「high- density plasma」を含む例文一覧(445)

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  • HIGH-DENSITY PLASMA PROCESSOR
    高密度プラズマ処理装置 - 特許庁
  • HIGH-DENSITY PLASMA SOURCE, AND FORMING METHOD OF HIGH DENSITY PLASMA
    高密度プラズマ源及び高密度プラズマ生成方法 - 特許庁
  • HIGH DENSITY PLASMA REACTION METHOD
    高密度プラズマ反応方法 - 特許庁
  • HIGH-DENSITY PLASMA REACTION APPARATUS AND HIGH-DENSITY PLASMA REACTION METHOD
    高密度プラズマ反応装置および高密度プラズマ反応方法 - 特許庁
  • LOW PRESSURE/HIGH DENSITY PLASMA PROCESSING DEVICE
    低圧・高密度プラズマ処理装置 - 特許庁
  • REMOTE PLASMA-CLEANING METHOD OF HIGH-DENSITY PLASMA CVD SYSTEM
    高密度プラズマＣＶＤ装置のリモートプラズマクリーニング方法 - 特許庁
  • HIGH-DENSITY SPUTTERING UTILIZING FRONT END OF SHEET PLASMA
    シートプラズマ先端利用高密度スパタリング - 特許庁
  • Apparently to ultra high density plasma filament
    どうやら 超高密度の プラズマ・フィラメントに - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書
  • HIGH-DENSITY PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS
    高密度プラズマ化学気相蒸着装置 - 特許庁
  • LOW-CURRENT HIGH-DENSITY PLASMA NITRIDING METHOD AND LOW-CURRENT HIGH-DENSITY PLASMA NITRIDING DEVICE
    低電流高密度によるプラズマ窒化方法及び低電流高密度によるプラズマ窒化装置 - 特許庁
  • HIGH DENSITY PLASMA SOURCE FOR IONIZED METAL DEPOSITION
    イオン化金属堆積用の高密度プラズマ源 - 特許庁
  • FILM DEPOSITION APPARATUS USING DC HIGH-DENSITY PLASMA
    直流高密度プラズマを用いる成膜装置 - 特許庁
  • PRODUCTION METHOD FOR HIGH TEMPERATURE HIGH DENSITY SHEET PLASMA BY LINER COMPRESSION
    ライナー圧縮による高温高密度シートプラズマ生成法 - 特許庁
  • To make the plasma of a cleaning gas uniform even under a high plasma density.
    高いプラズマ密度の下でも、クリーニングガスのプラズマを均一化させる。 - 特許庁
  • To uniform the plasma density of a high-frequency inductively coupled plasma apparatus.
    高周波誘導結合プラズマ装置のプラズマ密度の均一化を図る。 - 特許庁
  • CHUCK ASSEMBLY AND HIGH DENSITY PLASMA DEVICE USING SAME
    チャックアセンブリ及びそれを用いた高密度プラズマ装置 - 特許庁
  • To provide a plasma processing apparatus generating high-density plasma with even plasma density over a large area.
    大面積にわたって均一なプラズマ密度を有する高密度プラズマを生成できるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁
  • To provide an ion source to accomplish a high density of a high-frequency plasma.
    高周波プラズマの高密度化を図ったイオン源を提供する。 - 特許庁
  • HIGH DENSITY PLASMA SOURCE FOR IONIZED METAL DEPOSITION CAPABLE OF EXCITING PLASMA WAVE
    プラズマ波を励起可能なイオン化金属堆積のための高密度プラズマ源 - 特許庁
  • To provide an atmospheric pressure plasma processing device capable of producing high-density plasma.
    高密度プラズマを得ることができる常圧プラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁
  • As a result, an energy density in the plasma becomes high and the plasma is expanded.
    これにより、プラズマ中のエネルギー密度が高くなり、プラズマが拡大する。 - 特許庁
  • To provide a plasma generating apparatus that can enhance the plasma density and realize uniform distribution of high density plasma having high inductive coupling efficiency.
