「in process processing」を含む例文一覧(4275)
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ホルマリン溶液を用いて染色固着処理を行う工程を備えるカラーフィルターの製造方法において、加熱ホルマリン溶液を使用し、染色固着処理を行うホルマリン溶液の温度を制御する。 - 特許庁 - When three devices a, b, c and one person m apply processing to components A, B, C, the person m performs processing to the component A, and two devices b, c perform processing to the component B and the component C, in a first process.
三台の装置ａ、ｂ，ｃと、一人の人間ｍが部品Ａ、Ｂ、Ｃに加工を施す際、第１工程では、部品Ａに対して人間ｍが加工を行い、部品Ｂと部品Ｃに対して二台の装置ｂ、ｃが加工を行う。 - 特許庁 - Each split image a-d undergoes image processing, e.g. resolution conversion, at an image processing section 14a using the information of pixels around a remarked pixel in order to process the remarked pixel becoming the processing object.
この各分割画像ａ〜ｄは、それぞれ画像処理部１４ａなどで、処理対象となる注目画素を処理するために当該注目画素の周囲の画素の情報を用いる、解像度変換などの画像処理がなされる。 - 特許庁 - To provide a simulation device for a moving picture processing circuit, which determines an optimum combination of image processing modules in a short time so that the effect of the process of an image processing module for each frame of a moving picture can be checked with a moving picture.
短時間でかつ最適な画像処理モジュールの組合せを見出し、動画像の各フレームについての画像処理モジュールの処理の効果を動画像で確認することのできる動画像処理回路のシミュレーション装置を提供する。 - 特許庁 - Depressing second release transfers a main image from monitoring processing and a CCD/CMOS part 20 to an image processing part 25 by a shutter control and developed in a memory 26 to blur-process the region other than the focused object, thus acquiring a blur processing effect.
第２レリーズ押下でモニタリング処理から、シャッター制御によりＣＣＤ／ＣＭＯＳ部２０から主画像が画像処理部２５へ転送、メモリ部２６に展開され、合焦した被写体以外の領域をぼかし処理して効果を得る。 - 特許庁 - The cooperative processing server 50 interprets the instructions and makes a processing request to each device such as image processor 61 so as to process a document following the contents of processing described in the written instructions, so that a plurality of processes can be processed cooperatively.
連携処理サーバ５０は、指示書を解釈し、指示書に記述された処理内容に従って文書が処理されるように、画像処理装置６１等の各装置に処理依頼を行い、複数の処理を連携処理させる。 - 特許庁 - To provide a system and a process for processing a substrate in which processing efficiency is enhanced while reducing unnecessary damage on the substrate by performing a required processing selectively at a required part on the surface of the substrate.
基板表面の必要箇所に関して選択的に所要の処理を実行することにより、基板処理効率の向上を図り、併せて基板への不必要なダメージを低減できる基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁 - When the signal processing operation of the pre-process section 14 is revised, the signal processing operation is revised in the unit of a frame summing period by a frame summing processing section 15 on the basis of a discrimination signal TW denoting the frame summing period.
プリプロセス部１４の信号処理動作を変更するときには、フレーム加算期間を示す判別信号ＴＷに基づいて、信号処理動作の変更をフレーム加算処理部１５でのフレーム加算期間単位で行う。 - 特許庁 - Since the imaging apparatus can process the monitor image without the need for awaiting the completion of the processing of the still image, the imaging apparatus carries out the processing of the monitor image in parallel with the processing of the still image just after still picture photographing to thereby be able to start monitor display at an earlier point of time.
スチル画像の処理終了を待たずにモニタ画像の処理を行えるので、スチル撮影の直後からモニタ画像の処理をスチル画像の処理と平行して行い、早い時点でモニタ表示を開始できる。 - 特許庁 - To perform a conventional molding process simultaneously with a bonding of inner leads and to shorten a TAB processing process, by a method wherein either of the heat of a bonding tool and the heat of an IC stage or both of the heats is or are utilized in the process.
本発明は、ＴＡＢ実装工程においてボンディングツ−ルの熱及びＩＣステ−ジの熱のどちらか、或いは両方を利用することで、従来のモ−ルド工程をインナ−リ−ドボンディングと同時に行い、工程の短縮をするものである。 - 特許庁 - A pseudo gradation processing section 16 conducts a pseudo gradation process, for example, a dither process and/or an error spreading process in order to display digital video signals VIDEO having a gradation number of n bits on a PDP device 20 having a gradation number of m bits (where n>m).
