「form pattern」を含む例文一覧(4548)
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略矩形状の発光面を光源とする直射型の車両用照明灯具において、その光源光束の利用効率を高めるようにした上で、上端部に水平および斜めカットオフラインを有するロービーム用配光パターンを形成可能とする。 - 特許庁 - Fluorescent slurries including a photosensitive agent containing at least polyvinyl alcohol or polyvinyl pyrrolydone as a photosensitive material and ammonium bichromate or sodium bichromate as a crosslinking agent are applied, exposed, and developed to form a fluorescent film of a given pattern.
感光性材料として少なくともポリビニルアルコール又はポリビニルピロリドンを含有し、架橋剤として重クロム酸アンモニウム又は重クロム酸ナトリウムを含有する感光剤を含んだ蛍光体スラリーを塗布し、露光し、現像して所定パターンの蛍光体膜を形成する。 - 特許庁 - When the polydiacetylene oriented film as a birefringent material layer is paternwise exposed with UV, the pattern direction is allowed to coincide with the orientation direction of the polydiacetylene oriented film to form a periodic lattice parallel to the orientation direction.
偏光分離素子の製造に当たり、複屈折材料層としてのポリジアセチレン配向膜を紫外線によりパターン露光する際に、ポリジアセチレン配向膜の配向方向にパターン方向を一致させることにより、当該配向方向に平行な周期格子を形成する。 - 特許庁 - Furthermore, an EPA with ASEAN as a whole would facilitate harmonization over a wide region, which would be difficult to achieve through bilateral EPAs between Japan and the ASEAN member countries, and would contribute to strengthen industrial competitiveness in a form fitting into the actual pattern of economic activities conducted broadly between Japan and the ASEAN.
さらに、ASEAN 全体とのEPA は、日本とASEAN 各国との二国間EPA では解決が困難な、エリアワイドでの制度統一を取り扱うことを可能とし、日ASEAN ワイドで行われている経済活動の実態により即した形での産業競争力強化に資する。 - 経済産業省 - The tap 7, the tap carrier 17 and the pattern 8 have limited amplitudes during axial translation and radial movement in the casings to form a movable subsidiary assembly, and the tap 7 can follow the undesirable motion of parts to be tapped.
タップ（７）、タップキャリア（１７）、及びパターン（８）は、ケーシングの中で軸方向の並進及び半径方向の移動において制限された振幅を有して可動なサブ組立体を形成し、タップ（７）は、タッピングされる部品の望ましくない運動を追随することが可能となる。 - 特許庁 - A process to open contact holes 26, 27 on a passivation film 32 includes: a step to pattern form a photoresist on the interlayer insulating film; and a step to apply dry-etching to the passivation film 32 with the photoresist being used as a mask not through a step for post-baking the photoresist.
パッシベーション膜３２にコンタクトホール２６，２７を開口する工程は、層間絶縁膜上にフォトレジストをパターン形成する工程と、フォトレジストをポストベークする工程を経ることなく、フォトレジストをマスクとしてパッシベーション膜３２にドライエッチングを施す工程と、を備える。 - 特許庁 - The each opening inside diameter D' of the solder resist layer reflected on the CAD data is converted as the CAM data into a mask pattern D_0 for the openings of the exposure mask for the photolithography to form the openings of a solder resist layer by a photolithographic process using a photosensitive resin.
感光性樹脂を用いたフォトリソグラフィー工程によりソルダーレジスト層の開口を形成するために、ＣＡＤデータに反映されたソルダーレジスト層の開口内径Ｄ’を、フォトリソグラフィー用露光マスクの開口用マスクパターン外径Ｄ_０に、ＣＡＭデータとして変換する。 - 特許庁 - The embossing apparatus 10 is provided with an embossing roll 20 having an emboss-molding face 25 with a rugged form corresponding to a rugged pattern 55 to be formed on the raw material sheet, and a backup roll 30 disposed facing the embossing roll and pressing the raw material sheet between the embossing roll.
エンボス装置１０は、原反に形成すべき凹凸柄５５に対応した凹凸形状を有するエンボス型面２５を、有するエンボスロール２０と、エンボスロールに対向して配置され、エンボスロールとの間で原反を圧するようになるバックアップロール３０と、を備える。 - 特許庁 - To provide a positive radiation-sensitive polymer composition developable with an alkaline aqueous solution, having high sensitivity and high resolution, and capable of forming a pattern form thin film that is superior in flatness, heat resistance, solvent resistance and transparency.
