「form pattern」を含む例文一覧(4548)

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  • This strip-like transfer die 20 for a pattern transfer is provided with some fine corrugations pressed and transferred to the surface of a transferred item such as a beverage can to form a hologram and the die is constituted of a metallic thin film 23 continuously formed by an electroforming roll 21 having some fine corrugations formed.
    飲料缶などの被転写体の表面に押圧転写してホログラムを形成するための微小凹凸を備えた紋様転写用の帯状転写型材２０を、微小凹凸が形成された電鋳ロール２１により連続成形した金属薄膜２３で構成するようにする。 - 特許庁
  • Since a reflector 1 is divided into plural blocks in a radiating direction around a light source 2 and at least part of them are tilted inward by θ, the reflected light corresponding to the tilted blocks is diffused in a form separated from an optical axis X, so that the preferable light distribution pattern can be provided.
    リフレクタ１を光源２を中心とした放射方向で複数のブロックに分割し、そのうちの少なくとも一部を、θ分だけ内側に傾けたたため、傾けたブロックに相当する反射光は、光軸Ｘから離れた状態で拡散し、好ましい配光パターンが得られる。 - 特許庁
  • In the same manner, in the metal layer M6 of a sixth layer, the metal region at a site superposed while opposing to the GND pattern G7 of the metal layer M7 of a seventh layer is removed to make an opening while this opening is filled with glass epoxy resin or the like to form a dielectric region D6.
    同様に、第６層の金属層Ｍ6では、第７層の金属層Ｍ7のＧＮＤパターンＧ7と相対向して重合する部位の金属領域が除去されて、開口部とされ、この開口部には、ガラスエポキシ樹脂等が充填されて誘電体領域Ｄ6が形成されている。 - 特許庁
  • A multilayer substrate transformer is constituted such that a plurality of substrates 10 equipped with a coil pattern on the surface are laminated and integrated via an insulating layer (prepreg) 12 put in between, and a selective connection between coil patterns located up and down is carried out so as to form winding by the side of excitation and winding by the side of power reception.
    表面にコイルパターンを備えている基材１０を複数枚、間に絶縁層（プリプレグ）１２を介して積層一体化し、上下に位置するコイルパターン間を選択接続することにより、励磁側の巻線と受電側の巻線を形成することで多層基板トランスを構成する。 - 特許庁
  • To provide a powder coating composition which is adaptable to any powder coating material, can be produced easily at a low cost without changing the production process, and can form a satin-like uneven-patterned coating film with high design properties expressed by a homogeneous, compact, and fine pattern.
    任意の粉体塗料に適用可能で、製造工程を何ら変更する事無く容易且つ安価に粉体塗料を得ることができ、均一かつ緻密で微細な模様で表現される、意匠性の高いサテン調の凹凸模様塗膜を形成する粉体塗料組成物を提供する。 - 特許庁
  • To clearly form a cut-off line and secure the sufficient amount of light in the vicinity of the cut-off line for enhancing the distant visibility, in a vehicle headlight that carries out low-beam irradiation in a light-distribution pattern having a prescribed cut-off line, even if the right-to-left width of its reflector is small.
    所定のカットオフラインを有する配光パターンでロービーム照射を行う車両用前照灯において、たとえそのリフレクタの左右幅が小さい場合であってもカットオフラインを明瞭に形成するとともにカットオフライン近傍部分の光量を十分に確保して遠方視認性を高める。 - 特許庁
  • To provide an optical functional sheet that can form a fine pattern without requiring strict parallelism of incident light and that can be used for a liquid crystal display, in particular, a reflective or transflective liquid crystal display performing image display using reflected external light, and to provide a method for manufacturing the sheet.
