「form pattern」を含む例文一覧(4548)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 90 91 次へ＞- To form a pattern, such as wiring in a self-alignment manner, when a pattern is formed by a liquid drop discharge method, and further to achieve higher adhesion of the pattern.
液滴吐出方法により配線等のパターンを形成する場合、自己整合的に形成し、さらに該パターンの密着性を高める。 - 特許庁 - To provide a pattern forming substrate which has a uniform continuous pattern form over a larger area compared with a pattern pitch.
パタンピッチに比べ大きな面積にわたり、均一で連続したパタン形状を有するパタン形成基板を提供することを目的の一とする。 - 特許庁 - To provide a pattern formation method and a pattern formation device which can form a desired pattern in a processing substrate by using F_2 laser beam.
Ｆ_２レーザ光を用いて、被加工基板に所望のパターンを形成することのできるパターン形成方法およびパターン形成装置を提供する。 - 特許庁 - The semiconductor crystal having the primary fine pattern formed thereon is wet-etched to expand the primary fine pattern in a horizontal direction to form a secondary fine pattern.
ここで、上記ウェットエッチング工程から得られた２次微細パターンの底面と側壁は夫々固有の結晶面を有することができる。 - 特許庁 - The heat-resistant fine particle layer is desirably formed to be a prescribed pattern, and this pattern and its reversal pattern can form a getter film.
耐熱性微粒子層は所定のパターンで形成することが望ましく、このパターンと反転するパターンでゲッタ膜を形成することができる。 - 特許庁 - To provide a pattern forming device which can form a high-quality high-definition pattern, and to provide a pattern forming method.
この発明は、高精細なパターンを高い品質で形成できるパターン形成装置、およびパターン形成方法を提供することを課題とする。 - 特許庁 - An electronic form system 9 opens the main form 11, selects a business pattern, and records the concerned entry form information in a common information file 13.
電子フォームシステム９は、メインフォーム１１を開き、業務のパターンを選択し、該当記入フォーム情報を共通情報ファイル１３に記録する。 - 特許庁 - To exactly and highly accurately inspect an appearance of a pattern based upon a comparative measurement with a pattern form optimal for a production process of a user by utilizing a pattern image of a reference mask whose pattern form is confirmed in advance when inspecting the appearance of a mask pattern.
マスクパターンの外観検査において、予めパターン形状を確認済みの基準マスクのパターン画像を利用することで、ユーザーの製造プロセスに最適なパターン形状との比較計測による正確かつ高精度なパターンの外観検査を行うことを課題とする。 - 特許庁 - The simulation device respectively displays a plurality of icons corresponding to a pattern variable display form, an advance announcement form, the form of background music, the form of effect sound, the lighting form of a board lamp and the lighting form of a frame lamp at the lower part of a display.
シミュレーション装置は、ディスプレイの下部に、図柄の可変表示態様、予告態様、ＢＧＭの態様、効果音の態様、盤ランプの点灯態様および枠ランプの点灯態様に対応したアイコンを、それぞれ複数表示する。 - 特許庁 - On a substrate, solution containing fine particles is ejected with an action force by mechanical displacement to form a rectangular pattern or to form an electrode pattern by combining the rectangular patterns wherein the corner part of the pattern is covered with a dot pattern.
基板上において、機械的変位による作用力で微粒子含有溶液を噴射させて、矩形パターンもしくは矩形パターンの組み合わせにより構成される電極パターンのコーナー部をドットパターンにより被覆するように打ち込む。 - 特許庁 - There is so provided a lead frame 41, wherein a circuit pattern 43 having the shape corresponding to the power pattern 2 is connected with the peripheral portion comprising a frame-form portion 49 as to superimpose it fixedly on the power pattern 2, and as to cut off the frame-form portion 49 from the fixed circuit pattern 43.
一方、パワーパターン２に対応した形状を有する回路パターン43を、周囲部である枠状部49に繋げてなるリードフレーム41を備え、パワーパターン２に重ね合せて固着した回路パターン43から、枠状部49を切り離す。 - 特許庁 - The resist 504 is patterned to form a resist pattern 508 having an opening.
レジスト５０４をパターニングし、開口部を有するレジストパターン５０８を形成する。 - 特許庁 - METHOD OF USING BLOCK COPOLYMER TO FORM FINE PATTERN OF SEMICONDUCTOR DEVICE
ブロック共重合体を利用した半導体素子の微細パターンの形成方法 - 特許庁 - The curable composition is useful to form a colored pattern of a color filter.
この硬化性組成物は、カラーフィルタの着色パターンの形成に有用である。 - 特許庁 - Thereafter, the mask layer (250) is patterned to form a pattern (254) therein.
