「in process processing」を含む例文一覧(4275)
＜前へ 1 2 .... 20 21 22 23 24 25 26 27 28 .... 85 86 次へ＞- The coils 12, 17 are positioned at the outside of the processing chamber 2 and are so provided as to generate a plasma of the process gas, in a plasma-generating region interposed between the processing chamber 2 and the pedestal 7.
コイル１２、１７は、処理チャンバ２の外側に位置しており、処理チャンバ２とペデスタル７との間のプラズマ生成領域にプロセスガスのプラズマを生成するように設けられている。 - 特許庁 - To provide a substrate processing method and a substrate processing device capable of carrying out a cleaning process well in a minimum time, and reducing working man-hours.
本発明は、最小の時間で、良好に洗浄処理を行うことができ、作業工数を削減することが可能な基板処理方法及び基板処理装置を提供しようとするものである。 - 特許庁 - The center server 2 sends the request for assistance to the business processing to the center server 6, and the process result of the business processing received from the center server 6 is stored in the storage part.
そして、センタサーバ２が、業務処理の応援要請をセンタサーバ６へ送信し、センタサーバ６から受信したその業務処理の処理結果を記憶部に格納するようにした。 - 特許庁 - An image-processing part 4A generates image process data for restricting unnecessary signals of the radar video by video data of one previous radar scan or the like, and writes in an image- processing frame memory 4.
画像処理部４Ａは１レーダースキャン過去のビデオデータ等により、レーダービデオの不要信号を抑圧するための画像処理データを生成し画像処理用フレームメモリ４へ書き込む。 - 特許庁 - To provide an apparatus and a method for ion irradiation processing capable of continuously executing the heating and the ion processing of a substrate in a film deposition process at the same position.
成膜工程における基板の加熱処理とイオン処理を、同じ位置において連続的に実施することができるイオン照射処理装置及びイオン処理方法を提供する。 - 特許庁 - The information processing apparatus performs the corresponding process as the gesture input in the first processing state as for the gesture input after the number of operations of gesture input.
そして、情報処理装置は、操作回数のジェスチャ入力が行われた後のジェスチャ入力については、第１の処理状態におけるジェスチャ入力として対応する処理を実行する。 - 特許庁 - To efficiently carry out data restoration for reprocessing when processing abnormal finish occurs in a batch processing system, of updating a database and a sequential file, with interlocking by one process (program).
データベースとシーケンシャルファイルとを１つの処理（プログラム）で連動させて更新するバッチ処理システムにおける処理異常終了発生時の再処理のためのデータ復元を効率的に行う。 - 特許庁 - While the humidity of a processing space 162 exceeds a specified value, that is, while the processing space 162 is not set in a sufficiently low-humidity atmosphere, a drying process is not executed.
処理空間１６２の湿度が規定湿度を超えている間、つまり処理空間１６２が十分に低湿度雰囲気となっていない間においては乾燥処理は実行されない。 - 特許庁 - The completion processing process memory means 2 stores the data showing the completion of a block in the non-volatile memory 8 at each time when each block of completion processing comprising a plurality of blocks is completed.
終了処理格納手段２は、複数のブロックからなる終了処理の各ブロックが終了する度に、該ブロックが終了したことを示す情報を不揮発性メモリ８に格納する。 - 特許庁 - The operating situation information obtaining part obtains operating situation information, which indicates the operating situation of the information processing apparatus executing a process, in association with the information processing apparatus.
作動状況情報取得部は、処理を実行している情報処理装置の作動状況を表す作動状況情報を当該情報処理装置と対応付けて取得する。 - 特許庁 - To provide a medium processing apparatus and a medium processing method capable of preventing variation in folded position, defective feeding at folding rollers, occurrence of wrinkles, dog-ears and the like and performing a process with high accuracy.