    厳密な入射光の平行性を必要とせずに微細パターンを形成可能な、液晶ディスプレイ、特に外光の反射光を利用して画像表示を行う反射型あるいは透過反射型の液晶ディスプレイに使用される光学機能シートおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁
  • The step of forming the resist 7 can form the resist 6 at a part excepting the discontinued wiring correctly and easily by using a step of applying the resist 6 on the wiring board, a step of again exposing the circuit pattern of the wiring board, and a step of developing the exposed region.
    前記レジストを形成する工程は、前記配線基板にレジストを塗布する工程と、当該配線基板の回路パターンを再度露光する工程と、この露光した領域を現像する工程とを用いることにより、正確かつ容易に断線以外の部分にレジストを形成することができる。 - 特許庁
  • To provide a radiation-sensitive resin composition having high radiation sensitivity, having such a development margin as to form a good pattern profile even in a developing time exceeding the optimum developing time in a developing step, and capable of easily forming a patterned thin film excellent in adhesion.
    高い放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁
  • To provide a photosensitive resin composition which can form a resist having an excellent resolution and adhesion property to a substrate and can realize high density in a printed wiring board, and to provide a photosensitive element using the composition, a method for manufacturing a resist pattern and a method for manufacturing a printed wiring board.
    解像性及び基板に対する密着性に優れるレジストが形成可能であり、プリント配線板の高密度化が実現できる感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法を提供すること。 - 特許庁
  • After applying RTA process higher than the film-forming temperature to a layer insulation film 15, composed of phosphorus-added silicon oxide film, this film 15 and a silicon nitride film 14 are etched through a mask having a photoresist pattern 16 to form contact holes 17.
    リンが添加された酸化シリコン膜によって構成される層間絶縁膜１５に、成膜温度以上の温度でＲＴＡ処理を施した後、フォトレジストパターン１６をマスクとして層間絶縁膜１５および窒化シリコン膜１４を順次エッチングし、コンタクトホール１７を形成する。 - 特許庁
  • When forming developer images of the respective colors LC, LM and Y, an exposure device 3 exposes and scans a photoreceptor drum 1 with a laser beam so as to form the same color dot toner image on each of the decided forming positions, based on the dot pattern signal b.
    露光装置３は、ＬＣ，ＬＭ，Ｙの各色の現像剤像をそれぞれ形成する際に、上記ドットパターン信号ｂに基づいて決定された形成位置のそれぞれに同一色のドットトナー像を形成するように、レーザ光により感光ドラム１上を露光走査する。 - 特許庁
  • In order to form an opening of a solder resist layer by a photolithography process employing photosensitive resin, the inside diameter D' of the opening of the solder resist layer reflected on CAD data is converted, as CAM data, into the outside diameter D_0 of a mask pattern for the opening of an exposure mask for photolithography.
    感光性樹脂を用いたフォトリソグラフィー工程によりソルダーレジスト層の開口を形成するために、ＣＡＤデータに反映されたソルダーレジスト層の開口内径Ｄ’を、フォトリソグラフィー用露光マスクの開口用マスクパターン外径Ｄ_０に、ＣＡＭデータとして変換する。 - 特許庁
  • A thin conductive film layer 3 or the like is provided on an insulating base material 1 of a one-sided copper-clad laminate, the insulating base material 1 is processed using the thin film layer 3 to make a hole 5 therein and then subjected to a plating treatment to form a via hole 6 and a necessary wiring pattern 7.
    片面銅張積層板の絶縁べ−ス材１上に導電性等の薄膜層３を設け、この薄膜層３を利用して絶縁べ−ス材１に対する導通用孔５の加工処理を施した後、メッキ手段でビアホ−ル６及び所要の配線パタ−ン７を形成する。 - 特許庁
  • This lighting device 10 for a vehicle is constructed in such a way that it may form a light distributing pattern P having at least two high lumen regions HZ within an angular range of each of the right and left regions by 20° and each of upper and lower regions by 10° in regard to a front surface direction of the vehicle.
