coating resin layer 1 is provided thereon, and then the liquid channel pattern is removed to form a plurality of pressure chambers 4, and the like.
ついで、複数の圧電振動子１１の端面を含む平面上に液流路パターンを形成し、その上に被覆樹脂層１を設けたのち前記液流路パターンを除去することによって複数の圧力室４等を形成する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive silver paste which is enhanced in leveling property which is a problem in a conventional electrode pattern production method and free of breaking after producing an electrode because a trace of a screen print does not remain, and also to form a high-precision fine electrode pattern.
従来の電極パターン作成法の問題点であるレベリング性を高め、スクリーン版の跡が残らず電極作成後に断線のない感光性銀ペーストを提供し、高精度な微細電極パターンを形成することにある。 - 特許庁 - To form a fine conductor pattern at high accuracy by fully suppressing gelation of a coat on a support in a conductor pattern forming process by the transfer method using a photosensitive conductor paste.
感光性導体ペーストを用いた転写法による導体パターン形成方法において、感光性導体ペーストのゲル化並びに支持体上塗布物のゲル化を十分に抑制して、高精度に微細な導体パターンを形成すること。 - 特許庁 - When the photomask 20 is used to perform step and repeat exposure, the complementary pattern 24 is transferred to the missing part 25 of the moisture-proof ring pattern 23 transferred to a photoresist film and the moisture-proof ring closed in the form of a ring can be formed.
このフォトマスク２０を使用してステップアンドリピート露光を行うと、フォトレジスト膜に転写された耐湿リングパターン２３の欠落部２５に補完パターン２４が転写され、リング状に閉じた耐湿リングを形成することができる。 - 特許庁 - When a pattern is formed in a resist layer 13 by lithography, the resist layer 13 is exposed, while a mask 11 is moved relatively to the resist layer 13 to form the objective resist pattern 13a.
レジスト層１３にリソグラフ法によりパターンを形成するパターン形成方法であって、レジスト層１３に対し相対的にマスク１１を移動させて露光していくことによりレジストパターン１３ａを形成することを特徴とする。 - 特許庁 - To provide a cathode ray tube adopting the AC reproduction system and capable of partial color video display by a phosphor pattern of a prescribed form that can excellently emit a desired phosphor pattern only.
ＡＣ再生方式で、モノクロ表示に加えて、部分的に所定形状の蛍光体パターンによるカラー映像表示を可能にした陰極線管において、所望の蛍光体パターンのみを良好に発光させることができるようにする。 - 特許庁 - To prepare a second template from a first template by an imprinting method and to accurately form an alignment mark without degrading an error in relative positional accuracy between a main pattern and a peripheral pattern of the second template.
第１のテンプレートからインプリント法により第２のテンプレートを作製することができ、且つ第２のテンプレートにおけるメインパターンと周辺パターンとの間の相対的な位置精度誤差を劣化させることなく、アライメントマークを精度良く形成する。 - 特許庁 - To provide a method of ultraviolet exposure capable of imparting an inclined plane to the sidewall of a resist pattern at an optional angle to a micronano pattern which is difficult to form an inclination on the sidewall, and to provide an ultraviolet exposure device.
本発明の主な課題は、側壁に勾配を形成するのが困難なマイクロ・ナノパターンに対して、レジストパターンの側壁に任意の角度で傾斜面を付与できる紫外線露光方法、紫外線露光装置を提供することである。 - 特許庁 - To provide a Pachinko game machine giving a more thrilling fluctuation form and increasing expectation of a player in comparison with a conventional one when a pattern fluctuatingly displayed in a pattern display part attains a reach (ready-to-win) state.
図柄表示部において変動表示される図柄がリーチ状態となった場合、上記従来のものに比して、よりスリル感に溢れる変動態様を提供でき、遊技者の期待感を高めることができるパチンコ遊技機を提供する。 - 特許庁 - Further, the positive photosensitive resin layer 21 is developed to form a black matrix two-layer barrier wall 30 consisting of a black pattern 31 and a resin pattern 21a, and the black matrix two-layer barrier wall 30 is heated and cured to obtain the black matrix substrate 50.