アルカリ水溶液で現像でき、高感度、かつ高解像度の感放射線性重合体組成物であり、さらに平坦性、耐熱性、耐溶剤性、透明性に優れたパターン状薄膜を形成できるポジ型感放射線性重合体組成物を提供すること。 - 特許庁 - When a laser beam is made incident from the first surface 2, light passing through either projecting part 3 and light passing through the other projecting part 4 interfere with each other to form the vertical fringe interference pattern on an object with light emitted from the second surface 5.
このレンズ第１面２からレーザ光を入射させると、一方の凸部３を通過した光と他方の凸部４を通過した光とが干渉してレンズ第２面５から出射される光で対象物に縦縞干渉模様を形成することができる。 - 特許庁 - The system measures the characteristics of a transmission line by a reception error rate and a received signal level for a fixed form pattern signal before data communication origination, and feeds back the measurement result to a transmitter side, while signal processing is reestablished at a receiver side.
伝送線路の特性を、データ通信開始前の定型パターン信号の受信誤り率と受信信号レベルで測定し、測定結果を送信側にフィードバックすると共に、受信側の信号処理も設定しなおすことで、最適な信号伝送処理を提供する。 - 特許庁 - Then the pump plating of a contact material such as Ni, Ni alloy, Pt, Rh, Pd and the like is performed as shown in (h) in a state that a part excluding a part corresponding to the contact pin as a tip part of a wiring pattern 3a is masked, to form bump-shaped projections 13.
次に、配線パターン３ａの先端部であるコンタクトピンに相当する部分以外の部分をマスキングした状態で、（ｈ）のように、Ｎｉ、Ｎｉ合金、Ｐｔ、Ｒｈ、Ｐｄ等の接点材料のパンプメッキを施して、バンプ状の突起１３を形成する。 - 特許庁 - To efficiently form an antenna without facility cost by enabling a conductive pattern extended to the arrangement position of an IC chip, straddling over one end side of an antenna main body, while insulating a loop part to be formed, without fitting an insulating member or jumper wire.
絶縁部材やジャンパ線を取り付けることなくアンテナ本体の一端側をループ部に絶縁状態にして跨いでＩＣチップの配置位置まで延設されている導通パターンが形成できるようにし、設備コストをかけずに効率よくアンテナを形成する。 - 特許庁 - A multilayer reflective film 2 and an absorber film 4 are formed on the mask blanking substrate 1 to make the reflective mask blank 10, and the absorber film 4 in the reflective mask blank 10 is patterned to form an absorber pattern to make the reflective mask 20.
このマスクブランク用基板１上に多層反射膜２及び吸収体膜４を形成して反射型マスクブランク１０とし、この反射型マスクブランク１０における吸収体膜４をパターニングして吸収体パターンを形成して反射型マスク２０とする。 - 特許庁 - Respective evaluating patterns MP1-MP6 are arranged respectively on wiring layers L1-L6 being the same as metallic circuits arranged in an insulating film 2 with a stepped form so that the evaluating pattern, formed at a deeper position from the upper surface of the IC 10, is formed so as to be longer in the direction of plane.
各評価用パターンＭＰ１〜ＭＰ６は絶縁膜２中に配設されたメタル配線と同じ配線層Ｌ１〜Ｌ６にそれぞれ配設され、階段状に、ＩＣ１０上表面から深い評価用パターンほど平面方向に長く形成されている。 - 特許庁 - Conductive layers 6A to 6E formed between electrodes of a laminate 1A that a plurality of dielectric films 2 to 5 are laminated are formed in a specified pattern to form capacitors C1 and C2, and a coil 7 on the conductive layer 6C.
複数の誘電体フィルム２〜５を積層してなる積層体１Ａの各電極間に設けた導電層６Ａ〜６Ｅを所定の形状にパターン形成することにより、コンデンサＣ1，Ｃ２が形成されるとともに導電層６Ｃにはコイル７が形成されている。 - 特許庁 - To provide a laminated body for forming a grafted film which can generate a grafted polymer with high sensibility and form the grafted film, the grafted film using the laminated body for forming the grafted film, its forming method, a graft pattern using the laminated body for forming the grafted film, and its forming method.