    車両用灯具１０を、該車両用灯具１０からの光照射により、車両正面方向に対して左右各２０°および上下各１０°の角度範囲内に少なくとも２つの高光度領域ＨＺを有する配光パターンＰを形成するように構成する。 - 特許庁
  • In a semiconductor device 10, a semiconductor chip 12 is embedded between a first insulating layer 18 and a second insulating layer 20 which form an insulating layer 14, and a wiring pattern 24 formed on the first insulating layer 18 is directly connected to electrode pads 22 of the semiconductor chip 12.
    半導体装置１０は、半導体チップ１２を絶縁層１４を成す第１絶縁層１８と第２絶縁層２０との間に埋め込むように構成し、半導体チップ１２の電極パッド２２に第１絶縁層１８に形成される配線パターン２４を直接接続するように構成されている。 - 特許庁
  • A microlens array pattern 56 is formed on the surface of a lens resin layer 52 formed on base glass 51, a sealing resin layer 58 is laminated on the lens resin layer 52, the surface of the layer 58 is made flat and cover glass 59 is put on the flat surface to form a microlens array substrate 61.
    ベースガラス５１の上に形成されたレンズ樹脂層５２の表面にマイクロレンズアレイパターン５６を形成し、レンズ樹脂層５２の上に封止樹脂層５８を積層して表面を平坦化し、その上にカバーガラス５９を積層してマイクロレンズアレイ基板６１を形成する。 - 特許庁
  • To provide a new method for preparing a cell culture substrate having cells in a highly fine patterned form and used for culturing the cells while maintaining the pattern for a long period, and an apparatus used for the preparing method.
    本発明は、基材上に細胞を高精細なパターン状に接着し、長期にわたりパターンを維持しながら細胞を培養させるために用いられる細胞培養基板の新たな製造方法、およびその製造方法に用いられる製造装置を提供することを主目的としている。 - 特許庁
  • The optical retardation layer laminated body is characterized by comprising a substrate with an orientation function and the optical retardation layer having a liquid crystal material capable of forming a nematic phase, which is formed into a pattern form so as to have a refractive index anisotropy, formed on the substrate.
    上記目的を達成するために、本発明は、配向能を有する基材と、上記基材上に、ネマチック相を形成し得る液晶材料が屈折率異方性を有するようにパターン状に形成された位相差層とを有することを特徴とする位相差層積層体を提供する。 - 特許庁
  • To provide a manufacturing method of a printed wiring board with high reliability at low cost by making a clear pattern transfer on an insulating layer on the board an filling the precessed circuit form, which indicates the transferred wiring, with conductive paste without using injection molding or transfer molding.
    射出成型やトランスファ成型を用いることなく、基板上の絶縁層に鮮明な配線転写を行い、更に転写された配線を示す凹型回路型に配線用導電性ペーストを充填することによって、高い信頼性を持つ印刷配線板の製造方法を安価に提供する。 - 特許庁
  • The method of manufacturing a pattern substrate includes a step of exposing a resist through the halftone mask and developing the resist to form resist patterns 81, 82, 83 in different film thicknesses, and etching films 6, 7 on the substrate through the resist patterns 81, 82, 83.
    また、本発明にかかるパターン基板の製造方法は、ハーフトーンマスクによってレジストを露光する工程と、レジストを現像し、膜厚差を有するレジストパターン８１、８２、８３を形成する工程と、レジストパターン８１、８２、８３を介して基板上の膜６、７をエッチングする工程と、を備える。 - 特許庁
  • At the manufacture of the magnet 24, magnetic powder is lined up to form a magnetic powder pattern having firstarea magnetic power lines, which are substantially in parallel with the first area axis in the first area and second area magnetic power lines which are arranged in the second area at an angle with respect to the first area axis.
