「form pattern」を含む例文一覧(4548)
＜前へ 1 2 .... 45 46 47 48 49 50 51 52 53 .... 90 91 次へ＞- A terminal device 25 specifies and manages the living information based on an entry position coordinate on a dot pattern included in the entry data to the check form 4 by the user.
端末装置２５は、利用者によるチェック帳票４への記入データに含まれるドットパターン上の記入位置座標に基づいて生活情報を特定し、管理する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a new and improved lower panel for a PDP capable of forming a high-definition barrier rib pattern with high form accuracy by utilizing an X-ray.
Ｘ線を利用して高精細の隔壁パターンを高い形状精度で成形できる、新規かつ改良されたＰＤＰ用下部パネルの製造方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a photosensitive polymer which improves characteristics of a resist such as a high transmittance and good dry etching resistance and which can form a fine pattern.
透過度および乾式エッチングに対する耐性など、レジスト組成物の特性を向上させる感光性ポリマーを提供し、さらに微細なパターン形成を可能にする。 - 特許庁 - To form a resist film having a desired trench pattern on a low dielectric constant film, on which a via-hole is formed, by lithography employing a chemically amplified resist.
ビアホールが形成された低誘電率膜の上に、化学増幅型レジストを用いたリソグラフィーにより、所望のトレンチパターンを持つレジスト膜を形成できるようにする。 - 特許庁 - To form the interference pattern with a plurality of concentrically disposed circles, a center O of the sphere forming the spherical mirror is located at a position slightly off from the converting point.
干渉パターンを複数の円が同心円状に配置されたものとするために、球面ミラーをなす球の中心Oは集光点から若干偏位した位置に配置される。 - 特許庁 - A part 60 around the least the etching hole of the oxide layer is isotropically etched to form a void under at least a part of a conductive player pattern.
酸化物層の少なくともエッチング孔の周りの部分６０を等方性エッチングすることにより、導電層パターンの少なくとも一部分の下に空洞が形成される。 - 特許庁 - The variable display device 13 switches the fluctuation form of the pattern at least once after fluctuation start until established display and also can change the timing of the changeover.
可変表示装置１３は、変動開始から確定表示までの間に、少なくとも１回図柄の変動態様を切換えるとともに、当該切換のタイミングを変更しうる。 - 特許庁 - To form a clear and fine pattern by making a fine nozzle hole diameter and a low driving voltage compatible and suppressing the scattering of droplets on a substrate to which fluid is to be discharged.
ノズル孔径の微細化と駆動電圧の低電圧化とを両立し、かつ吐出先基板での液滴飛散を抑制して鮮明な微細パターンを形成できるようにする。 - 特許庁 - To deeply form a protrusion and recess pattern such as a woodgrain vessel channel by embossing even in the case of giving a decoration layer by transferring in a woody decorative material used for a door or the like.
扉等に用いる木質化粧材に於いて、転写で装飾層を付与する場合でも、エンボスで木目導管溝等の凹凸模様を深く形成できる様にする。 - 特許庁 - On the insulating film layer a2, the capacitance element pattern is provided with belt-like patterns b23, b24, and b25 in a projected shape to form a capacitance element C61 for adjusting characteristics.
絶縁膜層ａ２上で、容量素子パターンに帯状パターンｂ２３，ｂ２４，ｂ２５を突き出し形状に設けて特性調整用の容量素子Ｃ６１を形成する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method for highly efficiently manufacturing a conductive material having a minute electroconductive metal layer patterned to any form including a discontinuous pattern.
不連続パターンを含め、任意の形状にパターニングされた微細な導電性金属層を有する導電性材料を高効率で生産可能な製造方法を提供する。 - 特許庁 - To form highly accurately a fine and complex uneven pattern corresponding to servo information.
サーボ情報に相当するような微細で複雑な凹凸パターンを高精度で形成できる凹凸パターン形成方法及びこれを用いた磁気記録媒体の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To form a selective pattern while changing one material into another, an electric circuit is manufactured which includes a capacitor, a coil, a resistance and a desired circuit element such as an active element.