擬似階調処理部１６は、階調数がｎビットのディジタル映像信号ＶＩＤＥＯを階調数ｍビット（ｎ＞ｍ）のＰＤＰ装置２０に表示させるために、擬似階調処理、たとえば、ディザ処理、および／または、誤差拡散処理を行なう。 - 特許庁 - To provide a cloud computing system which is a system, upon receiving a request to process document data, to divide object data, to process the same and to integrate processed results and is capable of increasing or decreasing the number of process execution subjects in accordance with a processing status.
文書データの処理要求を受けて、処理対象のデータを分割して処理し、処理結果を結合するシステムであって、処理の状況に応じて、処理の実行主体の数を増減することができるクラウドコンピューティングシステムを提供する。 - 特許庁 - To enhance print processing speed without performing duty control for a motor if the heat storage quantity of the motor being driven in a printing process is sufficiently low, when a next printing process is performed following to a first printing process.
１回の印刷処理動作終了後次の印刷処理動作を行う場合、印刷処理の過程で駆動するモータの蓄熱量が充分に少ないときは、モータに対するデューティ制御を行わないことで印刷処理速度の向上を図る。 - 特許庁 - The wood processing method has a coating process for coating at least a part of the surface of the wood cut from material wood with predetermined coating and a compression process for compressing the wood coated in the coating process and the wood is processed into a predetermined three-dimensional shape.
原木から形取った木材の表面の少なくとも一部を所定の塗料によって塗装する塗装工程と、前記塗装工程で塗装された木材を圧縮する圧縮工程と、を有し、木材を所定の３次元形状に加工する。 - 特許庁 - Further, these original color reading process and complementary color reading process are provided with an image processing process, in which shading correction is performed on image data based on calibration data obtained by calibrating light-emitting means when reading the image manuscript.
さらに、これら原色読み工程と補色読み工程には、画像原稿を読取る際に、発光手段をキャリブレーションすることにより得られたキャリブレーションデータに基づいて、画像データに対するシェーディング補正を実行する画像処理工程を備える。 - 特許庁 - To complete a selection of an input pixel required for image processing before a process prior to one pixel or more is finished, in an image process which processes an input pixel and generates an output pixel, thereby making the image process faster.
入力画素を処理して出力画素を生成する画像処理における、画像処理に必要な入力画素の選択を１画素以上前の処理が終了する前に完了させることを可能にして、画像処理の高速化を図る。 - 特許庁 - Accordingly, even if it is a laminate 0.3 mm or under in thickness hard to polish, there never occurs nonconformity in flatness or nonconformity in pattern processing in later process by the protrusion or adhesion of the epoxy resin.
したがって，研磨しにくい０．３ｍｍ以下の厚さの積層板１５であっても，エポキシ樹脂の突出や付着により後の工程での平坦性不良やパターン加工の不良が生じることがない。 - 特許庁 - A large particle size of piezoelectric ceramic is eliminated in the piezoelectric layer by passing through the process to realize a piezoelectric sensor stable in polarization processing, excellent in reliability, and excellent in mass-productivity.
このような工程を経ることによって、圧電体層の圧電セラミックの粒径の大きなものはなくなり、分極処理も安定し信頼性が高く量産性に優れた圧電センサを実現することができる。 - 特許庁 - To provide a porous polypropylene film roll which is excellent in productivity, exhibits superior cell characteristics when it is used in a separator of a power storage device, and is improved in processing suitability in a cell production process.
生産性に優れ、蓄電デバイスのセパレータに用いた際に優れた電池特性を示し、また、電池製造工程における加工適正が改善された多孔性ポリプロピレンフィルムロールを提供すること。 - 特許庁 - The data management device 8 has a function of storing process information on processing conditions of each processing, in a storage device in association with identification codes for specifying products, deleting the whole process information on products determined to be non-defective products as a result of an inspection process performed on the produced products, from the storage device, and holding other information than that.
このデータ管理装置８は、各処理の処理条件に関するプロセス情報を製品を特定する識別符号と対応させて記憶装置に記憶させ、生産された製品について行われた検査工程の結果、良品と判定されたものに関する全プロセス情報を記憶装置から削除し、それ以外を保持させる機能を備えている。 - 特許庁 - To shorten a cooling time while preventing the bump of a cooled object and to reduce the usage of water and steam used in a pressure reducing means in a processing tank, in a vacuum cooling process.