    製造時に磁粉が整列されて、第１領域軸に実質的に平行な、第１の領域における第１領域磁粉線と、第１領域軸に対して角度をつけられて配置された、第２の領域における第２領域磁粉線とを有する磁粉パターンを形成する。 - 特許庁
  • A reactive surface relief type hologram film 1a of a first layer is used as a base, and a multiple thin laminated film 2a×N of a second layer and a printed pattern 3a of a third layer are laminated on a hologram film, and an emboss transparent film or plate 4a of a fourth layer is laminated thereon to form a laminated structure.
    第１層の反射表面レリーフ型ホログラムフィルム（１ａ）を基材とし、その上に第２層の多重薄膜積層フィルム（２ａ×Ｎ）と、第３層の印刷パターン（３ａ）を重ね、さらに第４層のエンボス透明フィルム又はプレート（４ａ）を重ねた積層構造にしたことを特徴とする。 - 特許庁
  • To improve a finishing precision and productivity by preventing the generation of dislocation in the boundary part between a molding and a decorative material in a method in which the decorative material is fitted in the recessed part of the molding to be bonded/fixed and to form a complex inlaid pattern.
    加飾素材を成形品の凹陥部にはめ込んで接着固定する手法において、成形品と加飾素材の境界部にずれが発生することがないようにして仕上がりの精度および生産性を向上するとともに、複雑な象嵌調の模様の形成を可能とする。 - 特許庁
  • Embossing process is carried out by passing a water-soluble film between an embossed roll marked with uneven shape having satin patterns and a back up roll to form the satin patterns with the surface roughness (Ra) 0.1-8 μm and the uneven pattern with less than 100 meshes and 50-300 μm deep.
    梨地模様をもつ凹凸形状が刻印されたエンボスロールとバックアップロールの間に水溶性フィルムを通過させてエンボス加工を行い、該フィルム面に表面粗さ（Ｒａ）が０．１〜８μｍの梨地模様と１００メッシュ以下で深さが５０〜３００μｍの凹凸模様とを形成させる。 - 特許庁
  • To provide a projector type vehicular lamp which improves efficiency in utilizing light source flux, and in addition can form a hot zone in a position to a driver's own lane with respect to a lamp front direction without sacrificing a diffusion angle on a driver's own lane side in a light distribution pattern for low beam.
    光源光束の有効利用を図った上で、ロービーム用配光パターンにおける自車線側の拡散角を犠牲にすることなく、そのホットゾーンを灯具正面方向に対して自車線寄りの位置に形成することができるプロジェクタ型の車両用照明灯具を提供する。 - 特許庁
  • The lithography apparatus includes: a projection system configured to project a beam of radiation as an array of sub-beams of radiation and an array of individually controllable elements configured to modulate the sub-beams of radiation to form a requested dose pattern on a substrate.
    一連の放射線のサブビームとして放射線のビームを投影するように構成された投影システムと、要求ドーズ・パターンを基板上で形成するために、放射線のサブビームを変調するように構成された個別に制御可能な要素のアレイとを含むリソグラフィ装置。 - 特許庁
  • Even if ammonia molecules 11 stick on the antireflection film 7, the diffusion of the acid catalyst 8 in the antireflection film 7 is suppressed because the pH of the antireflection film 7 is low and the deterioration of the accuracy of the form of a resist pattern due to the deactivation of the acid catalyst 8 is suppressed.
    反射防止膜７の上にアンモニア分子１１が付着しても、反射防止膜７のｐＨが低いので、反射防止膜７内における酸触媒８の拡散が抑制され、酸触媒８の失活に起因するレジストパターンの形状精度の悪化が抑制される。 - 特許庁
  • Addition of a resol resin of 1-4 pts.wt. to the polyimide compound can provide the polyimide composition that can form a prescribed pattern in a good state by alkali development using the aqueous alkali solution, has plating resistance, and provides the flexible wiring board.