材料を種々に変更しながら任意のパターンを作るために、コンデンサ、コイル、抵抗、能動素子等所望の回路素子を含んだ電気回路を製造できる。 - 特許庁 - To provide an adhesive paste component for printed wiring board interlayer connection, enable to form a bump which does not cause any defective connection with the material having high hardness, crack, or with a wiring pattern.
高い硬度、割れ、配線パターンとの接続不良のないバンプを形成することのできるプリント配線板層間接続用接着性ペースト組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a decorative form for concrete, which is lightweight, excellent in transferability, recycling efficiency, etc. and capable of a plurality of times of diversion when an embossing pattern is transfer-molded on a surface of the concrete.
軽量で、転写性、リサイクル性等に優れ、コンクリート表面への凹凸模様の転写成形に複数回転用が可能な、コンクリート用化粧型枠を提供する。 - 特許庁 - Thereby, a high-definition barrier rib pattern suitable for a high resolution display is provided with high form accuracy, and entire panel manufacturing processes can be simplified.
これにより、高解像度ディスプレイに適した高精細の隔壁パターンが高い形状精度で提供されるとともに全体的なパネル製作工程が単純化される。 - 特許庁 - This construction method for pressing includes the steps of laminating a plurality of one side conductor pattern films 1, pressurizing them while heating them, and adhering resin films 2 to each other to thereby form a multilayer substrate 6.
片面導体パターンフィルム１を複数枚積層し、これらを加熱しつつ加圧することにより、樹脂フィルム２を相互に接着して多層基板６を形成する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive paste composition which is inexpensive, can form a high-definition pattern, and has high adhesive strength as a thin film to ceramic, silicon and glass substrates.
安価で、高精細のパターンを形成することができ、かつセラミック、シリコンおよびガラス基板に対して薄膜で接着強度が高い感光性ペースト組成物を提供すること。 - 特許庁 - To easily form a plating film having a flatter surface and further free from intrusion of impurities without being influenced by the variation in wiring pattern shape.
配線パターン形状のばらつきに影響されることなく、表面がより平坦で、しかも不純物の混入のない良好なめっき膜を容易に形成できるようにする。 - 特許庁 - To provide an exposure apparatus which can favorably expose a large-size photosensitive substrate to form a transfer pattern, and to provide an exposure method using the exposure apparatus.
大面積の感光性基板に対して転写パターンの露光を良好に行うことができる露光装置及び該露光装置を用いた露光方法を提供することである。 - 特許庁 - To solve the problem that an inclination can not be detected only by printing a pattern and finding the distance between two patterns on a form for detecting the inclination of a carriage in the height direction.
キャリッジの高さ方向の傾きを検出するための用紙上にパターンを印刷して２つのパターン間距離を求めるだけでは傾きを検出することはできない。 - 特許庁 - To form a magnetic domain controlling film and an electrode film by undercutting an under-layered resist of a part used for machining track width of a read head, thereby forming a hollow lift-off-pattern.
リードヘッドのトラック幅加工に用いられる部位の下層レジストをアンダーカットして中空形状のリフトオフパターンを形成して磁区制御膜及び電極膜を形成すること。 - 特許庁 - A temporary fabric 1 is superimposed on an embroidery surface 4a of a ground fabric 4 and a stitching thread 6 is passed through the ground fabric 4 and the temporary fabric 1 to form a desired embroidery pattern 5.
仮布１を基布４の刺しゅう面４ａに重ね、基布４及び仮布１に刺し糸６を貫通させ所望の刺しゅう模様５を形成する。 - 特許庁 - The information to be recorded is divided into units of the information amount recordable on the openings which form an opening pattern (Step 101) and divided into recording units (Step 102).
記録する情報に対して、開口パターンを構成する開口に記録できる情報量の単位に分割し（ステップ１０１）、記録単位に分割する（ステップ１０２）。 - 特許庁 - A decorative layer 10, provided with cloth feel, is formed on the surface of the molded form by thermographic printing consisting of fabric pattern silk screen printing and painting.
布目模様のシルクスクリーン印刷と塗装により厚盛り印刷し、成形品の表面に布感触を具えた加飾層１０を形成したことを特徴とする。 - 特許庁 - To form a resist film with a desired trench pattern on a low dielectric constant film where a via-hole is formed, by means of lithography using a chemical amplification resist.