高感度でグラフトポリマーを生成し、グラフト膜を形成しうるグラフト膜形成用積層体、該グラフト膜形成用積層体を用いたグラフト膜、その形成方法、該グラフト膜形成用積層体を用いたグラフトパターン、及びその形成方法を提供すること。 - 特許庁 - The nonwoven fabric is adhered under melting to the sheet like material to form a predetermined pattern, and the elastic needles are embedded under maintaining tension in the specific positions in the melted part between the non-woven fabric and the sheet like material.
この不織布はこの場合、さらなるシート状物と、前もって決められたパターンの形で熱で溶接されており、かつ、該弾性糸が張力がかかった状態で該不織布と該さらなるシート状物の間の溶接部に選択された箇所で埋め込まれている。 - 特許庁 - In succession, the silicon oxide film filling up a gap between the antioxidant film 36 and the conductor pattern 32 and the antioxidant film 36 disclosed on the semiconductor substrate 30 are etched so as to form a contact hole 42, so that the wiring of a semiconductor device can be formed.
続いて、酸化防止膜３６、導電体パターン３２間に埋められているシリコン酸化膜と半導体基板３０上に露出される酸化防止膜３６をエッチングして、コンタクトホール４２を形成して半導体装置の配線を形成することができる。 - 特許庁 - To use an aqueous solution of which the handling is easy and the load to an environment is small to easily form an adhesive fine electrode or wiring pattern, thereby improving the stability of a process when used for the manufacturing process of an image forming device.
取り扱いが容易で環境負荷の小さな水系溶液を用い、密着性のよい微細な電極や配線パターンを容易に形成できるようにし、もって画像形成装置の製造プロセスに用いた場合の当該プロセスの安定性を向上させる。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition which prevents sublimation of contained triazine and can form a pattern of a good shape and a color filter for a display having required patterns of colored layers, a black matrix, a protective layer, a gap holding material, etc., with a high degree of accuracy.
含有するトリアジンの昇華が防止され、さらに形状の良好なパターン形成が可能な感光性樹脂組成物と、着色層、ブラックマトリックス、保護層、ギャップ保持材等の所望のパターンを高い精度で備えるディスプレー用カラーフィルタとを提供する。 - 特許庁 - The producing method comprises at least steps of forming a primary electrode, forming a photocatalyst layer on the primary electrode, forming a organic photodecomposition layer on the photocatalyst layer, performing pattern exposure to the photodecomposition layer to form a pattern, applying organic EL compound layer forming solution on the exposed section and making it to harden, form at least one of organic EL compound layer, and forming a secondary electrode on the organic EL compound layer.
第１電極を形成する工程と、前記第１電極上に光触媒層を形成する工程と、前記光触媒層上に光分解有機層を形成する工程と、前記光分解有機層にパターン露光を行い、パターン形成を行う工程と、前記露光部に、有機ＥＬ化合物層形成液を付着させて硬化させることにより、有機ＥＬ化合物層の少なくとも１層を形成する工程と、前記有機ＥＬ化合物層上に第２電極を形成する工程から少なくともなる有機ＥＬ素子の製造方法。 - 特許庁 - The resist pattern forming method includes: laying on a substrate a film comprising materials containing an alkali-soluble polyimide (A) having a siloxane structure and a photosensitive agent (B) having a quinonediazide structure; exposing and developing the film to form a resist layer having a predetermined pattern on the substrate; bringing an acidic chemical solution into contact with the resist layer; and curing the resist layer.
本発明のレジストパターンの形成方法においては、シロキサン構造を有するアルカリ溶解性ポリイミド（Ａ）及びキノンジアジド構造を有する感光剤（Ｂ）を含む材料で構成されたフィルムを基板上に積層し、前記フィルムに対して露光・現像することにより前記基板上に所定のパターンを有するレジスト層を形成し、前記レジスト層に酸性の薬液に接触させた後に前記レジスト層を硬化させる。 - 特許庁 - To manufacture a semiconductor device excellent in element characteristics and reliability with high yield by carrying out dry etching of a multilayer film having an SiGe film containing Si and Ge and an oxide film to form a gate electrode pattern and a gate oxide film pattern, and then sufficiently removing dry etched products or particles adhering to a semiconductor substrate without damaging the SiGe layer or the gate oxide film configuring the gate electrode.
