「form pattern」を含む例文一覧(4548)
＜前へ 1 2 .... 48 49 50 51 52 53 54 55 56 .... 90 91 次へ＞- To form a dummy conductive land in a layer where the connection pattern of a multilayer printed circuit board is not formed, to prevent through hole plating from being deformed due to thermal stress by the conductive land, and to secure the continuity between the connection pattern and through hole plating.
本発明は、多層プリント基板の接続パターンが形成されていない層にダミーの導電ランドを形成し、この導電ランドによってスルーホールメッキの熱ストレスによる変形を防止し、接続パターンとスルーホールメッキとの導通を確保することを目的とする。 - 特許庁 - In the hologram pattern 40 formed in the hologram optical element, the diffracted beam is twisted by a pattern 1a in the clockwise direction to form a semicircular spot Sa of the converging light on the light detecting parts A, B, crossing the division line LX of a quadripartite light detecting part 60.
ホログラム光学素子に設けられるホログラムパターン４０において、パターン１ａは回折光束を時計回りにねじり、４分割光検出部６０の分割線ＬＸを跨ぐように光検出部Ａ，Ｂ上に半円形状の集光スポットＳａを形成する。 - 特許庁 - To provide a vehicle light that is configured to form an additional light distribution pattern additionally by emission light from an additional lens formed integrally at the surrounding of a convex lens against a basic light distribution pattern, in which the shape of the convex lens and the additional lens is simplified.
基本配光パターンに対して、凸レンズの周囲に一体的に形成された付加レンズからの出射光により付加配光パターンを付加的に形成するように構成された車両用灯具において、凸レンズおよび付加レンズの形状を簡素化する。 - 特許庁 - The method includes a process of forming a photosensitive resin film containing silicon on the substrate to be treated, exposing and developing to form a photosensitive resin pattern and a process of exposing the photosensitive resin pattern to the plasma of a discharge gas containing oxygen.
被処理基板上にシリコンを含む感光性樹脂膜を形成した後、露光、現像処理して感光性樹脂パターンを形成する工程と、前記感光性樹脂パターンを酸素を含む放電ガスのプラズマ中に曝す工程とを具備したことを特徴とする。 - 特許庁 - To provide a method of patterning a lower layer film by which the film reduction of a resist pattern in the upper layer is suppressed and a pattern having sidewalls perpendicular to the film and a good square cross-sectional form can be formed with high resolution and high dimensional accuracy.
下層膜をパターニングする方法において、その上層のレジストパターンの膜減りを抑制するとともに、垂直な側壁を有し、断面が矩形の良好な形状を有するパターンを高い解像度、かつ高い寸法精度で形成する方法を提供する。 - 特許庁 - To enhance pattern printing accuracy and to provide an electronic component and method of manufacturing, capable of forming a pattern or an electrode film of proper prescribed thickness for each electronic component, to form an electrode on place of high aspect ratio.
従来の問題点であったパターン印刷精度を高めるだけでなく、電子部品の使用場所に適した所定の膜厚で、パターン及び電極を形成したり、更には、アスペクト比の高い部分にも電極を形成可能な電子部品及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide conductive paste capable of raising a yield by reducing an amount of waste generated during forming of a conductive pattern substantially more than before and making the conductor pattern with low specific resistance easily form at a large area in the small number of processes.
導体パターンの形成時に生じる廃棄物の量を従来よりも大幅に低減して、歩留まりを高めることができると共に、少ない工程数で比抵抗の低い導体パターンを容易に大きな面積に形成することができる導電性ペーストを提供する。 - 特許庁 - To provide a method for forming an electroless-plated film, which can form a thin film of an electrode pattern on a ceramic green sheet and manufacture layered electronic parts of high quality with high productivity; and to provide a device for forming a catalyst pattern for electroless plating.
セラミックグリーンシート上に電極パターンを薄く形成することができるとともに、生産性が高く、高品質の積層電子部品を得ることができる無電解めっき膜形成方法、及び、無電解めっきのための触媒パターン形成装置を提供する。 - 特許庁 - To form a mask pattern exhibiting a high verticality in an organic film of a multilayer resist which becomes an etching mask of a film to be etched, which includes the organic film stacked on the film to be etched and a resist film stacked on the organic film and in which a resist pattern is opened.