    このポリイミド化合物に１重量部から４重量部のレゾール樹脂を添加させることで、アルカリ水溶液によるアルカリ現像によって良好に所定のパターンが形成できると共に、耐めっき性が付与されたポリイミド組成物及びフレキシブル配線板を提供することができる。 - 特許庁
  • The method includes steps of: selectively depositing a phase change resist having high light transmittance onto a dielectric to form a pattern; etching away portions of the dielectric not covered by the resist; and depositing a metal seed layer on the etched portions of the dielectric.
    方法は、高い光透過性を有する相変換レジストを誘電体上に選択的に堆積させてパターンを形成すること、そのレジストで覆われていない誘電体の部分をエッチング除去すること、並びにその誘電体のエッチングされた部分上に金属シード層を堆積させることを含む。 - 特許庁
  • The lithographic apparatus includes an illumination system configured to provide a radiation beam, a patterning device configured to pattern the radiation beam to form a patterned radiation beam, and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a substrate.
    リソグラフィ装置は、放射ビームを提供するように構成された照明系と、パターニングされた放射ビームを形成するために、放射ビームをパターニングするように構成されたパターニング装置と、パターニングされた放射ビームを基板上に投影するように構成された投影系とを含む。 - 特許庁
  • Although the crown prince's reifuku was replaced by a red kushofuku in the early Heian period (after choga was abolished in the middle of the Heian period, the crown prince's reifuku fell into disuse), oni no ho was continuously used for chofuku and the use of the eno-maru (a design in which mandarin ducks form a circle) pattern became common practice.
    平安時代前期には皇太子の礼服は赤色の九章服になったが（さらに朝賀の廃止された平安中期以降は、皇太子の礼服の着装例がない）、朝服においてはその後も使用され、文様も鴛鴦丸（えんおうまる）が使われることが一般化した。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • To provide a printing paste for absorbing an electrode bump, which is used for manufacturing a laminated ceramic electronic component, able to sheet attack effectively even when the thickness of a ceramic green sheet is thinned, and able to form a margin pattern layer, having high air permeability, while holding viscosity suitable for printing.
    積層セラミック電子部品を製造するために用いられ、セラミックグリーンシートの厚みを薄層化した場合においても、シートアタックを有効に防止でき、かつ、印刷に適した粘度を保持しながら、通気性の高い余白パターン層を形成可能な電極段差吸収用印刷ペーストを提供すること。 - 特許庁
  • A first resin pattern 12p having lower adhesiveness to the surface of an unhardened resin sheet than the surface of a first conductive substrate having the conductive surface is formed on the first conductive substrate (10, 11) to form a master substrate for the formation of a second conductive layer.
    表面が導電性である第１の導電性基板（１０，１１）上に、第１の導電性基板の表面よりも未硬化樹脂シートの表面に対して接着性が低い第１の樹脂パターン１２ｐを形成して第２の導電層形成用のマスター基板を形成する。 - 特許庁
  • Each design pattern 5 is partitioned to form a design part 6 with a plurality of vertical grooves 6a arranged; a design part 7 with a plurality of lateral grooves 7a arranged; a design part 8 with a plurality of inclined grooves 8a arranged downward to the right; and a design part 9 with a plurality of inclined grooves 9a arranged downward to the left.
    各意匠パターン５に、縦溝６ａを複数並べた意匠部６と、横溝７ａを複数並べた意匠部７と、右下がり傾斜溝８ａを複数並べた意匠部８と、左下がり傾斜溝９ａを複数並べた意匠部９とを区画して形成する。 - 特許庁
  • Consequently, contact holes 52 and 453 penetrating the thick resin film 5 are formed after unset resin is removed and at the same time, the reflection type pixel electrode 62 is made uneven to form an uneven pattern 55 for preventing a glaring reflection on the surface of the thick resin film 5.
    これにより、未硬化樹脂を除去した後には、厚型樹脂膜５を貫くコンタクトホール５２，５３が形成されるとともに、同時に、厚型樹脂膜５の表面に、反射型画素電極６２を凹凸させて眩光反射(glaring)を防止するための凹凸パターン５５が形成される。 - 特許庁
  • In the exposure method, a photosensitive resin 2 provided on an upper surface of a substrate 1 is irradiated with light through a mask member disposed above the photosensitive resin 2 to form a specified exposure pattern comprising an exposed part and an unexposed part on the photosensitive resin 2.