さらに、ポジ型感光性樹脂層２１を現像し、ブラックパターン３１と樹脂パターン２１ａとからなるブラックマトリクス２層隔壁３０を形成し、ブラックマトリクス２層隔壁３０を加熱硬化してブラックマトリクス基板５０を得る。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a pattern formation body that can form a high-definition pattern at low cost and with good manufacturing efficiency and that can use a non-parallel light source.
本発明は、製造効率よく低コストに高精細なパターンを形成することが可能であり、かつ平行光でない光源を用いることが可能なパターン形成体の製造方法を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁 - Dry etching is performed to the P-type second clad layer 20 by using a first insulating pattern 22B as a mask, and the P-type second clad layer is patterned in a ridge form to which the first insulating pattern 22B is transferred.
続いて、第１の絶縁性パターン２２Ｂをマスクとして、ｐ型第２クラッド層２０に対して、ドライエッチングを行なうことにより、ｐ型第２クラッド層を、第１の絶縁性パターン２２Ｂが転写されたリッジ形状にパターニングする。 - 特許庁 - Further, in the claim 3 of this invention, the applicable undercut-shaped part in the rubber pattern 1 is made to form as the plurality of assembled constructed parts to be fittable/separable, and after separating the rubber pattern body from the mold, a separated part is taken out from the mold one by one.
また請求項３の発明では、ゴム型１の該当アンダーカット形状部を脱着可能な複数の組立てパーツ構造としておき、ゴム型本体を脱型した後、分離パーツを一つずつ鋳型から抜き取る。 - 特許庁 - To provide: a new photosensitive resin composition which is uncolored and can form a pattern having a high transmittance to visible light; a cured resin pattern formed using the same; and a display element.
着色がなく、可視光に対する高い透過率を有するパターンを形成することができる新たな感光性樹脂組成物と、それを用いて形成された硬化樹脂パターン及び表示素子を提供することを目的とする。 - 特許庁 - The data processing pipeline converts a first representation of a requested dose pattern to a sequence of control data suitable for controlling the array of individually controllable elements in order substantially to form the requested dose pattern on a substrate.
データ処理パイプラインは、要求された線量パターンの第１の表現を個別に制御可能な要素のアレイを制御するのに好適な制御データのシーケンスに変換し、基板上に要求された線量パターンを実質的に形成する。 - 特許庁 - To provide an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition which is excellent in sensitivity, resolution, roughness properties and temporal stability and enables to form a pattern of good configuration, and to provide a pattern forming method using the same.
感度、解像度、ラフネス特性及び経時安定性に優れ且つ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for forming a pattern of a metal oxide thin film using a precursor solution, which is capable of improving the light application sensitivity without improving any nature of a raw material solution, and improving any disturbance of a pattern form by the development.
原料溶液の性質を改善をすることなく、光照射感度を向上し、現像によるパターン形状の乱れを改善し得る、前駆体溶液を用いた金属酸化物薄膜パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an active light-sensitive or radiation-sensitive resin composition, and a pattern forming method and a resist film using the same, which form a pattern satisfying high sensitivity, high resolution and favorable line width roughness at the same time.
高感度、高解像性、良好なラインウィズスラフネスを同時に満足するパターンを形成することが可能な、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法並びにレジスト膜の提供。 - 特許庁 - Everytime the pattern is changed at the step (S 350), the working roller during its ascent is rotated so as to set to the head of the pattern worked therewith at the steps (S 315 to S 330) in order to form successively patterns on a sheet material in the working order.
そして、模様が変わるたびに（Ｓ３５０）、上昇中の加工ローラが加工に用いる模様ので先頭に合わせて回転され（Ｓ３１５〜Ｓ３３０）、加工順序に沿って順次模様がシート材料に形成される。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a pattern formation body by an ink jet system which can form a high-definition pattern and has a wide selection range of the film thickness of a functional part, and a manufacturing apparatus for the same.