被エッチング膜の上に積層された、有機膜と、その有機膜の上に積層されたレジストパターンが開口したレジスト膜とを備える、被エッチング膜のエッチングマスクとなる複数層レジストの前記有機膜に、高い垂直性を有するマスクパターンを形成すること。 - 特許庁 - This method for manufacturing the stamper comprises a step of making the surface of a positive photoresist layer insolubilize, on which a latent image having the prescribed pattern is formed by exposing it to a laser beam, by treating it with a low-concentration alkaline developer and a step to furthermore develop the latent image by using the alkaline developer to form the prescribed pattern.
レーザー光の露光により所定パターンの潜像が形成されたポジ型フォトレジスト層の表面を低濃度のアルカリ現像液で処理することにより、フォトレジスト層の表面を難溶化した後、さらにアルカリ現像液で現像してパターン形成を行う。 - 特許庁 - This single steel filament 1 longitudinally having wave pattern kinks in about spiral or flat form has 0.25-0.40 mm filament diameter, 2,900-4,000 N/mm^2 tensile strength and 150-180 GPa Young's modulus after imparting the above wave pattern kinks.
長手に亘り略螺旋状あるいは略平面状の波形くせを有する単線１において、線径が０．２５〜０．４０ｍｍで引張強度が２９００〜４０００Ｎ／ｍｍ^２であり、かつ上記波形くせを施した後の縦弾性係数が１５０〜１８０ＧＰａである。 - 特許庁 - In a method for inspecting an ink jet head ejecting liquid drops to form an image, a predetermined pattern is printed on a medium and the capacity of the ink jet head is evaluated from the printed pattern.
液滴を吐出させて像を形成するインクジェットヘッドの検査方法において、媒体に所定パターンを印字し、その印字パターンからインクジェットヘッドの性能を評価する際、インク吐出口位置を測定し、インク吐出口から吐出されたインク液滴の到達位置を測定する。 - 特許庁 - In a hardness testing machine 100, the surface of a sample S is captured by a CCD camera 12, and a pattern formation program 63a is executed by a CPU 61, then, a user can form an optional pattern to be projected on the surface of the sample S.
硬さ試験機１００において、ＣＣＤカメラ１２により試料Ｓの表面が撮像され、ＣＰＵ６１が、パターン作成プログラム６３ａを実行することによって、その試料Ｓの表面に投影する任意のパターンをユーザが作成することができる。 - 特許庁 - A pattern to form on a wafer is stored in a pattern memory 11 and an intensity/phase calculator 12 calculates the interference intensity at each incident angle θ, the phase between two light beams, and the angular variation of interference reflectors 5a and 5b based on that information.
パターン記憶装置１１にはウエハ上に形成したいパターンが記憶されており、強度・位相計算装置１２はその情報を基に、各入射角θに対して干渉強度、２光束間の位相、干渉用反射鏡５ａ，５ｂの角度変化量を計算する。 - 特許庁 - To provide an actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition that excels in roughness property, exposure latitude, depth of focus and development defect performance and that allows to form a fine isolated line pattern of favorable shape, and to provide a pattern forming method using the same.
ラフネス特性、露光ラチチュード、焦点深度及び現像欠陥性能に優れ且つ良好な形状の微細な孤立ラインパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - A pattern to form on a wafer is stored in a pattern memory 8 and, based on that information, an intensity/phase calculator 9 calculates the interference intensity at each incident angle θ, the phase between two light beams, and the angular variation of interference reflectors 6a and 6b.
パターン記憶装置８にはウエハ上に形成したいパターンが記憶されており、強度・位相計算装置９はその情報を基に、各入射角θに対して干渉強度、２光束間の位相、干渉用反射鏡６ａ，６ｂの角度変化量を計算する。 - 特許庁 - A reinforcing pattern 6 which is obtained by extendedly arranging and setting the reinforcing fibers c in the circumferential direction and impregnating a resin therein and has shorter length than that of the main pattern 5, is wound on the outside of the inwardly bent and inwardly bulged part so as to form an outside layer.