    この露光方法は、基板１の上面に設けた感光性樹脂２に、当該感光性樹脂２の上方に配したマスク部材を介して光を照射することで、感光性樹脂２に露光部分と未露光部分とからなる特定の露光パターンを形成するものである。 - 特許庁
  • A photomask 1 comprises a pillar mask base substance 2 made of materials passing exposure light and with at least the circumference partially built in a form of circular arc and a fine pattern 3 whose opening width smaller than the wavelength of the exposure light produced at the circular arc of the circumference of the mask substrate 2.
    フォトマスク１は、露光光を透過する材料で形成されて少なくとも外周面の一部が円弧形状に形成された柱状のマスク基体２と、マスク基体２の外周面の円弧形状部分に形成された露光光の波長以下の開口幅の微細パターン３とを具備する。 - 特許庁
  • An island-shaped metal pattern 71 comprising the gate electrode 71A and its extension portion 71B substantially form electric capacity only with the one lead-out wiring 12-1, so that no undesirable interference is caused between the lead-out wires 12, i.e. signal lines or scan lines.
    なお、ゲート電極７１Ａ及びその延在部７１Ｂからなる島状金属パターン７１は、実質上、一方の引き出し配線１２−１との間でのみ電気容量を形成するので、引き出し配線１２間、すなわち信号線または走査線同士で、不所望の干渉が生じない。 - 特許庁
  • A clear case formed by bending a transparent plastic sheet is provided with an embossed part (11) with an uneven height difference of ≥0.01 mm and <0.3 mm, and a line pitch of ≥0.01 mm and <0.3 mm on the surface of the plastic sheet (10) in a pattern-like form.
    透明なプラスチックシートを折り曲げ加工して形成されたクリアケースであって、プラスチックシート（１０）の表面に凹凸の高度差が０．０１ｍｍ以上、０．３ｍｍ未満で、線ピッチが０．０１ｍｍ以上、０．３ｍｍ未満の凹凸部（１１）がパターン状に設けられている。 - 特許庁
  • With the pattern of the oxide film as a mask, the exposed section of the face (100) of the silicon substrate 41 is etched through liquid-phase etching to form an inverted trapezoid groove 42, which has an inclination of 54.74° with respect to the face (100) of the silicon substrate 41 and having the same width as that of a semiconductor laser element 5.
    酸化膜のパターンをマスクにして液相エッチングによりシリコン基板の（１００）面の露出部をエッチングして、シリコン基板４１の（１００）面に対して角度が５４．７４度傾いた傾斜面を有し、半導体レーザ素子５の幅と一致する逆台形状の溝４２を形成する。 - 特許庁
  • To provide a semiconductor device manufacturing method which enables transfer with higher precision ultra-fine resist pattern by reducing light reflectivity of lower-layer metal and secures selection ratio of masks and metal to form ultra-fine metallizing by implementing the metal etching via a hard mask of an oxide film.
    下地メタルの光反射率を低減させて微細なレジストパターンを高精度に転写すると共に、メタルエッチングを酸化膜のハードマスクを介して実施することでマスクとメタルのエッチング選択比を確保して微細なメタル配線を形成することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
  • The radiation sensitive resin composition can form a resist film to be used in a resist pattern forming method including a liquid immersion exposure step using bicyclohexyl as the liquid immersion exposure liquid, wherein the refractive index of the resist film to radiation having a wavelength of 193 nm is 1.64 to 1.75.