折位置のばらつき、折りローラにおける送り不良、しわの発生、角折れ等を防止し、精度良く処理できる媒体処理装置、および媒体処理方法を提供することにある。 - 特許庁 - In such a sequential developing process, when there is any substrate in a processing part on the downstream side, in a waiting part just before the processing part, e.g. in a waiting part 3 in case when the processing part is the developer recovery part 4, a roller is repeatedly turned in normal and reverse directions, thereby reciprocating the substrate as shown in a diagram 2.
この一連の現像処理の過程において、下流側の処理部に基板が入っている場合には、当該処理部の直前の待機部、例えば処理部が現像液回収部４の場合には、その直前の待機部３において、コロ１０ａに正逆回転を繰り返させ、基板Ｗを図２に示すように往復動せしめる。 - 特許庁 - In an in-line film deposition processing apparatus, the power consumption in the heating process using a lamp heater at the shift to the production start is reduced by keeping every cart at high temperature using a sheath heater provided in a film deposition processing chamber while stopping the production.
インライン成膜処理装置において、生産停止中に成膜処理室に設けたシースヒータを用いて全カートを高温に保持することによって、生産開始に移行した際のランプヒータを用いて行う加熱工程での消費電力を低減する。 - 特許庁 - Thereby, in the process of '01' write-in processing and write-in verifying processing, for even a bit which is discriminated as verify-pass due to any cause, when it is decided as fail by this operation, write-in voltage is applied again, and the prescribed threshold voltage can be obtained.
これにより、“０１”書き込み処理、書き込みベリファイ処理の途中に、何らかの原因でベリファイパスと判定されたビットでも、この動作でフェイルと判定されれば再び書き込み電圧が印加され、所定のしきい電圧にすることができる。 - 特許庁 - To prevent a semiconductor substrate from dropping when it is received in a processing unit, to increase the number of semiconductor substrates to be processed in a batch, and to improve processing efficiency in a susceptor for holding the semiconductor substrates in a semiconductor manufacturing process.
半導体製造工程において半導体基板を保持するサセプタにおいて、処理装置内への収納時等における半導体基板の落下を防止し、半導体基板のバッチ処理枚数を増加させ、処理効率の向上を図る - 特許庁 - To conduct formant emphasis in a more natural manner and to improve clarity in voice for a voice processing device in which a voice emphasis process is performed so as to hear voice in a more clear manner and a mobile communication terminal device provided with the voice processing function.
音声を明瞭に聴くことができるように音声を強調処理する音声処理装置及び該音声処理機能を備えた移動通信端末装置に関し、より自然にフォルマント強調を行い、音声の明瞭度を改善する。 - 特許庁 - In this computer system, a trace buffer is monitored in a process separate from emulation processing by use of that information related to a virtualization event is recorded in the trace buffer by a trace function that is one of RAS functions, and the statistical processing is performed based on the information in the trace buffer.
ＲＡＳ機能の１つであるトレース機能により、トレースバッファに仮想化イベントに関する情報が記録されることを利用し、エミュレーション処理とは別プロセスでトレースバッファを監視して、トレースバッファにおける情報を基に統計処理を行う。 - 特許庁 - The gateway device 2 which receives the URL of the service contents whose acquisition is desired by a mobile portable terminal 1C and transmission information extracts the URL in a call processing process 213 and selects a service processing process 221 on the basis of the URL.
移動携帯端末１Ｃにより取得希望されるサービスコンテンツのＵＲＬ並びに送信情報を受信したゲートウェイ装置２は、呼処理プロセス２１３でＵＲＬを抽出し、当該ＵＲＬに基づいてサービス処理プロセス２２１を選択する。 - 特許庁 - The unit processing information U such that the facility identification information D1 is equal with respect to the process is set as a set in each the process, and arrangement order of the unit processing information U is rearranged according to permutation which the sets can take.