強化繊維ｃを円周方向に引き揃え配置して樹脂を含浸させ竿の軸線方向に沿った長さがメインパターン５に比べて短い補強パターン６を、内向き屈曲した内向き膨出部の外側に巻回して外側層を構成する。 - 特許庁 - A substrate 1 is coated with a film 2 of a water-soluble photosensitive material containing a water-soluble photosensitive resin and trehalose or its derivative {figure 1 (a)}, the film 2 is exposed and developed to form a pattern 21 {figure 1 (b)} and a light absorbing layer 3 is formed on the substrate 1 with the pattern 21 {figure 1 (c)}.
基板１に、水溶性の感光性樹脂とトレハロースまたはその誘導体とを含有した水溶性感光材料の膜２を塗布し｛図１（ａ）｝、露光現像してパターン２１を形成し｛図１（ｂ）｝、その上に光吸収層３を形成する｛図１（ｃ）｝。 - 特許庁 - To sufficiently ensure brightness of a diffusion region of a light distribution pattern after reducing the longitudinal length of a lamp unit, in a vehicular headlamp which is structured to form a predetermined light distribution pattern by light irradiation from a projector type lamp unit.
プロジェクタ型の灯具ユニットからの光照射により所定の配光パターンを形成するように構成された車両用前照灯において、灯具ユニットの前後長を短くした上で、配光パターンの拡散領域の明るさを十分に確保可能とする。 - 特許庁 - When the graduated cylinder pattern 31 is fulfilled, that is, a prescribe quantity of the fuel is consumed, the graduated cylinder is made void to form an initial state and a tank pattern 33 having larger scale unit displays the variation image showing the liquid level rising of the variation portion of the granulated cylinder screen 31.
メスシリンダー図柄３１が満タンとなると、つまり所定量の燃料所費があるとカラの初期状態とされ、よりスケール単位の大きなタンク図柄３３にそのメスシリンダー図柄３１の変動分の液面上昇をさせる変動画像を表示させる。 - 特許庁 - To provide a colored curable composition for ultraviolet laser exposure which enables to form a pattern having high adhesion to a substrate, and to provide a pattern forming method using the colored curable composition, a method for manufacturing a color filter, a color filter obtained by the method, and a display including the color filter.
基板との密着性が高いパターンを形成しうる紫外光レーザー露光用着色硬化性組成物およびそれを用いたパターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、それにより得られたカラーフィルタ及び該カラーフィルタを備えた表示素子を提供する。 - 特許庁 - In an operation process of a display game likened to a slot machine, a concealing pattern for concealing identification information appears, and a part of a display form of the concealing pattern is varied according to whether the game condition is set advantageously to the player or not.
スロットマシンに見立てた表示遊技の実行過程で、識別情報を隠蔽するための隠蔽図柄を出現させ、かつ隠蔽図柄の一部の表示態様を遊技状態が遊技者にとって有利に設定されているか否かに応じて変更する。 - 特許庁 - To reduce control burdens relating to command transmission and reception when restarting power supply and to prevent the fact that a specified display result is to be derived and displayed at one special pattern display device from being predicted by the display form of the other special pattern display device.
電力供給再開時のコマンド送受に関わる制御負担を軽減し、一方の特別図柄表示器に特定表示結果が導出表示されることが、他方の特別図柄表示器の表示態様によって予測可能となってしまうことを防止する。 - 特許庁 - The method of forming wiring includes: jetting a colloidal metal solution onto a base material 10 by an inkjet system based on image data of a conductive pattern 14 and drawing; and then executing wet heat treatment on the base material to form a wiring having the conductive pattern.
基材１０上に、導電性パターン１４の画像データに基づいて、金属コロイド溶液をインクジェット方式により吐出して描画した後、前記基材上に、湿熱処理を施して前記導電性パターンを持つ配線を形成する配線形成方法。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition for suppressing the generation of residues after the development of a resist film thereof, while maintaining good adhesion of the resist film to a substrate so as to form a fine resist pattern, and a resist pattern forming method using the same.