Ｓｉ及びＧｅを含有するＳｉＧｅ膜と酸化膜とを有する積層膜をドライエッチングしてゲート電極パターン及びゲート酸化膜パターンを形成した後、ゲート電極を構成するＳｉＧｅ層とゲート酸化膜とを損傷させることなく、半導体基板上に付着したドライエッチ生成物やパーティクルを十分に除去し、素子特性および信頼性に優れた半導体装置を歩留りよく製造する。 - 特許庁 - In a method of manufacturing a semiconductor device, exposure is performed to form a resist pattern differing from a pattern in a chip region in an exposure range that includes a non-effective reference chip region adjacent to an effective reference chip region and does not include any effective chip regions and effective reference chip regions in a reference exposure process using a reduction projection type aligner in a photolithography process.
本発明の実施形態に係る半導体装置の製造方法においては、フォトリソグラフィの工程において、縮小投影型露光装置を用いた基準露光工程において、有効基準チップ領域に隣接する無効基準チップ領域を含み、かつ有効チップ領域および有効基準チップ領域を含まない露光範囲で、チップ領域のパターンとは異なるレジストパターンを形成するように露光を行う。 - 特許庁 - In performing the refresh operation, the control unit 60 firstly controls a developing device 40 to form a predetermined image pattern on an image carrier 125 for a predetermined period, then obtains a temporal change quantity of toner density for the predetermined period based on the toner density of the image pattern detected by a toner density sensor 80, and determines start timing of the refresh operation based on the temporal change quantity.
制御部６０は、リフレッシュ動作を行うに当たり、まず、現像装置４０を制御して、像担持体１２５上に所定の画像パターンを所定の期間にわたって形成させ、次に、トナー濃度センサ８０が検出した画像パターンのトナー濃度に基づき、所定の期間にわたるトナー濃度の経時的変化量を得て、そして、経時的変化量に基づいてリフレッシュ動作の開始タイミングを決定する。 - 特許庁 - The image forming apparatus forms an electrostatic latent image pattern on a photosensitive drum, and controls the value of the bias current set for a first light emitting element based on the potential of the electrostatic latent image pattern detected by a potential sensor 212 so that the value of the bias current for the first light emitting element comes close to a minimum value of the drive current supplied to the first light emitting element to form the electrostatic latent image.
感光ドラム上に静電潜像パターンを形成し、第１の発光素子に対応するバイアス電流の値が前記静電潜像を形成するために第１の発光素子に供給される駆動電流の最小値に近づくように、電位センサ２１２によって検出される静電潜像パターンの電位に基づいて第１の発光素子に対応するバイアス電流の値を制御する。 - 特許庁 - Thus, in a probability variation suggestion performance, by changing the determination form of the development on the basis of kind of information for control which specifies the kind of the pattern determined as the special pattern when the previous (latest) jackpot game is drawn, suggestion biased only to the drawing probability state among the game states simply is not performed and the suggestion reflecting the development of the game states including other elements as well is achieved.
このため、確変示唆演出では、前回（直近）の大当り遊技の当選時に特別図柄として決定した図柄の種類を特定する統括用種別情報に基づいて展開の決定態様を変更することで、単に遊技状態のうち抽選確率状態のみに偏った示唆がされるのではなく他の要素も含んだ遊技状態の展開を反映した示唆が実現される。 - 特許庁 - The photo development equipment includes a developing solution supplier for supplying a negative development solution; and a first photo apparatus to form a positive photoresist pattern, by using a positive photoresist containing a novolac resin as a base and containing an acrylic resin with the above negative development solution, wherein the photoresist pattern is necessary for forming a black matrix by patterning a light-shielding metal layer formed on a substrate.
本発明によるフォト装備は、ネガティブ現像液を供給する現像液供給部と、基板上に形成された光遮断金属層をパターニングして、ブラックマトリクスを形成する際に必要であるポジティブフォトレジストパターンを、ノボラック系の樹脂を基本として、アクリル系の樹脂を含むポジティブフォトレジストと前記ネガティブ現像液とを利用して形成する第１フォト装備を含むことを特徴とする。 - 特許庁 - To provide a Pachinko game machine capable of setting the probability of displaying the display form of one of two or more prescribed kinds of combination patterns by a first pattern regardless of the kind of the variably displayed first pattern or the combination number of the patterns and randomly displaying one of the two or more prescribed kinds of the combination patterns in the case of winning.