真空冷却工程において、被冷却物の突沸を防止しつつ冷却時間の短縮を図り、処理槽内の減圧手段に用いる水や蒸気の使用量の削減を図る。 - 特許庁 - An in-use device actuating means 1-1b makes a processing part 1-1d perform an actuating process as the in-use device when the means itself is set as the in-use device when the system is actuated.
現用装置起動手段１−１ｂは、システム起動時に、自己が現用装置として設定されている場合には、現用装置としての起動処理を処理部１−１ｄに実行させる。 - 特許庁 - In the assembly process, the driving device 50, in which the rotational speed of the DC motor 52 is selected properly and switched corresponding to the processing speed of each device, is installed in each device main body.
組立工程においては、各機種の処理速度に応じてＤＣモータ５２の回転速度を適切に選択して切り替えた駆動装置５０を各機種本体に設置する。 - 特許庁 - To provide a resistor and manufacturing method of the same for reducing variations in characteristics in a manufacturing process, in a small resistor manufactured by processing a material composed of an alloy.
合金からなる材料に加工を施して製造される小型の抵抗器において、製造工程における特性ばらつきを低減した抵抗器と、その製造方法を提供する。 - 特許庁 - In this process, the substitute function 4 displays the progressing situation of the processing on the display screen 14 in an animation format in which the expression configuration is successively changed according to the progressing situation.
この過程において、代行機能４は、その処理の進行状況を進行状況に応じて表現形態が順次変化するアニメーション形式で表示画面１４に表示する。 - 特許庁 - In addition, in plasma processing apparatus having a dual power control, at a given application of power to the plasma generation source, the stability of the plasma is extended by increasing the pressure in the etch process chamber.
さらに、2重電力制御を有するプラズマ処理装置において、プラズマ発生源にある電力を適用するとき、エッチング処理チャンバの圧力を増すと、プラズマの安定性が拡大する。 - 特許庁 - Guidance showing the cause of the fact that update processing has failed is selected from guidance displayed in the process of download and installation, and stored in a saving buffer in a portable telephone (113).
ダウンロードおよびインストールの過程で表示されるガイダンスから更新処理が行えなかった原因を示しているガイダンスを選定し携帯電話内の待避バッファに保存する（１１３）。 - 特許庁 - To process data with image by utilizing plural processing circuits in parallel even when there is overlapping in an area to be plotted and even in the case of attributes different at each plotting area.
描画するべき領域に重複がある場合や、描画領域ごとに異なる属性の場合でも複数の処理回路を並列的に活用して画像でデータを処理する。 - 特許庁 - In the first forcible illumination driving processing, the illumination transition cell is forcibly set to an illumination mode in the first field only through an address process of a predetermined sub-field in each field.
第１強制点灯駆動では、上記第１フィールドにおいて、上記点灯遷移セルを、各フィールド内の所定のサブフィールドのアドレス行程のみで強制的に点灯モードに設定する。 - 特許庁 - A packet processed for WLAN and TLS security is processed in a pipeline method, which requires no current multi-loop process, resulting in reduced power consumption in respective packet processing.
ＷＬＡＮおよびＴＬＳセキュリティ用に処理されるパケットはパイプライン方式で処理され、現行のマルチループ処理を必要とせず、各パケットを処理するときの消費電力を低減できる。 - 特許庁 - To easily enable a plasma process which is uniform in the circumferential direction as well as the radial direction in an induction-coupled plasma processing apparatus, while sufficiently suppressing a wavelength effect in a radio frequency (RF) antenna.
誘導結合型プラズマ処理装置において、ＲＦアンテナ内の波長効果を十全に抑制しつつ、周回方向にも径方向にも均一なプラズマプロセスを容易に実現すること。 - 特許庁 - In this manufacturing method, after washing a piezoelectric single crystal wafer for the surface acoustic wave substrate with weak acid liquid whose pH is in the range of 4.0-6.5, it is cleaned with pure water whose pH is in the range of 6.0-8.0 (pre-processing process).