微細なレジストパターンを形成するためにレジスト膜と基板との密着性を良好に維持しつつも、レジスト膜の現像後の残渣の発生を少なく抑えることができるポジ型レジスト組成物、及びこれを用いたレジストパターンの形成方法を提供すること。 - 特許庁 - To eliminate the electrode cut of an edge part and to accurately form the auxiliary conductor of a prescribed pattern with respect to a dielectric filter composed by forming the auxiliary conductor of the prescribed pattern on an open end face and conducting the auxiliary conductor with an outer conductor on the side of a side surface.
開放端面に所定パターンの補助導体を形成し、該補助導体を側面側の外導体と導通させてなる誘電体フィルタにあって、エッジ部分の電極切れをなくし、所定パターンの補助導体を精度よく形成し得るようにする。 - 特許庁 - The method for forming the electrode pattern comprises the steps of mixing the coating sintering auxiliary material 10 with coating electrode particles 22 obtained by coating the metal or the alloy particles with the thermoplastic resin layer to form a developer, and printing a predetermined pattern on the board 20 by using the developer by the electrophotography.
この被覆焼結助材１０と、金属又は合金粒子を熱可塑性樹脂層で被覆した被覆電極粒子２２を混ぜて現像剤を作成し、この現像剤を用いてガラス基板２０上に所定のパターンを電子写真法で印刷する。 - 特許庁 - To provide an actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition that excels in roughness property, exposure latitude, depth of focus and development defect performance and that allows to form a fine isolated space pattern of favorable shape, and to provide a pattern forming method using the same.
ラフネス特性、露光ラチチュード、焦点深度及び現像欠陥性能に優れ且つ良好な形状の微細な孤立スペースパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - The intruding amount of the non-fusible fiber 5 in the bonded site 4 is smaller than the intruding amount of the non-fusible fiber 5 at the part other than the bonded site 4 to form a pattern on the non-fusible fiber layer 3 corresponding to the pattern of the bonded sites 4.
接合部位４における非融着性繊維５の入り込み量は、接合部位４以外の部位における非融着性繊維５の入り込み量よりも少なく、それによって非融着性繊維層３に、接合部位４に対応するパターンが形成されている。 - 特許庁 - A second mask film 30 is formed on the second film 28, and a wiring pattern 32 is formed in the second mask film, and then, while the second mask film is being used as a mask, the second film 28 is etched to form a pattern 32 wherein the first mask film is exposed on the bottom.
第２の被エッチング膜上に第２のマスク膜３０を形成し、第２のマスク膜に配線パターン３２を形成し、第２のマスク膜をマスクとして、第２の被エッチング膜をエッチングすることにより、第１のマスク膜が底部に露出したパターン３２を形成する。 - 特許庁 - During high-beam irradiation, a direct light from the light source 22a injected into the first additional reflector 36L is reflected diagonally to the lower right and then reflected frontward from the second additional reflector 40R to form an additional distribution pattern in a central region of a high-beam distribution pattern.
ハイビーム照射時、第１付加リフレクタ３６Ｌに入射した光源２２ａからの直射光を、右斜め下方へ反射させた後、第２付加リフレクタ４０Ｒで前方へ反射させ、ハイビーム配光パターンの中心領域に付加配光パターンを形成する。 - 特許庁 - The method includes steps of providing a semiconductor substrate on which a gate electrode pattern is formed, implementing many-time simultaneous vapor deposition and etching processes to form an interlayer dielectric film made up of multilayer HDP oxidized films so as to embed the gate electrode pattern.
ゲート電極パターンが形成された半導体基板を提供する段階と、多数回の同時蒸着及びエッチング工程を行い、前記ゲート電極パターンが埋め込まれるように多層のＨＤＰ酸化膜からなる層間絶縁膜を形成する段階とを含む。 - 特許庁 - To provide a transfer member which suppresses defective formation and defective transfer of an electric conductor and can form and transfer a fine pattern and to provide a method for manufacturing the transfer member, electronic parts adaptable to high frequency and a pattern forming method.
本発明は、導電体の形成不良と転写不良を低減させ、ファインパターンを形成、転写することができる転写部材及びその製造方法と高周波に対応できる電子部品及びパターン形成方法を提供することを目的としたものである。 - 特許庁 - To form a mask pattern having high verticality in an organic film of a multilayer resist which is stacked on a film to be etched, which includes the organic film and a resist film where a resist pattern stacked on the organic film is opened, and which becomes an etching mask of the film to be etched.