変動表示される第１の図柄の種類や図柄の組合せ数が如何なる数であるかに無関係に第１の図柄によって所定の複数種類の組合せ図柄のうちのいずれかの表示態様が表示される確率を設定できると共に、当りの場合、所定の複数種類の組合せ図柄のうちのいずれが表示されるかをランダムにすることができるパチンコ遊技機を提供する。 - 特許庁 - At least one layer of conductive film is formed on an insulating surface, a resist pattern is formed thereon, and then the conductive film having the resist pattern is etched to form a metallized wiring having a tapering angle αcontrolled depending on the bias power density, ICP power density, temperature of a lower electrode, pressure, total flow rate of etching gas, and the ratio of oxygen or chlorine in the etching gas.
本発明は、絶縁表面上に少なくとも一層の導電膜を形成し、前記導電膜上にレジストパターンを形成し、前記レジストパターンを有する導電膜にエッチングを行い、バイアス電力密度、ＩＣＰ電力密度、下部電極の温度、圧力、エッチングガスの総流量、エッチングガスにおける酸素または塩素の割合に応じてテーパー角αが制御された金属配線を形成することを特徴としている。 - 特許庁 - In the method of manufacturing the organic electroluminescent panel having a luminescent layer containing an organic material 102 between a pair of counter electrodes at least either one of which is transparent or translucent, a latent image having a desired pattern is formed by electrostatic force, and powder obtained by mixing the particulate of an organic material 102 and an insulating particulate 101 is brought into contact with it by making the powder charged to form a desired image pattern.
少なくとも一方が透明または半透明の一対の対向電極間に有機材料１０２を含む発光層を有する有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法であって、静電気力によって所望のパターンの潜像を形成し、有機材料１０２の微粒子と絶縁性微粒子１０１とが混合された粉体を帯電させて接触して、所望の画像パターンを形成する。 - 特許庁 - Upper electrodes 21a, 21b consisting of the polycrystalline silicon film 17 are formed via the insulating film 8 as a capacitance insulating film on the lower electrodes 11a, 11b to form capacitors 36a, 36b by forming the antireflection film and a photoresist pattern on the cap protection film, and sequentially performing dry etching of the cap protection film and the polycrystalline silicon film 17 using the photoresist pattern as an etching mask.
キャップ保護膜上に反射防止膜およびフォトレジストパターンを形成し、フォトレジストパターンをエッチングマスクとして用いて反射防止膜、キャップ保護膜および多結晶シリコン膜１７を順次ドライエッチングすることで、下部電極１１ａ，１１ｂ上に容量絶縁膜としての絶縁膜８を介して多結晶シリコン膜１７からなる上部電極２１ａ，２１ｂを形成してキャパシタ３６ａ，３６ｂを形成する。 - 特許庁 - The method for forming the porous pattern comprises coating a base material with the photopolymerizable composition to form a film, irradiating the formed film with electromagnetic waves according to a desired pattern, soaking the irradiated film in the poor solvent to the binder resin, and vaporizing the poor solvent penetrated into the film, so that any one of an irradiated part or a not-irradiated part is made to be porous.
本多孔質パターンの形成方法は、かかる多孔質パターン形成用光重合性組成物を、基材上に塗設して塗膜を形成した後、該塗膜に所望のパターンに応じた電磁波照射を行い、次いで、バインダー樹脂に対する貧溶媒に浸漬した後、該塗膜内部に浸透した該貧溶媒を揮発させることにより、照射または未照射のいずれかの部位を多孔質化することを特徴とするものである。 - 特許庁 - The lithography apparatus is provided with an array of individually controllable elements configured to modulate sub-beams of radiation and a data path that includes at least one data manipulation device arranged to at least partly convert data defining a requested pattern to a control signal suitable for controlling the array of individually controllable elements to form substantially the requested pattern on the substrate.