データテーブルＤ０内で、各工程毎に、その工程に関して設備識別情報Ｄ１が同じであるような単位加工情報Ｕをそれぞれ一組とし、それらの組が取り得る順列に応じて単位加工情報Ｕの並び順を入れ替える。 - 特許庁 - In the structure 10 of manufacturing milled rice with embryo, a mechanism 12 for polishing and milling rice performs a process for polishing and milling rice, a mechanism 16 for polishing rice performs a process for polishing rice, and a wet-type mechanism 20 for wash-free processing performs wet-type wash-free processing, so as to manufacture milled rice with embryo.
胚芽精米製造構造１０では、研削精米機構１２が研削精米処理を行い、研米機構１６が研米処理を行い、湿式無洗化処理機構２０が湿式無洗化処理を行って、胚芽精米を製造する。 - 特許庁 - To obtain a process replacing device capable of allocating a process that should be newly executed to an optimum processor which does not have so many cache errors without lowering the accuracy of replacement processing and the speed of processing time and its replacing method in a multiprocessor system.
マルチプロセッサシステムで、新たに実行すべきプロセスを、入れ替え処理の精度と処理時間の速度を落とすことなく、キャッシュミスの少ない最適なプロセッサに割り当てることができるプロセスの入れ替え装置および入れ替え方法を提供する。 - 特許庁 - An MXF process 8 operating on a computer prescribes an FTP thread 42 and an MXF parser thread 43 by the MXF process 8 and performs the processing for reception by the FTP thread 42 and the parse processing by the MXF parser thread 43 in parallel.
コンピュータ上で動作するＭＸＦプロセス８は、ＦＴＰスレッド４２とＭＸＦパーサスレッド４３をＭＸＦプロセス８によって規定し、ＦＴＰスレッド４２による受信処理とＭＸＦパーサスレッド４３によるパース処理とを並行して行う。 - 特許庁 - In a primary grinding process (ST11), both sides (first side, second side) of a wafer obtained by slicing an ingot are ground in order to remove processing strain thus reducing warpage caused by difference in the magnitude of processing strain.
一次研削工程（ＳＴ１１）においては、インゴットから切り出して得られたウェーハの両面（一の面、二の面）を研削することで両面の加工歪みを除去して当該加工歪みの大きさの相違に起因する反りを低減する。 - 特許庁 - In the sound output process executed by a game processing part 54 of a shop server 5, the game processing part 54 compares information on moving distance of sound data included in the sound output data whose turn to output comes with drawing data of a horse object in each frame (S11).
店舗サーバ５のゲーム処理部５４が実行する出音処理では、ゲーム処理部５４は、出音の順番が来た出音データに含まれる音データの移動距離情報と、各フレームの馬オブジェクトの描画データとを比較する（Ｓ１１）。 - 特許庁 - The occurrence of an error, in the process of processing described in the template file or the case of requiring the reset of the device after processing, is prepared as another template file, and the information of links to these other template files is described in the template.
テンプレートに記載された処理の過程でエラーが発生した場合や、処理後にデバイスのリセットが必要な場合などを、他のテンプレートファイルとして用意しておき、これら他のテンプレートへのリンク情報をテンプレート中に記載しておく。 - 特許庁 - To provide a lubricating oil composition for the processing of a non-ferrous metal pipe exhibiting excellent lubricity in the draw processing, etc., of a non-ferrous metal pipe and capable of sufficiently reducing the remaining oil in the pipe in an annealing process.
非鉄金属管の引き抜き加工等において優れた潤滑性を発揮し、また、焼鈍工程において管内残油を十分に低減することが可能な非鉄金属管加工用潤滑油組成物を低コストで提供すること。 - 特許庁 - To provide a method for load distribution which has small processing delay variations, hardly causes a deterioration in processing performance for queuing due to process order reversal and hardly causes an increase in delay due to an increase in the amount of receiving buffers.