被エッチング膜の上に積層された、有機膜と、その有機膜の上に積層されたレジストパターンが開口したレジスト膜とを備える、被エッチング膜のエッチングマスクとなる複数層レジストの前記有機膜に、高い垂直性を有するマスクパターンを形成すること。 - 特許庁 - In the business form for settlement, since a dot pattern corresponding to the information of the station used by the user is printed in the check box, first of all, the settlement server 5 specifies the station used by the user on the basis of position coordinates on the data pattern included in the entry data.
精算用帳票３はチェックボックスに利用者が利用した駅の情報に対応するドットパターンが印刷されているため、精算サーバ５は、まず、記入データに含まれるドットパターン上の位置座標に基づいて利用者が利用した駅を特定する。 - 特許庁 - In the method for manufacturing pattern member, a plurality of transfer sheets 32 formed by coating the respective surfaces of a plurality of belt-like flexible bases with different kinds of materials P are used to form the respective kinds of different materials P on the substrate B in pattern shapes.
複数枚の帯状可撓性支持体それぞれの表面に各種類の異なる材料Ｐが塗布形成されている複数枚の転写シート３２を用いて、基板Ｂ上に各種類の異なる材料Ｐをパターン状に形成するパターン部材の製造方法。 - 特許庁 - To provide an image processing program and an image processing apparatus that suppress a decrease in document picture quality resulting from composition of a pattern usable with an electronic pen, and also suppresses a waste of toner in printing of a pattern-composed image on a form.
電子ペンで利用可能なパターンを合成することによる原稿画質の低下を抑制し、パターンを合成した画像を用紙に印刷する場合におけるトナーの無駄な消費を抑制することができる画像処理プログラム及び画像処理装置の提供。 - 特許庁 - For example, when an overcoat film 13 made of silicon nitride is dry-etched with the resist pattern 24 for forming a contact hole 15 formed on the overcoat film 13 as a mask to form the contact hole 15, the surface altered layer 24a is formed on the surface of the resist pattern 24.
例えば、まず、窒化シリコンからなるオーバーコート膜１３をその上に形成されたコンタクトホール１５形成用のレジストパターン２４をマスクとしてドライエッチングしてコンタクトホール１５を形成すると、レジストパターン２４の表面に表面変質層２４ａが形成される。 - 特許庁 - The extra buried metal is removed by chemical- mechanical polishing to form a plug and a wiring, and then the resist pattern is removed to form an interlayer insulating film which includes an exposed plug and wiring on the first wiring 2 and made of SOG on the substrate 1.
埋め込んだ金属の余剰分を化学機械的研磨で除去してプラグ及び配線を形成した後、レジストパターンを除去し、第１の配線２上に露出されたプラグ及び配線を含み基板１上にＳＯＧからなる層間絶縁膜を形成する。 - 特許庁 - An electronic control type color printer is a printer to form an image 2 such as a picture and a pattern on transfer paper 3 which is an intermediate material by superposing for instance paints of four colors (yellow Y, cyan C magenta M and black K) so as to form the image 2 on ceramic 1.
電子制御式カラープリンタは、セラミックス１に、絵柄、図柄等の画像２を形成すべく、例えば４色の絵具（イエローＹ、シアンＣ、マゼンタＭ、ブラックＫ）を重ねるようにして、前記画像２を、仲介物となる転写紙３に形成するためのプリンタである。 - 特許庁 - This invention relates to the apparatus and the process for heat-treating a photosensitive element for forming especially a cylindrical flexographic form plate by forming especially a relief pattern for an apparatus and a process for forming the printing form plate from the photosensitive element having the cylindrical base material.
本発明は、円筒形支持体を有する感光性要素から印刷版を形成する装置およびプロセスに、特にレリーフパターンを形成し、特に円筒形のフレキソ印刷版を形成するために感光性要素を熱処理する装置およびプロセスに関する。 - 特許庁 - To provide an electronic pen input form, in which a dot pattern printed on the electronic pen input form with a colored ink is coated with a coat layer of a base paper surface color so that printing can be performed thereon in the same procedure as direct printing on the base paper surface.