弾性表面波基板用圧電単結晶ウェーハをｐＨが 4.0〜 6.5の範囲の微弱酸液で洗浄した後、ｐＨが 6.0〜 8.0の範囲の純水で洗浄する（前処理工程）。 - 特許庁 - Especially, in the forge-compacting processing in the secondary process, the bar-shaped work 6 is pressed in the axial direction toward the metallic mold with a pressing element while holding with a holding body through a prescribed gap.
特に、第２工程の鍛縮加工では、棒状ワーク６を所定隙間を介して保持体により保持しながら加圧子により金型へ向けて軸方向へ加圧するようになっている。 - 特許庁 - To eliminate or reduce deterioration in oscillation characteristic by making etching residues small in a process of processing the external shape of a face crystal oscillator piece oscillating in lame mode or face shear mode.
ラーメモード又は輪郭すべりモードで振動する輪郭水晶振動片を外形加工する工程において、エッチング残渣を小さくして振動特性の劣化を解消又は低減する。 - 特許庁 - The water-soluble lubricant for metal processing allows little change in the solution viscosity, inhibits decrease in the liquid stability when diluted with water and inhibits generation of mists in cutting process.
この水溶性金属加工用油剤は、溶液の粘度変化が少なく、水に希釈した際の液安定性の低下を防ぐと共に、切削加工工程においてミストの発生を抑制する。 - 特許庁 - To provide a fluoro-rubber composition for molding process excellent in processing characteristics such as kneading and extruding, in particular, excellent in extrusion molding into a thin product, and to provide a hose for fuel using the composition.
練りや押出といった加工特性に優れ、特に薄肉に押出加工するのに優れる、成形加工用フッ素系ゴム組成物およびそれを用いた燃料用ホースを提供する。 - 特許庁 - To provide a waste liquid processing method in a semiconductor manufacturing process in which even when the use quantity of chemical fluctuates, solidification is prevented from being generated in the discharge piping of mixed waste liquid.
薬液の使用量が変動しても混合廃液の排出配管において固化を生じさせない半導体製造工程における廃液処理方法を提供すること。 - 特許庁 - A data processing unit comprises a storage part for holding data to be processed, a data processing circuit for processing the data held in the storage part, a connection part connectable with a processing device for executing a computer program, and a control part for invalidating the data processing by the data processing circuit and requesting the processing device connected to the connection part to process the data if detecting a predetermined condition.
処理対象のデータを保持する記憶部と、前記記憶部に保持されたデータを処理するデータ処理回路と、コンピュータプログラムを実行する処理装置に接続される接続部と、所定の条件が検知されたときに、前記データ処理回路による前記データの処理を無効とし、前記接続部に接続された処理装置に対して、前記データの処理を要求する制御部と、を備える。 - 特許庁 - When the pump 70 is made in the operating condition after the suction valve 66 is made in the valve opening condition in the process of the above processing, it is prevented that the suction side of the pump 70 is made in a negative pressure in the pump operating condition.
上記の処理の過程で吸入弁６６が開弁状態とされた後にポンプ７０が作動状態とされた場合、ポンプ作動時にポンプ７０の吸入側が負圧になることが防止される。 - 特許庁 - To provide a substrate processing method capable of preventing deterioration in an etching selection ratio in etching treatment, and reducing roughness of a pattern edge in a substrate in which a wiring pattern of photoresist is formed in a photolithographic process.
フォトリソグラフィ工程によりフォトレジストの配線パターン形成がなされる基板おいて、エッチング処理でのエッチング選択比の低下を抑制し、パターンエッジのラフネスを低減することのできる基板処理方法を提供する。 - 特許庁 - In the method for continuously processing converter slag produced in a copper smelting process, the slag flowed in a receiving trough 1 in a molten state is introduced in a holding furnace 2 where feeding amount of the slag into a reducing furnace 4 is adjusted.
銅製錬過程で発生する転炉スラグを連続処理する方法が、溶融状態で受入樋１に流入したスラグは、保持炉２に導入され、ここでを還元炉４への装入量が調整される。 - 特許庁 - To collect resources held by means of a process without any problem even in an abnormality by processing an input/output without being conscious of the existence of a plurality of adapters in a user process in a system where a plurality of the same adapters exist.