処理遅延バラツキが小さく、処理順序逆転による待ち合わせのための処理性能パフォーマンス低下が生じにくく、受付バッファ量の増大による遅延増大が発生しにくい負荷分散の手法を提供する。 - 特許庁 - This operation method is characterized in that used sterilizing gas after a sterilizing process in a sterilizing tank 3 is transferred to a vessel 8, and the used sterilizing gas in the vessel 8 is supplied to a processing device 2 at next sterilizing processing time of the sterilizing tank 3.
滅菌槽３内の滅菌工程後の使用済滅菌ガスを容器８へ移送し、前記容器８内の使用済滅菌ガスを前記滅菌槽３の次回滅菌処理中に処理装置２へ供給することを特徴としている。 - 特許庁 - In this biochemical analysis system, units for biochemical analysis are identified based on identification information given to the units for biochemical analysis, and a processing state in each processing process and the result of biochemical analysis are stored in a mutually associated state.
生化学解析用ユニットに付された識別情報に基づいて生化学解析用ユニットを識別し、各処理工程での処理状況と生化学解析の結果とを互いに関連付けて記憶する生化学解析システム。 - 特許庁 - To securely detect abnormality of a substrate processing apparatus which supplies a processing liquid to a substrate being rotated to perform a predetermined process and is provided with a scatter preventing member receiving a processing liquid scattered outward from the substrate, in the substrate processing apparatus and a control method of the apparatus.
回転させた基板に処理液を供給して所定の処理を行い、しかも、基板から外方へ飛散する処理液を受け止める飛散防止部材を設けた基板処理装置および該装置の制御方法において、装置の異常を確実に検出する。 - 特許庁 - When it is determined that the processing time is the prescribed time or shorter, the command processing based on the unprocessed received command is executed again (a step S601), and the command processing is repeated till it is determined that the processing time is longer than the prescribed time in the command determination process.
処理時間が所定時間以下であると判定した場合は再度未処理の受信コマンドに基づくコマンド処理を実行し（ステップＳ６０１）、コマンド判定処理で処理時間が所定時間よりも長いと判定するまでコマンド処理を繰り返し行う。 - 特許庁 - To process processing requests from a plurality of processing requesting origins in an order of the processing requests with simple circuit structure without using a complicated circuit including a request queue and to be easily re-designed even for changes of the number of the processing requesting origins.
リクエストキューを含む複雑な回路を用いることなく、単純な回路構成により、複数の処理要求元からの処理要求を処理要求順に処理すること、また処理要求元の数の変更に対しても容易に再設計可能なこと。 - 特許庁 - To provide an apparatus of processing a semiconductor workpiece which is provided with an environment of processing separated semiconductor workpieces so that uniformity of processing the semiconductor workpieces can be ensured and flexibly process the semiconductor workpieces in processing the plurality of semiconductor workpieces.
複数の半導体ワークピースを処理する場合、半導体ワークピースの処理の均一性を確保するように、隔離された半導体ワークピースの処理環境を備え、しかも柔軟に半導体ワークピースを処理することができる半導体ワークピースの処理装置を提供する。 - 特許庁 - A process definition tool having an entry definition table for setting an entry and a process definition table for setting a process corresponding to the entry can be used to link a class type as program information set in the process definition table and the set entry in the entry definition table and to set a processing program corresponding to the set entry in the entry definition table.
項目を設定する項目定義テーブルと、項目に対応するプロセスを設定するプロセス定義テーブルとを設けたプロセス定義ツールを用い、プロセス定義テーブルに設定したプログラム情報としてのクラスタイプと、項目定義テーブルの設定項目の紐付け処理により、項目定義テーブルの設定項目に対応する処理プログラムの設定を可能とした。 - 特許庁 - The method for producing bisphenol A comprising a heating and melting process of an adduct of bisphenol A with phenol, a phenol removing process and a granulation process, in which at least part of the melted bisphenol A obtained in the phenol removing process is transferred to the outside of the granulation process according to a processing capacity of the glanulation process, and the facilities for producing bisphenol A, are provided.