電子ペン入力用帳票に有色インキで印刷されたドットパターンを基紙表面色によるコート層で被覆し、その上に基紙表面に直に印刷すると同じ手順で印刷できるようにした電子ペン入力用帳票を提供する。 - 特許庁 - In a circuit pattern 1a formed on an insulating substrate 1 on which a semiconductor element to be used under high voltage is mounted, the surface of an end 1c having a steeply rising form is covered with conductor material 5 in such as manner that the cross-section becomes a roundish form.
高電圧下で使用される半導体素子が搭載された絶縁基板１上に形成された回路パターン１ａにおいて切り立った形状を有する端部１ｃの表面を、その断面が丸みを帯びた形状となるように導電材料５で覆う。 - 特許庁 - This game machine is constructed so that a special game condition advantageous to the player is generated when a final stopping pattern combination form derived and displayed in a fluctuation display device becomes a special combination form after the game patterns are fluctuatingly displayed.
遊技図柄を変動表示させた後、変動表示装置に導出表示させる最終停止図柄の組合せ態様が特別の組合せ態様となった場合に遊技者に有利な特別遊技状態が発生するように構成された遊技機である。 - 特許庁 - A character recognizing part 32 performs character recognition about an image for performing character recognition to obtain a character recognition image whose character recognition is successful, and an integration form is determined by comparing the character recognition image with a predetermined pattern for integration form determination.
そして、文字認識部３２により文字認識するための画像について文字認識することで、文字認識に成功した文字認識画像を得て、該文字認識画像と予め定めた集約形式判定用パターンとを比較することで集約形式を判定する。 - 特許庁 - Further, the communication terminal is provided with a display switching function which switches the display of the display section 5 to a specific display form (c) including a pattern display different from conventional form (b) by designating the specific person beforehand by the user when the incoming call comes from the specific person.
特定者をユーザが予め指定しておくことにより、その特定者からの着信があったときには、表示部５の表示を、通常（ｂ）とは異なる絵柄表示を含む特定の表示形態（ｃ）に切替える表示切替えの機能を設ける。 - 特許庁 - The discharging head B3 includes a liquid guide mechanism for discharging from the nozzle 41 the liquid discharged from each dispenser container in a foam form or in a viscous liquid form in a cross sectional pattern having a layer structure where at least the upper surface of the first liquid layer is covered by the second liquid layer.
各吐出用容器体から泡状或いは粘性液状に吐出された液を、少なくとも第１液層の上面を第２液層が被覆する層構成を備えた断面パターンで、ノズル41から吐出する液誘導機構を吐出ヘッドB3内に備えている。 - 特許庁 - A template to be collated is retrieved from a template storage part 28 storing plural templates by photographing the partial image in the form of horizontal line of the recognition object with a line CCD camera 22 and horizontally slicing the pattern such as character or symbol of this image in a line form.
ラインＣＣＤカメラ２２により認識対象の水平なライン状の一部の画像を撮影し、この画像を文字や記号などのパターンを水平にライン状にスライスしてなる複数のテンプレートを記憶したテンプレート記憶部２８から照合するテンプレートを検索する。 - 特許庁 - Unit circuits each of which is a π-form resistance attenuator consisting of a thick film resistor 3 and a thick film conductor pattern 2 connected to the thick film resistor 3, which are formed on an insulation board 1, are provided onto the insulation board 1 to form the resistance attenuator.
厚膜抵抗体３及び該厚膜抵抗体３に接続された厚膜導体パターン２を絶縁基板１上に形成してなるπ型抵抗減衰器を単位回路として複数の単位回路を絶縁基板１上に設けて抵抗減衰器を形成する。 - 特許庁 - A polycrystalline silicon film is etched with a side wall 10 serving as a mask to form a gate electrode 13a relatively short in a gate length, and simultaneously the polycrystalline silicon film is etched with a resist pattern 12 serving as a mask to form a gate electrode 13b relatively long in a gate length.
サイドウォール１０をマスクとしてシリコン多結晶膜をエッチングし、ゲート長が相対的に短いゲート電極１３ａを形成し、同時にレジストパターン１２をマスクとしてシリコン多結晶膜をエッチングし、ゲート長が相対的に長いゲート電極１３ｂを形成する。 - 特許庁
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