    プラズマ密度を高め、誘導結合効率の高い高密度プラズマを均一に分布させることができるプラズマ発生装置の提供。 - 特許庁
  • MAGNET FOR HIGH DENSITY PLASMA, MANUFACTURING METHOD THEREFOR AND SEMICONDUCTOR MANUFACTURING APPARATUS FOR HIGH DENSITY PLASMA USING THE SAME
    高密度プラズマ用磁石及びその製造方法、並びにこれを用いた高密度プラズマ用の半導体製造装置 - 特許庁
  • A high density plasma is formed by the hollow cathode electrode, and an efficiency of plasma dissociation caused by this high density plasma is enhanced, thereby enhancing a coating speed.
    ホローカソード電極により高密度プラズマを形成し、この高密度プラズマによるプラズマ乖離の効率を高め、成膜速度を向上させる。 - 特許庁
  • The external plasma source is constituted of a plasma source capable of generating high density plasma and uniformly covering the periphery of the base material with the high density plasma.
    外部プラズマ源は高密度プラズマを生成可能で、且つ、この高密度プラズマにより処理基材の周囲を均一に覆うことができるプラズマ源から構成する。 - 特許庁
  • To inexpensively generate high density plasma regardless of the size of a plasma generation system.
    プラズマ生成装置の大小に関係なく、高密度のプラズマを廉価に生成する。 - 特許庁
  • METHOD AND APPARATUS FOR GENERATING HIGH AREA/HIGH DENSITY PLASMA BY MICROWAVE DISCHARGE
    マイクロ波放電による大面積・高密度プラズマの生成方法及び装置 - 特許庁
  • To obtain a plasma processing method and an equipment which can obtain stable plasma with high plasma density.
    プラズマ密度が高く、かつ、安定したプラズマを得ることができるプラズマ処理方法及び装置を提供する。 - 特許庁
  • HIGH-DENSITY PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION DEVICE FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR
    半導体製造用高密度プラズマ化学気相蒸着装置 - 特許庁
  • To provide a magnetron reactor feeding a high density plasma source.
    高密度プラズマ源を供給するマグネトロンリアクタを提供する。 - 特許庁
  • The high-density plasma oxide-film evaporation equipment, for embedding a high-density plasma oxide film in the trench of the semiconductor substrate 124, is provided.
    半導体基板１２４のトレンチ内に高密度プラズマ酸化膜を埋設する高密度プラズマ酸化膜蒸着装備に関する。 - 特許庁
  • Since carbon monoxide gas is introduced into the plasma region 13 which is 1/10 or less as low in plasma density as the high-density plasma region 12, it is less hit by the high-temperature high-density plasma and carried onto the substrate 2 before it is dissociated.
    一酸化炭素ガスは、１桁以上低密度のプラズマ領域１３に導入されるので、高温・高密度のプラズマガスによる衝突を受けることが少なく、解離する前に基板２の上に運ばれる。 - 特許庁
  • To provide a high-density plasma source applicable to a wide working atmospheric pressure from a low atmospheric pressure to a high atmospheric pressure, and a forming method of high-density plasma.
    低気圧から高気圧まで広い動作気圧に対応できる高密度プラズマ源、及び高密度プラズマ生成方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a plasma source by which high density plasma can be highly efficiently produced and to provide a plasma treatment system.
    高効率で且つ高密度のプラズマを生成することが可能なプラズマ源ないしプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁
  • DC HIGH-DENSITY PLASMA SOURCE, FILM-FORMING DEVICE, AND MANUFACTURING METHOD OF FILM
    直流高密度プラズマ源、成膜装置および膜の製造方法 - 特許庁
  • HIGH DENSITY PLASMA FLUORINATED SILICON GLASS PROCESS STACK AND ITS MANUFACTURING METHOD
    高密度プラズマフッ素化シリコンガラスプロセススタックおよびその製造方法 - 特許庁
  • To provide a magnet for high density plasma, a manufacturing method therefor and a semiconductor manufacturing apparatus for the high density plasma using it.