放射線のサブビームを変調するように構成された個々に制御可能な素子のアレイを備えたリソグラフィ装置において、個々に制御可能な素子のアレイを制御するのに適した信号を制御して基板上に要求されたパターンを実質的に形成するために要求されたパターンを定めるデータを少なくとも部分的に変換するようにアレンジされた少なくとも１つのデータ操作デバイスを備えたデータ経路も含む。 - 特許庁 - Material 44 formed by coating the surface of Ag powder 40 with alumina 42 is prepared, a conductive paste is prepared from the material 44, and the conductive paste is formed on a dielectric layer, for example, by screen printing to form an electric pattern by the conductive paste.
Ａｇ粉末４０の表面にアルミナ４２が被覆されて構成された材料４４を用意し、該材料４４から導体ペーストを調製し、該導体ペーストを誘電体層上に例えばスクリーン印刷にて形成して、前記導体ペーストによる電極パターンを形成する。 - 特許庁 - The method for manufacturing the electromagnetic wave shield film comprises the steps of: arranging the transparent conductive material L on the translucent substrate 2 in the line pattern shape; and baking the transparent conductive material L to form the transparent conductive material L on the translucent substrate 2.
電磁波シールドフィルムの製造方法は、透光性基材２上に透明電導性材料Ｌをラインパターン状に配置する工程と、該透明導電材料Ｌを焼成して、前記透光性基材２上に透明導電性パターンＬを形成する工程を備えている。 - 特許庁 - The cover lay 3 on the terminal part 5 is opened by laser processing using the alignment mark 8 to form an opening 7, and a pad 4 comprising carbon paste is printed and formed so as to be over the terminal part 5 exposed inside the opening 7 and the cover lay 3 on the dummy pattern 6.
端子部５上のカバーレイ３は、アライメント用マーク８を用いたレーザ加工により開口されて開口部７が形成され、この開口部７内にて露出した端子部５上とダミーパターン６上のカバーレイ３上とに跨るようにカーボンペーストからなるパッド４が印刷形成される。 - 特許庁 - In the method of manufacturing the polymer optical waveguide 60, a film material 30 is closely stuck on a mold face side of a mold 10 except for both ends of a concave groove part 11 as a lower clad using the mold 10 which has the concave groove part 11 for forming a waveguide core corresponding to a waveguide core pattern form.
高分子光導波路６０の製造方法は、導波路コアパターン形状に対応する導波路コア形成用凹溝部１１を有する鋳型１０を用い、その凹溝部１１の両端部を除いて鋳型１０の型面側に下クラッドとなるフィルム材３０を密着する。 - 特許庁 - Paste for an electrode which is blended in an ultraviolet curing resin while having viscosity of 89 Pa second or a thixotropic degree of 1.36 or more and a silver content of 71-80 mass% is printed on a glass substrate, and is cured by irradiating an ultraviolet ray from both sides of the glass substrate to form an electrode pattern.
粘度が８９Ｐａ・秒またはチキソ性の度合いが１．３６以上で銀含有量が７１〜８０質量％で紫外線硬化性樹脂に配合した電極用のペーストをガラス基板上に印刷し、両面側からの紫外線照射により硬化させて電極パターンを形成する。 - 特許庁 - Output image data wherein formation of pixels is suppressed in the vicinity of a center of a dot matrix is obtained by this suppression pattern, and an exposure part irradiates the photoreceptor drum by an exposure determined on the basis of the image data and an exposure energy profile, to form an electrostatic latent image.
この抑制パターンにより、網点内の中央部近傍に画素の形成が抑制された出力画像データが得られることになり、露光部では、この画像データに基づき決定された露光量で且つ、露光エネルギープロファイルにより、感光ドラム上を照射して静電潜像を形成する。 - 特許庁 - A yellow or a red strip is applied by sticking or coating in a longitudinal direction of a cable on a drop cable or a suspension wire or both of them having a black base, to form a color pattern repelling birds and animals such as crow, in combination with the black color.
地色である黒色をした前記ドロップケーブルまたは釣線、またはこれらの双方にケーブル長手方向に黄色または赤色の帯状体が貼着または塗布によって設けられて、前記黒色と組み合わせてカラス等の鳥獣類が嫌いな色模様を形成する。 - 特許庁 - This raised woven fabric for the sheet having an appearance grace not available up to now is obtained by making raised textures by changing the height of loops of raised weft yarns gradually to form the uneven pattern expressing the moderate slope or moderately curved surface of the slope part.