    液浸露光用液体としてビシクロヘキシルを用いた液浸露光工程を含むレジストパターン形成方法に用いられるレジスト膜を形成することができ、レジスト膜の、波長１９３ｎｍの放射線に対する屈折率が１．６４〜１．７５である感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁
  • To provide a processing method and processing apparatus of a wiring board which does not cause deterioration such as peeling of a copper foil and a solder which form a circuit pattern when divided, and performs processings efficiently, with no sticking of a carbide and no residual crack on the surface of the wiring board and a cutting plane after processing.
    加工後に、配線基板表面や切断面に炭化物の付着、割れの残留がなく、分割時に回路パターンを形成する銅箔やはんだが剥離するなどの品質低下を招くことのない加工を効率よく行うことが可能な配線基板の加工方法および加工装置を得る。 - 特許庁
  • A seed resin containing a colorant, of which the MFR value is lower than that of the base resin of the surface layer material, is mixed with the base resin and the resulting surface layer resin mixture is subjected to extrusion molding to form a pattern due to the seed resin in the surface layer material.
    着色剤を含有し且つそのＭＦＲ値が表層材ベース樹脂のＭＦＲ値よりも低い種剤樹脂をベース樹脂と混合してなる表層用樹脂を押出成形することにより表層材中に上記種剤樹脂による模様が形成された上記多層押出成形体。 - 特許庁
  • Connection pins 20 having portions 56 continuous to the slender terminals 20 or the busbars 16 and portions 58 which is not continuous with the slender terminals 12 and the busbars 16 are inserted to pin insertion holes that penetrate the laminate, thus selectively performing an inter-layer connection and an in-layer connection to form a desired connection pattern.
    この積層体を貫通するピン挿通孔に、前記端子12又はバスバー16と導通する部分56と前記端子12及びバスバー16と導通しない部分58とを設けた接続ピン20を挿通することにより選択的に層間接続及び層内接続を行い、所望の接続パターンを形成する。 - 特許庁
  • The top rod is produced by winding a prepreg sheet on a mandrel to form a rod material, helically winding a shape-forming tape on the rod material, baking the wound product, separating the shape-forming tape after baking to leave the helical streak pattern b, and subjecting the separated product to finishing treatment by buffing.
    マンドレルにプリプレグシートを巻回して竿素材を形成し、その竿素材に対して螺旋状に成形テープを巻き付けたものを焼成するとともに、焼成後に成形テープを剥がすことによって螺旋状の条痕ｂを残し、剥がした後にバフ研磨仕上処理を施す。 - 特許庁
  • The upper stage light source unit 20, the middle stage light source unit 40, and the lower stage light source unit 60 are provided in a lamp body 14 that is a light body through a support member 15, and light from the respective light source units 20, 40, 60 is superposed to form a low beam light distribution pattern in front of a vehicle.
    上段光源ユニット２０、中段光源ユニット４０、下段光源ユニット６０は、支持部材１５を介して灯体であるランプボティ１４に設けられており、各光源ユニット２０，４０，６０からの光が重ね合わせられて車両前方にロービーム配光パターンが形成される。 - 特許庁
  • To form a preferred shape pattern on a chemically-amplified positive resist applied to a substrate before or after immersion exposure by exposing the resist before heating to cause an acid catalysis only on the surface of the resist.
    化学増幅型ポジレジストが塗布され、そのレジストにパターンを形成するために液浸露光が行われる前あるいは行われた後の基板について、そのレジストの表面のみを酸触媒反応を起こすための加熱処理前に露光して、良好な形状のパターンを形成すること。 - 特許庁
  • The conjugated cyclic compound is caused to photopolymerize by the pulsed laser light L at the irradiation position P of the material S to react while controlling the irradiation position P thereby to form the reaction product containing the conductive conjugated polymer in the predetermined pattern.
    そして、被反応物Ｓの照射位置Ｐにおいて、パルスレーザ光Ｌによって共役環状化合物を光重合反応させるとともに、照射位置Ｐを制御することにより、電気伝導性の共役高分子を含む反応生成物を所定のパターンで形成する。 - 特許庁
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