    高密度プラズマ用磁石及びその製造方法、並びにこれを用いた高密度プラズマ用の半導体製造装置を提供する。 - 特許庁
  • To provide a plasma measuring device capable of measuring a plasma density, an electron temperature, and a plasma parameter of plasma potential with high accuracy even when the contamination caused by plasma is deposited thereon.
    プラズマにより生じる汚れが付着しても精度良くプラズマ密度、電子温度及びプラズマポテンシャルのプラズマパラメータを測定できるようにする。 - 特許庁
  • To provide a plasma generator which is high in absorption factor of a microwave in a wide plasma density range and realize continuous control of plasma density to relax density jump.
    広いプラズマ密度範囲でマイクロ波吸収率が高く、連続的なプラズマ密度制御を実現して、密度ジャンプを緩和することが可能なプラズマ発生装置を提供する。 - 特許庁
  • To efficiently realize a plasma doping at the degree of a high vacuum by generating a plasma having a high density.
    高い密度を持つプラズマを発生させることにより高い真空度で、効率的にプラズマドーピングを実現する。 - 特許庁
  • To provide a chuck assembly that reduces damage to the film quality of a wafer backside due to plasma during a high density plasma processing, and a high density plasma device using same.
    高密度プラズマ工程中のプラズマによるウエハ裏の膜質ダメージを減少することができるチャックアセンブリ及びそれを用いた高密度プラズマ装置を提供する。 - 特許庁
  • To provide a focus ring with resistance to high plasma density.
    高プラズマ密度に対して耐プラズマ性を備えたフォーカスリングを提供する。 - 特許庁
  • HIGH-DENSITY PLASMA PROCESS FOR PRODUCING SILICON DIOXIDE ON SILICON CARBIDE SUBSTRATE
    シリコンカーバイド基板上に二酸化シリコンを生成する高密度プラズマプロセス - 特許庁
  • To obtain a sintered compact of a high-density and high-purity molybdenum oxide by using a discharge plasma method.
    放電プラズマ法を用いて高密度の高純度酸化モリブデンの焼結体を得る。 - 特許庁
  • To provide a plasma resistant member exhibiting sufficient durability to plasma when it is exposed to low pressure and high density plasma, and to provide a method of producing the same.
    低圧高密度プラズマ曝露に対しても十分耐える耐プラズマ性部材およびその製造方法の提供。 - 特許庁
  • To provide a plasma processing apparatus coping with variations in a plasma density generated by various causes and having high controllability over the variations in the plasma density.
    種々の要因により発生した揺らぎについて対応でき、またプラズマ密度の揺らぎに対して高い制御性を持つプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁
  • To generate uniform high-density plasma to a necessary region and to highly efficiently perform high-quality plasma treatment.
    必要な領域に均一で高密度のプラズマを発生させ、良質で高効率のプラズマ処理が行えるようにする。 - 特許庁
  • To provide a plasma production device capable of producing plasma being spatially uniformity and having a high density.
    空間的に均一で且つ高い密度のプラズマを生成することができるプラズマ生成装置を提供する。 - 特許庁
  • To generate a plasma with high density at low electric potential free from unbalance in plasma density especially between an inlet portion and an opposite portion so as to enable faster and more uniform performance for high quality plasma processing.
    高品質な処理をより高速且つ均一に行うことが可能となるように、特に導入部と対向部とのプラズマ密度バランスが崩れない高密度低電位プラズマを発生させる。 - 特許庁
  • To provide a plasma treatment apparatus which is capable of generating a high-density plasma, of performing plasma treatment in a short period of time, and of performing the uniform plasma treatment, and in which intrusion of impurities is prevented and exhaust time is shortened.
    高密度プラズマを発生させることができ、短時間でプラズマ処理をすることができるプラズマ処理装置の提供を課題とする。 - 特許庁
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