本発明は、高精細なパターンの形成が可能であり、機能性部の膜厚の選択範囲が広いインクジェット方式によるパターン形成体の製造方法およびその製造装置を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁 - The method for forming the pattern is to irradiate laser beams to the polymer composition (or its molding) constituted of a polysilane and form the pattern by generating changes in optical characteristics (color, transparency, refractive index, reflection index, dielectric constant, and the like) on a surface of the inside of the same.
ポリシランで構成されたポリマー組成物（又は成形体）に、レーザ光を照射し、表面又は内部に光学的特性（色彩、透明性、屈折率、反射率、誘電率など）の変化を生じさせ、パターンを形成する。 - 特許庁 - After a cholesteric liquid crystal layer 16 provided on a temporary substrate 10 is laminated on a substrate 22, the cholesteric liquid crystal layer 16 is heated up to a prescribed temperature and exposed to an active light beam using a pattern at this temperature to form a first pattern.
仮支持体１０に設けたコレステリック液晶層１６を、基板２２にラミネートしてコレステリック液晶層１６に対して、所定の温度に加熱し、この温度条件下で活性光線をパターン露光して第一のパターンを形成する。 - 特許庁 - Then, second masking films 15 are formed on the wiring pattern corresponding part of the rear surface of the metal plate 11, and the metal plate 11 is subjected to etching from above the second masking films 15 so as to form a wiring pattern 11D on the bottom of the metal plate 11.
次に金属板１１の裏面側の配線パターン相当部分に第２のマスキング１５を形成し、この第２のマスキング１５の上からエッチング処理して金属板１１の底部に配線パターン１１Ｄを形成する。 - 特許庁 - On a substrate, solution containing fine particles is ejected with the growth action force of a film boiling bubble produced instantaneously to form a pattern wiring or an electrode pattern being connected with a device wherein the corner part is beveled.
基板上において、瞬時に発生させた膜沸騰気泡の成長作用力で微粒子含有溶液を噴射させて形成されるパターン配線あるいはデバイスに接続される電極パターンのコーナー部を面取り形状とする。 - 特許庁 - To provide an asphalt piece having desired size or shape used to form a pattern for separating by color at a desired place (installation place), formed with a pattern for separating by color at another place other than the installation place.
所望の場所（設置場所）に色分け模様を形成するために用いられ、予め、その設置場所とは別の場所において、色分け模様が形成され且つ所望の大きさ又は形状にされたアスファルト片を提出すること。 - 特許庁 - Then, second masking films 41 are formed on the wiring pattern corresponding part of the rear surface of the metal plate 11, and a etching process is performed from above the second masking films 41 so as to form a first wiring pattern 43 from the metal plate 11.
次に金属板１１の裏面側の配線パターン相当部分に第２のマスキング４１を形成し、この第２のマスキング４１の上からエッチング処理して金属板１１から第１の配線パターン４３を形成する。 - 特許庁 - Depending on the stitch feed and condense stitch feed specified by needle rocking pattern data and a back-tacking pattern both selectively read out of the memory, the needle rocking mechanism is driven to form a seam of the needle rocking and back-tacking patterns.
記憶された針振りパターンデータと止め縫いパターンが読み出され、これらのデータに基づき縫い送り量及びコンデンス送り量に関連して針振機構が駆動され、針振りパターンと止め縫いパターンに従った縫目が形成される。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition, which uses a low molecular material as a base component and can form a high-resolution resist pattern, and a method for resist pattern formation, a compound suitable for the positive resist composition, and a dissolution inhibitor.
基材成分として低分子材料を用いた、高解像性のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法、該ポジ型レジスト組成物用として好適な化合物および溶解抑制剤を提供する。 - 特許庁 - Then, a surface coating prepd. by adding an ink into a varnish is applied on the printed pattern layer 3 to form a pattern protective layer 4 and this sheet 2 is molded into a specified shape to obtain a molded container (a soap storing container 1).