その後、マスク層（２５０）はパターニングされて、その内部にパターン（２５４）が形成される。 - 特許庁 - METHOD AND APPARATUS FOR MANUFACTURING MOLD FOR PRECISION CASTING, AND LOST FORM PATTERN
精密鋳造用鋳型の製造方法および装置、並びに消失性模型 - 特許庁 - To accurately form a resist pattern on a substrate, where the thickness difference of resist occurs.
レジストの膜厚差を生ずる基板上にレジストパターンを精度よく形成する。 - 特許庁 - To prevent toner from wastefully consumed, in order to form a registration control pattern.
レジコンパターンを形成するために、トナーを無駄に消費しないことを目的とする。 - 特許庁 - To form a metal mask pattern having a high resistance to etching by using a wet method.
高エッチング耐性を有する金属のマスクパターンを湿式方法で形成する。 - 特許庁 - PROJECTOR TYPE VEHICULAR HEADLIGHT IN ORDER TO FORM TRAVELING BEAM LIGHT DISTRIBUTION PATTERN
走行ビーム配光パターンを形成するためのプロジェクタ型車両用前照灯 - 特許庁 - To form a resist pattern of excellent resolution and an excellent shape.
優れた解像度及び形状を有するレジストパターンを得ることを目的とする。 - 特許庁 - To efficiently form a predetermined fine pattern on a film to be treated on a substrate.
基板上の被処理膜に所定の微細なパターンを効率よく形成する。 - 特許庁 - To easily form a light distribution pattern which has lateral symmetry and vertical symmetry.
左右対称であって上下対称な配光パターンを容易に形成する。 - 特許庁 - To reduce the deformation of the form of a conductive pattern in a semiconductor device.
半導体装置における導体パターンの形状の変形を低減させること。 - 特許庁 - CONCRETE DECORATIVE FORM AND IRREGULAR-PATTERN FORMING METHOD FOR CONCRETE SURFACE USING THE SAME
コンクリート化粧型枠とそれを用いたコンクリート面の凹凸模様形成方法 - 特許庁 - To form a pattern image by a plurality of colors using a design desired by a user.
ユーザ所望のデザインを用いて地紋画像を複数の色で生成すること。 - 特許庁 - To form a doughnut pattern using a stencil reticle without performing complementary division.
コンプリメンタリ分割をすることなく、ステンシルレチクルを用いてドーナツパターンを形成する。 - 特許庁 - FORM WITH PROTRUSION AND RECESS PATTERN MADE OF COMPOSITE MOLDED PRODUCT AND ITS MANUFACTURE
複合成形品よりなる凹凸模様つき型枠およびその製造方法 - 特許庁 - To form respective circuit patterns on a printed board in the expected pattern width.
プリント基板上に、回路パターン各々を所期のパターン幅として形成すること。 - 特許庁 - FORMING METHOD OF METAL NANOPARTICLE SINTERED BODY LAYER HAVING FINE PATTERN FORM
微細なパターン形状を有する金属ナノ粒子焼結体層の形成方法 - 特許庁 - To provide a semiconductor pattern evaluation system wherein a means which obtains three-dimensional form information of a pattern by not-destroying style is realized and relation between the three-dimensional form information of the pattern and device property is evaluated.
パターンの立体形状情報を非破壊で得る手段を実現し、これらパターンの立体形状情報とデバイス特性の関係を評価する半導体パターン評価システムを提供する。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition which can form a fine resist pattern, which can control the taper angle of the resist pattern to a proper angle, and which can form a resist pattern excellent in the focal depth range.
微細なレジストパターンを形成でき、該レジストパターンのテーパー形状の角度を適度な角度に制御でき、また焦点深度幅に優れるレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition giving a relief pattern with high sensitivity, and to form a cured relief pattern having chemical resistance in the pattern after curing on a substrate.
本発明の感光性樹脂組成物は、高感度でレリーフパターンが得られ、硬化後のパターンに耐薬品性を有する硬化レリーフパターンを基板上に形成する。 - 特許庁 - A second exposure device, comprising a reticle comprising the same exposure pattern as the reticle, is used to form a second pattern on a resist film comprising the first pattern (S20).
上記レチクルと同じ露光パターンを有するレチクルを含む第２露光装置を用いて、第１パターンを有するレジスト膜に第２パターンを形成する（Ｓ２０）。 - 特許庁 - To form a fine pattern having both of a groove pattern and a hole pattern in the process of manufacturing a semiconductor device without carrying out vacuum vapor deposition.
半導体装置の製造工程において、真空蒸着処理を行わずに、溝状パターンと穴状パターンとが共存する微細パターンを形成する。 - 特許庁 - To provide a device and method for forming a pattern that can form a favorable pattern according to a predetermined pattern formation planned portion.