本発明は、起毛される緯糸のループの高さを徐々に変化させる起毛組織とすることにより、緩やかな斜面または緩やかな曲面の斜面部を表現する凹凸柄とし、今までにない外観品位のあるシート用起毛織物が得られることを見出し、本発明に至ったものである。 - 特許庁 - The lens material layer is subjected to pattern exposure by using a photomask 24 with controlled transmittance distribution so that microlenses 22g, 22b and 22r may be formed on the corresponding photoelectric conversion element after development and then is subjected to development and hardening to form the microlens on the corresponding photoelectric conversion element.
このレンズ材料層が、透過率分布を制御したフォトマスク２４を使用し、現像後に対応する光電変換素子上にマイクロレンズ２２ｇ，２２ｂ，２２ｒが形成されるようパターン露光された後に現像及び硬化され、光電変換素子上に対応してマイクロレンズが形成される。 - 特許庁 - To reduce warpages and curls of an optical wiring layer by relaxing stresses exerting on the optical wiring layer and to form optical elements such as a waveguide pattern, a mirror and a diffraction grating by using dry etching, a dicing saw and an electron beam exposure of the like to a minimum.
光配線層にかかる応力を緩和し、光配線層のそりやまるまりを抑えることを第１の課題とし、ドライエッチングや、ダイシングソー、電子線露光などをなるべく用いずに導波路パターンや、ミラーや回折格子といった光学素子を形成することを第２の課題とする。 - 特許庁 - To provide a photoresist composition having such good filterability that can form a uniform pattern and to provide a resin solution for photoresist which is stable over a long period of time, that is, a resin solution for photoresist of which the filterability does not deteriorate even after long-term storage.
本発明は、均一なパターン形成を可能とするろ過性の良好なフォトレジスト組成物を提供することを目的とし、長期的に安定なフォトレジスト用樹脂溶液、つまり長期間保管してもろ過性能が低下しないフォトレジスト用樹脂溶液を提供する事にある。 - 特許庁 - In the ruled line blade 6 for the plastic sheet for providing the foldable ruled line 2, a plurality of blade parts 7 in a concave form are provided over the whole length of a top face part 6b of the ruled line blade 6 and are arranged in a substantially rope pattern while inclining at a predetermined angle in the direction g of the provision of the ruled line.
その折り曲げ罫線２を付設するプラスチックシート用罫線刃６を、その罫線刃６の頂面部６ｂ全長に対して凹状の刃部７を複数形成すると共に、罫線付設方向ｇに対して所定角度に傾斜して略縄模様状に配列する。 - 特許庁 - The cured coating film is formed by producing a composition comprising a heat-resistant resin precursor and a compound containing a carboxylic acid anhydride group and an alkoxysilyl group in one molecule, applying the composition to a substrate, drying the coating film, heating the coating film or a coating film obtained by subjecting the coating film to pattern processing to form the cured coating film.
耐熱性樹脂前駆体並びに１分子中にカルボン酸無水物基とアルコキシシリル基有する化合物を含有する組成物を製造し、それを基板上に塗布、乾燥した後、その被膜又はその被膜をパターン加工した被膜を、加熱し硬化被膜を形成する。 - 特許庁 - The method for producing the imprinting member comprises the steps of: depositing an amorphous DLC (diamond-like carbon) film containing 12-30 atomic% hydrogen and the balance of carbon on the surface of a base material; and irradiating the surface of the DLC film directly with a laser beam to form the engraved groove consisting of a geometrical pattern or the like.
基材の表面に、水素を１２〜３０原子％含み、残部が炭素からなるアモルファス状ＤＬＣ膜を被覆形成し、その後、該ＤＬＣ膜の表面に直接、レーザビームを照射して、幾何学模様などからなる彫刻溝を彫刻することによってインプリント部材を製造する。 - 特許庁 - By using an element which can respectively set light intensity distribution emitted in the direction of giving parallax as a minimum unit constituting a pixel, pixels are arrayed nearly in the state of stripe or nearly in the state of matrix to form a three-dimensional pattern consisting of a (first) segment group.
画素を構成する最小単位として、視差を持たせる方向に射出する光強度分布を個別に設定することが可能な素子を用い、略ストライプ状または略マトリクス状に画素を配列して（第１の）セグメント群からなる３次元パターンを形成する。 - 特許庁