ビアホールが形成された低誘電率膜の上に、化学増幅型レジストを用いたリソグラフィーにより、所望のトレンチパターンを持つレジスト膜を形成できるようにする。 - 特許庁 - Subsequently, the magnetic layer is subjected to cutting processing with the nanoparticle film as a mask (c), and the nanoparticle film is removed to form a fine pattern 2 with a recessed and protruding shape on the magnetic layer (d).
その後、ナノ粒子膜をマスクにして磁性層を切削加工し（ｃ）、ナノ粒子膜を除去して磁性層に凹凸形状を持った微細パターン２を形成する（ｄ）。 - 特許庁 - The resist pattern for machining a conductive plug is formed in the lower layer wiring 4, and is used as a mask for etching the lower layer wiring 4 to form a conductive plug 6.
下層配線４に導電プラグを加工するためのレジストパターンを形成し、レジストパターンをマスクとして下層配線４をエッチングして導電プラグ６を形成する。 - 特許庁 - This method includes processes of: illuminating a pattern on the calibration device to form the illuminated image thereof; and directing the illuminated image toward an upper side of the pixel array through the lens.
校正装置上のパターンに照明を当ててその照明映像を形成させる工程、その照明映像を該レンズを介して該画素アレイ上に向けさせる工程を含む。 - 特許庁 - The method includes a step for pattering a substance film to form a substance film pattern after forming the substance film on a wafer having a plurality of independent patterning regions.
独立した複数のパターニング領域を有するウェーハ上に物質膜を形成した後、物質膜をパターニングして物質膜パターンを形成する段階を含む。 - 特許庁 - Then, after a resist film 13 is formed on the antireflection film 11 made brittle, it is patternwise-exposed and developed to form a resist pattern.
次に、脆弱化した反射防止膜１１の上にレジスト膜１３を形成した後、該レジスト膜１３に対してパターン露光及び現像を行なってレジストパターンを形成する。 - 特許庁 - To form an Ni replication with good reproducibility and an excellent uneven pattern in Ni to Ni electroforming, which is applicable to a scale below 100 nm.
Ｎｉ ｔｏ Ｎｉ電鋳において、再現性よく凹凸パターンの良好なＮｉ複盤の形成を可能とし、かつ１００ｎｍを切るスケールにおいても適用可能とする。 - 特許庁 - To provide an electron beam exposure system and electron lens, which focus a plurality of electron beams separately and thereby makes a wafer to be exposed on the electron beams to accurately form an accurate pattern.
複数の電子ビームをそれぞれ独立に集束させ、精度よくウェハにパターンを露光することができる電子ビーム露光装置及び電子レンズを提供する。 - 特許庁 - Metal-contained resin particles 16 are transferred to the substrate 11 by electrophotography according to a formation pattern of a wiring layer 13 to form a plating base layer 12.
基板１１上に電子写真方式を適用して金属含有樹脂粒子１６を、配線層１３の形成パターンに応じて転写して、メッキ下地層１２を形成する。 - 特許庁 - A plurality of substrates 41 are prepared, a Pt membrane 42 is formed on all the substrates 41, and a pattern is formed by the membrane 42 to form individual electrodes 24.
複数の基板４１を用意し、該複数の基板４１上全体にＰｔ膜４２を形成し、このＰｔ膜４２をパターン化することで個別電極２４を形成する。 - 特許庁 - A conductor is packed in the hole H and the groove G to form a second conductive layer 12 where a via hole and a wiring pattern are simultaneously and integrally formed.
穴Ｈおよび溝Ｇに導電体を充填することで、ビアホールおよび配線パターンが同時に一体的に形成された第２の導体層１２を形成する。 - 特許庁 - A laser controlling apparatus is equipped with a bar-code marker to form a bar code including the item information, the slit number and the cut number as a marking pattern in the X-ray film.
また、レーザー制御装置には、バーコードマーカーが設けられており、マーキングパターンとして品種、スリット番号、カット番号を含むバーコードをＸレイフィルムに形成する。 - 特許庁 - After the formation of an interlayer insulation film 6, the interlayer insulation film 8 is etched by reactive ion etching with a resist pattern 8 as a mask so as to form the connection hole (Figure 1 (a)).