次いで印刷模様層３上にワニスにインキを添加して調製してなる表面コート剤を塗布して模様保護層４を形成し、このシート２を所定の形状に成形加工して成形容器（セッケン収納容器１）を得る。 - 特許庁 - A Cu foil on the opposite sides of an insulating substrate 10 is etched to form a surface conductor pattern 12 and a rear surface conductor pattern 14 and then a through hole 16 is formed in the connection land of the conductor patterns (12, 14) by drilling, or the like.
絶縁基板１０の両面のＣｕ箔をエッチング加工し、おもて面導体パターン１２および裏面導体パターン１４を形成し、ドリル加工等により導体パターン（１２，１４）の接続ランドにスルーホール１６を形成する。 - 特許庁 - The film to be processed is etched by using the first and second patterns as a mask, the third pattern is removed, and the film to be processed, which is exposed by the removal of the third pattern, is etched to form gate electrode patterns 7a, 7d small in an interval.
第１および第２のパターンをエッチングマスクとして被加工膜をエッチングするとともに、第３のパターンを除去し、第３のパターンの除去により露出した被加工膜をエッチングし、間隔の小さいゲート電極パターン７ａ、７ｄ。 - 特許庁 - In the exposure method, the pattern of a mask (M) disposed on the object surface of a projection optical system (PL) is exposed on the photosensitive substrate (W) disposed on the image surface of the projection optical system to form the pattern of a desired line width on the photosensitive substrate.
投影光学系（ＰＬ）の物体面に設置されたマスク（Ｍ）のパターンを、投影光学系の像面に設置された感光性基板（Ｗ）上に露光して、感光性基板上に所望線幅のパターンを形成する露光方法。 - 特許庁 - To provide a method for coating an ALC(autoclaved lightweight concrete) panel which can efficiently form a coated surface without deteriorating the designability of an uneven pattern such as a split stone tone formed on the surface of the ALC panel, with the pattern left as it is.
ＡＬＣパネルの表面に形成した割石調などの凹凸模様の意匠性を損なうことなく、この凹凸模様をそのまま残した塗装面を効率的に形成可能なＡＬＣパネルの塗装方法を提供する。 - 特許庁 - Then, after a magnetic film 17a' for formation of an upper pole chip is formed so as to cover the photoresist pattern 31 and the recording gap layer 9, the film is applied to anisotropic etching to form a side wall on the side end face of the photoresist pattern 31.
次に、フォトレジストパターン３１および記録ギャップ層９を覆うようにして上部ポールチップ形成用磁性膜１７ａ′を形成したのち、異方性エッチングを施し、フォトレジストパターン３１の側端面にサイドウォールを形成する。 - 特許庁 - The lower and upper resist layers 103Z, 104Z are selectively exposed to form a double layer resist pattern 105, and by dry etching using the pattern 105 as a mask, the 1st thin-film 111Z and the soluble layer 102Z are selectively etched.
下部および上部レジスト層１０３Ｚ，１０４Ｚを選択的に露光して２層レジストパターン１０５を形成し、これをマスクとしたドライエッチングにより第１薄膜１１１Ｚおよび可溶層１０２Ｚを選択的にエッチングする。 - 特許庁 - A pattern is formed on a surface-treated base material by a photo-lithographic method, and a carbon nanotube is laminated in a single or multiple manner by utilizing a chemical self-organizing method thereon to form a pattern of the carbon nanotube.
表面処理された基材上にフォトリソグラフィ方法によりパターンを形成し、その上に化学的自己組織化の方法を利用してカーボンナノチューブを単層および多層に積層してカーボンナノチューブのパターンを形成させる方法である。 - 特許庁 - This focusing device includes a liquid crystal lens holding a liquid crystal layer between a pattern electrode group and a common electrode, and a controller for switching voltage applied to the pattern electrode group to form a refractive index distribution in the liquid crystal layer.
合焦点装置は、パターン電極群と共通電極とで液晶層を挟持する液晶レンズと、パターン電極群に印加する電圧を切り替えて液晶層に屈折率分布を形成する制御コントローラとを備える。 - 特許庁
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