所定のパターン形成予定部に対応した良好なパターン形成をすることができるパターン形成装置及びパターン形成方法を提供することである。 - 特許庁 - To form a fine isolated pattern at almost the same degree as dense patterns in exposure for transferring a circuit pattern in which the isolated pattern and the dense patterns are mixed.
孤立パターンと密集パターンとが混在する回路パターンを転写する露光において、密集パターンと同程度に微細な孤立パターンを形成する。 - 特許庁 - A first conductive pattern 44 and a second conductive pattern 45 are provided in two layers at positions to form a two-layer pattern 46, thereby attaining high density of electronic parts 61.
二層パターン部46となる箇所は、第１導体パターン44と第２導体パターン45が二層に設けられており、電子部品61の高密度化を達成できる。 - 特許庁 - To diminish toner dust at the periphery of a circuit pattern and to sharply form a circuit pattern, when a circuit pattern is formed on a board by electrophotographic system.
電子写真方式により基板の上に回路パターンを形成する際、回路パターン周辺へのトナー塵が少なく、かつ鮮明に回路パターンを形成する。 - 特許庁 - To easily form not only a grain pattern but also a novel pattern such as a yarn-like or spidery pattern in a short time by a small amt. of a material.
石目柄はもちろん、糸状、蜘蛛の巣状等の新しいパターンを、短時間に且つ少量の材料で容易に形成する方法を提供する。 - 特許庁 - An electron beam irradiating pattern mask 10 is stuck close to an electron beam hardening type pattern formation layer 2, and the pattern formation layer 2 is irradiated with electron beams to form a prescribed conductive pattern.
電子線硬化型のパターン形成層２に電子線照射用パターンマスク１０を密着させ、パターン形成層２に電子線を照射し、所定の導電パターンを形成する。 - 特許庁 - To form accurately a desired fine width pattern without depending upon the roughness and fineness of pattern distribution irrespective of an extraction or remnant pattern with respect to a formation method of an electron device and a fine width pattern.
電子デバイス及び微細幅パターンの形成方法に関し、抜きパターンや残しパターンのいずれの場合もパターン分布の粗密に依存せずに所望の微細幅パターンを精度良く形成する。 - 特許庁 - A circuit pattern 15 having the structure, wherein a dammy pattern, the deformed pattern of a conductive line and the magnified pattern of the conductive line are formed individually or in assembled form, is provided on a circuit pattern 16 which is wider than 60 μm.
６０μｍより広い回路パターン１６の場所に、ダミーパターン、導電ラインの変形パターン、導電ラインの拡大パターンを単独あるいは組み合わせた構造とした６０μｍより狭い回路パターン１５を設ける。 - 特許庁 - In this case, when the pattern varies form the bottom to the top, the screen stops at a losing pattern or a jackpot pattern and when the pattern varies to the top from the bottom, the screen stops at the jackpot pattern with the reliability of 100%.
この場合、図柄が下から上へ向って変動したときには外れ図柄または大当り図柄で停止し、図柄が上から下へ向って変動したときには１００％の信頼度で大当り図柄で停止する。 - 特許庁 - The method further comprises the step of coating to form a silk pattern 8 on the wiring pattern except the land 5 in the region B.
そして、部品非搭載領域Ｂ内の独立ランド部５を除く配線パターン上にシルクパターン８を被覆形成した。 - 特許庁 - A developing apparatus 7 supplies a conductive particle dispersed solution 6 to this pattern to form a conductor pattern precursor.
現像装置７は、このパターンに導電性粒子分散溶液６を供給し導電パターン前駆体を形成する。 - 特許庁 - To obtain a pattern forming method which can form a detailed hole pattern while increasing dry etching endurance of resist.
レジストのドライエッチング耐性を向上させつつ、微細なホールパターンを形成することができるパターン形成方法を得る。 - 特許庁 - The resist pattern 50 thus formed is used to form the comb-like pattern of the surface acoustic wave device by a lift-off method.
また、形成されたレジストパターン５０を用い、リフトオフ法により弾性表面波装置の櫛歯状パターンが形成される。 - 特許庁 - Then, a beam with a second pattern is irradiated to a second target portion of the substrate to form the second pattern on the substrate.
その後、基板の第２ターゲット部分に、第２パターン付きビームが照射されて、基板上に第２パターンを形成する。 - 特許庁 - Subsequently, the resist film subjected to the pattern exposure is developed to form a resist pattern 302a.
続いて、パターン露光が行なわれたレジスト膜３０２に対して現像を行なうことによりレジストパターン３０２ａを形成する。 - 特許庁
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