層間絶縁膜６の形成後、接続孔を形成すべくレジストパターン８をマスクとして、反応性イオンエッチングにより層間絶縁膜８のエッチングを行なう（図１（ａ））。 - 特許庁 - Random pattern light is radiated from a near infrared projector 10a, and received by a near infrared camera array 10b to obtain three- dimensional form and motion data of an object.
近赤外プロジェクタ１０ａからランダムパタン光を照射し、近赤外カメラアレイ１０ｂで受光し、対象物体の三次元形状データ及び動きデータを取得する。 - 特許庁 - A protuberance 51 of a mold 5 is pressed to ink 2 on a flat plate blanket 1 to form a groove 21 with a pattern corresponding to the protuberance 51 on the ink 2.
平板ブランケット１上のインク２に対してモールド５の突起部５１を押し当てることにより、突起部５１に対応するパターンからなる溝部２１をインク２上に形成する。 - 特許庁 - The resist film 11 is selectively irradiated with extreme UV rays 12 patternwise and then developed with a developer solution to form a resist pattern 13.
レジスト膜１１に対して極紫外線１２を選択的に照射してパターン露光を行なった後、レジスト膜１１を現像液により現像してレジストパターン１３を形成する。 - 特許庁 - In addition, the frame fixes the resonators 116, 118 at an area with a small current density thereby avoiding an undesired disturbing component form being generating in the radiation pattern.
加えて、フレームは、電流密度の小さな領域に共振器１１６，１１８を固定し、それによって放射パターン内に望ましくない妨害成分を生じるのを回避する。 - 特許庁 - A part corresponding to the diode 2 of the lower part insulating layer 4 is irradiated with laser beam 11 to form a hole 12 reaching the metal film pattern 3 by laser abrasion.
下部絶縁層４のダイオード２に対応する位置にレーザ光１１を照射して、金属膜パターン３に達する孔１２をレーザアブレーションによって形成する。 - 特許庁 - An extracted waveform segment conditions a known geometrical form in order to decide whether the waveform shows a normal or modified pattern feature of the semiconductor layer.
前記抽出された波形セグメントは、前記波形が、半導体層の正規または変則パターン・フィーチャを示すか否かを決定するために、既知の幾何学形状を条件とする。 - 特許庁 - To form a pattern within limits of lithography by effectively using a side wall machining process even for various fine hole patterns having random patterns in addition to periodic patterns.
周期性パターンに加えてランダムなパターンを有する種々の微細ホールパターンに対しても、側壁加工プロセスを有効に利用してリソグラフィの限界以下のパターンを形成する。 - 特許庁 - This method can make the luminescence center form, by irradiating interference light of a laser beam, in the domain of the target corresponding to the above interference pattern.
この方法は、レーザー光の干渉光を照射することにより、ターゲットのうち、前記干渉パターンに対応した領域に発光中心を形成させることができる。 - 特許庁 - For example, a metallic plate is worked by metallic mold or etching treatment so as to form the conductive pattern, and cylindrically molded integrally with resin being the base material.
例えば，まず金属板を金型或いはエッチング処理により加工して導電性パターンを生成し，それを基材となる樹脂と一体的に円筒状に成形する。 - 特許庁 - A nickel plate is made to serve as an electrolytic plating lead to form a wiring pattern is formed by electrolytic plating, an insulating film is formed thereon, and lastly the nickel plate is removed by etching.
ニッケル板を電解メッキ用リードとして、電解メッキにより配線パターンを形成し、その上に絶縁膜を形成し、最後にニッケル板をエッチングにより除去する。 - 特許庁 - The ion guide is formed by forming electrode parts 11, 12 after a pattern on a flexible substrate 30, and fixing this substrate in a roll form by a cylindrical holding member 10.
フレキシブル基板３０上に電極部１１、１２をパターン形成し、これを丸めて円筒形状の保持部材１０により固定することによりイオンガイドを形成する。 - 特許庁 - The polysilicon film 12 is dry-etched using the resist pattern 14 and the patterned anti-reflection film 13A for the mask to form a gate electrode 12A composed of the polysilicon film 12.
ポリシリコン膜１２に対して、レジストパターン１４及びパターン化された反射防止膜１３Ａをマスクにドライエッチングして、ポリシリコン膜１２からなるゲート電極１２Ａを形成する。 - 特許庁
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