同一のアダプタが複数存在するシステムにおいて，ユーザプロセスにアダプタが複数存在することを意識させずに，入出力を処理することを可能とし，異常時にもプロセスが保持するリソースの回収を問題なく行うことができるようにする。 - 特許庁 - In segmenting and batch-processing a molding process or a laminating process, in order to manage time from molding by a stock means such as a temporary stuck pole, substrates are stocked by each molding machine, each mold, each molding condition or each lot in the order of molding.
成形工程あるいは貼り合わせ工程を分断してバッチ処理する際、一旦スタックポール等のストック手段に成形からの時間の管理が可能なように、成形した順番で成形機、金型、成形条件あるいはロット毎に基板をストックする。 - 特許庁 - To achieve reduction in energy cost for substrate processing and simplification in apparatus configuration by making it possible to process a substrate even in no heating at a low temperature of 100°C or lower and to process the substrate without narrowing a range of material selection.
１００℃以下の低温で無加熱でも基板を処理できるようにして、基板処理する際のエネルギーコストの低減と装置構成の単純化を実現させると共に基板の材料選択の幅を狭めることなく、基板の処理を行う。 - 特許庁 - The coupling means couples the processing steps so that the units not used in the first lot start a first process in the second lot prior to completing the process of the first lot and prior to carrying in the second lot.
前記結合手段は、前記第１ロットの処理の完了前且つ前記第２ロットの搬入前に、前記第１ロットに関し使用されなくなったユニットが前記第２ロットに関する第１の処理を開始するように、前記処理工程を結合する。 - 特許庁 - To provide a business process management system which manages the state and flow of business, the system executing exceptional processing to cope with errors occurring in business and automatically restarting processing from the state of a business process which is executed before, or canceling the business process when the errors occur.
業務の状態と流れを管理する業務プロセス管理システムにおいて、業務的なエラーが発生した場合、エラーに対処するための例外処理を実行し、自動的に業務プロセス上の以前に実行された業務状態から再開する又は業務プロセスを取り消すことを可能とすることを目的とする。 - 特許庁 - In a process forming the MOS device on the main face of a silicon wafer, before wafer processing by the process device (an etching device, an ashing processing device, a sputter device and a CVD device) using the plasma, an insulating film is previously formed on the wafer rear face and reduces damage to the device caused by the process device using the plasma.
シリコンウェハ主面にＭＯＳデバイスを形成するプロセスにおいて、プラズマを用いるプロセス装置（エッチング装置、アッシング処理装置、スパッタ装置、ＣＶＤ装置）によるウェハ加工前に、予めウェハ裏面に絶縁膜を形成しておき、プラズマを用いるプロセス装置起因によるデバイスヘのダメージを低減する。 - 特許庁 - The unevenness defect detecting method has an unevenness component emphasizing processing process for applying an unevenness component emphasizing filter to each of the pixels of a photographed image to emphasizing unevenness components and an unevenness defect detecting process for detecting the uneven defect on the basis of the unevenness components emphasized value of each of the pixels obtained in the unevenness component emphasizing processing process.
ムラ欠陥検出方法は、撮像した画像の各画素に対してムラ成分強調フィルタをかけてムラ成分を強調するムラ成分強調処理工程と、前記ムラ成分強調処理工程で得られた各画素のムラ成分強調値に基づいてムラ欠陥を検出するムラ欠陥検出工程とを有する。 - 特許庁 - The laser beam processing method is provided with; a process for forming a wax-film 6 on the surface to be processed in a material 3 to be processed; a process for laser beam-processing by condensing and emitting the laser beam onto a zone to be processed on the surface to be processed from the wax-film 6 side; and a process for removing the wax-film 6.
被加工物３の加工すべき表面にワックス皮膜６を形成する工程と、前記ワックス皮膜６側から前記加工すべき表面の加工すべき領域にレーザを集光照射してレーザ加工する工程と、前記ワックス皮膜６を除去する工程と、を有することを特徴とするレーザ加工方法。 - 特許庁 - The sample preparing method includes the process for forming an island-like structure by applying groove processing to a substrate, the process for applying isotoropic etching processing to the island-like structure to form needle-like bodies and the process for forming an analyzing target at least to the leading end parts of the needle-like bodies in a film-like state.
本発明の試料の作製方法は、基板に溝加工を施す事により島状構造体を形成する工程と、前記島状構造体に等方性エッチング処理を施し針状体を形成する工程と、前記針状体の少なくとも先端部に分析対象を膜状に形成する工程と、を備える。 - 特許庁
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