ビスフェノールＡとフェノールとの付加物の加熱溶融工程、脱フェノール工程及び造粒工程を有するビスフェノールＡの製造方法において、脱フェノール工程で得られた溶融状態のビスフェノールＡの少なくとも一部を、造粒工程における処理能力に応じて、造粒工程外へ移送するビスフェノールＡの製造方法及びこの方法を実施し得るビスフェノールＡの製造装置である。 - 特許庁 - In a process chamber in which a processing plasma is generated adjacent to a substrate 215 held on a substrate holder 216, free-standing, electrically insulative liners 220 to 223 are disposed adjacent to metallic walls 212 of the process chamber facing the processing plasma.
内部で、基板ホルダ２１６上に保持された基板２１５に隣接して、処理プラズマが発生する処理チャンバであって、自立型の電気絶縁性のライナー２２０〜２２３が、処理プラズマに面する処理チャンバの金属壁２１２に隣接して配置されていることを特徴とするものである。 - 特許庁 - In this case, an intermediate result is outputted each time a prescribed time 6a and 6b (or 9a) passes in the middle of the simulation of the process 6 (or the process 9), whose processing time is included as one of parameters and plural simulation results with different processing time parameters are obtained.
本発明では、処理時間をパラメータの１つとして含む工程６（または工程９）のシミュレーションの最中に、所定の時間６ａ，６ｂ（または９ａ）が経過したごとに途中結果を出力して、処理時間のパラメータが異なる複数のシミュレーション結果を得る。 - 特許庁 - To avoid reduction in yield due to apparatus factors by changing process lots, based on acquired workmanship inspection results and the yield rank of individual apparatus ID obtained by arithmetically processing a low process history, and attaining a favourable yield by processing using an apparatus favourable in yield.
収集した出来映え検査結果と、ロット処理履歴に演算処理を施し、演算により得られた装置ＩＤ別歩留順位に基づき、処理ロットを変更することで、装置要因による歩留低下を避け、歩留の良い装置を用いて処理することで、良い歩留を達成することを目的とする。 - 特許庁 - To achieve high productivity and quality stabilization of a plasma processing apparatus by enabling an introduction position for a process gas to be set with a high degree of freedom in accordance with an arrangement of a substrate (especially, in batch processing) and the size of the substrate (especially, in sheet processing) with a simple, low-cost configuration.
プラズマ処理装置において、簡易かつ低コストの構成で、プロセスガスの導入位置を基板の配置（特にバッチ処理の場合）や基板のサイズ（特に枚葉処理の場合）に応じて高い自由度で設定可能とし、それによって高生産性と品質安定化を達成する。 - 特許庁 - (x) in the case of using an electronic data processing system in opening a Commodity Market, a document giving the description of said electronic data processing system, installation location, capacity, and the process for responding in the event of the failure of said electronic data processing system;
十 商品市場を開設する業務において電子情報処理組織を使用する場合には、当該電子情報処理組織の概要、設置場所、容量及び保守の方法並びに当該電子情報処理組織に異常が発生した場合の対処方法を記載した書類 - 日本法令外国語訳データベースシステム - (xi) in the case of using an electronic data processing system in opening a Commodity Market, a document giving the description of said electronic data processing system, installation location, capacity, and the process for responding in the event of the failure of said electronic data processing system;
十一 商品市場を開設する業務において電子情報処理組織を使用する場合には、当該電子情報処理組織の概要、設置場所、容量及び保守の方法並びに当該電子情報処理組織に異常が発生した場合の対処方法を記載した書類 - 日本法令外国語訳データベースシステム - The substrate processing apparatus has a control means for performing a first recipe to process the substrate; and performs a second recipe, to maintain a processing chamber for processing the substrate, when a predetermined period of time elapses, in a state in which the substrate is not fed for the sequential substrate process, after the first recipe is performed, to finalize the predetermined substrate processing.
本発明に係る基板処理装置は，基板を処理するための第１のレシピを実行する制御手段を備え、前記第１のレシピを実行して所定の基板処理を終了させてから、次の基板処理で使用する基板が投入されない状態で所定時間達したら、前記基板が処理される処理室を保守するための第２のレシピを実行する。 - 特許庁 - In the plasma processing apparatus provided with a gas injecting means including a plurality of gas injecting ports 18 to the surface opposing to the processing object 8 in order to conduct the process to the processing object 8, the uniform plasma process can be implemented to the processing object by injecting a mixed gas having different flow rate ratios of two or more kinds of gas from different gas injecting ports.
被処理体８に対する対向面に複数のガス噴出口１８を備えるガス噴出手段を備え、前記被処理体８に処理を施すプラズマ処理装置において、２種類以上の互いに異なる流量比からなる混合ガスを、互いに異なる前記ガス噴出口から噴出させることで、被処理体に均一なプラズマ処理を施すことが可能となる。 - 特許庁 - Furthermore, the amount of particles adhering to the substrate is reduced because the particles generated in the processing region are discharged together with the process gas which is exhausted from an exhaust opening and thus the density of particles in the processing region is decreased.
また処理領域に生じたパーティクルは、プロセスガスが排気開口部から排気される際に一緒に排気されるため処理領域中のパーティクルの濃度が小さくなり、基板へのパーティクルの付着量が少なくなる。 - 特許庁 - To provide an image processing apparatus, and an image processing method for removing posteriorily a pseudo contour produced caused by a discretization process of a computer etc. in blur correction and an assumed condition used in an algorithm, and a recording medium therefor.
ブレ補正におけるコンピュータ等の離散化処理やアルゴリズムで用いられる仮定条件に起因して発生した、擬似輪郭を事後的に取り除く画像処理装置、画像処理方法、記録媒体を提供する。 - 特許庁 - A texture setting part 142 performs necessary processing for using at least a part of an original image plotted in an image plotted area being subjected to rendering processing in the image forming process of a given frame.
テクスチャ設定部１４２は、所与のフレームの画像生成過程においてレンダリング処理を施されて描画領域に描画された元画像の少なくとも一部をテクスチャとして利用するために必要な処理を行う。 - 特許庁 - To allow a processing amount to be reduced even when there is a constraint on an arrangement of an audio signal as a processing target in a case in which the audio signal is decompressed or compressed through a time axis domain process.
オーディオ信号を時間軸領域処理にて伸張または圧縮する場合において、処理対象となるオーディオ信号の配置に制約がある場合でも処理量を低減することができるようにする。 - 特許庁 - By this architecture, desired image processing can be executed in the television 100 by allowing the television 100 to receive the image data that includes the process indicating information indicating the image processing desired to execute in the television 100.
このため、テレビ１００にて実行させたい画像処理を指定した処理指定情報を含む画像データをテレビ１００に受信させることにより、テレビ１００に所望の画像処理を実行させることができる。 - 特許庁 - Data storage processing from a memory to the register and a multiplication process in the adder are executed at a sequential timing without operating the respective processes in parallel so as to perform the multiple length arithmetic processing.
さらに、メモリからのレジスタに対するデータ格納処理と、乗算器における乗算処理プロセスとを並列に動作させることなく、それぞれの処理プロセスをシーケンシャルなタイミングで実行して多倍長演算処理を行なう。 - 特許庁 - To provide a fabrication process of an MIM capacitor excellent in dielectric breakdown voltage and reliability and applicable to a microprocess in which focus margin or processing margin such as the thickness of resist film is ensured while reducing level difference at the time of processing.
絶縁破壊耐圧および信頼性に優れ、加工時に段差が少なくフォーカスマージンやレジスト膜厚等の加工マージンを確保した微細プロセスに搭載可能なＭＩＭ容量の製造方法を提供する。 - 特許庁
- ※この記事は「日本法令外国語訳データベースシステム」の2010年9月現在の情報を転載しております。
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