「light pattern」を含む例文一覧(7053)
＜前へ 1 2 .... 4 5 6 7 8 9 10 11 12 .... 141 142 次へ＞- Then, a light scattering pattern is not provided at a place in the neighborhood of the light source 2 in this surface 12, but a light scattering pattern 18b is provided at a place separated from the light source of the same surface 12.
そして、この下側面１２のうち光源２の近傍となる箇所には光散乱パターンを設けず、同じ下側面１２の光源から離れた箇所には光散乱パターン１８ｂを設けている。 - 特許庁 - Since the light pattern is generated by controlling the light emitting mode of each LED of the light source array part 11, an optional light pattern can be electrically generated without requiring any mechanical mechanism.
また、光源アレイ部１１の各ＬＥＤの発光態様を制御することによって光パタンを生成するので、任意の光パタンを、機械的な機構を必要とせず、電気的に生成することが可能になる。 - 特許庁 - If the light distribution patterns are inputted beforehand to the memory section of the control section 30, the liquid droplets of the light distribution pattern forming material can be discharged onto the light guiding substrate 11 according to the light distribution pattern.
制御部３０の記憶部に配光パターンを予め入力しておけば、この配光パターンにしたがって配光パターン形成材の液滴を導光基板１１上へ吐出することができる。 - 特許庁 - A dimension of the pattern elements 3a in a vertical direction Y with respect to a light guide direction X of the light emitted from the light source 1 is shorter than that of the pattern elements 3a in the light guide direction X.
光源１からの光の導光方向Ｘに関するパターン要素３ａの寸法に比して、導光方向Ｘに垂直な方向Ｙに関するパターン要素３ａの寸法が短い。 - 特許庁 - To enable to form a light distribution pattern suitable for structuring a center part of the light distribution pattern for high beam having a compact structure, in a lighting lamp for a vehicle using a light-emitting device as a light source.
発光素子を光源とする車両用照明灯具において、これをコンパクトな構成とした上で、ハイビーム用配光パターンの中心部の構成に適した配光パターンを形成可能とする。 - 特許庁 - In this headlamp device, each of a right first light emitting element 52R1 to a right fifth light emitting element 52R5 arranged on a right side of the vehicle forms a first additional light distribution pattern to a fifth additional light distribution pattern.
前照灯装置において、車両の右側に配置される右第１発光素子５２Ｒ１〜右第５発光素子５２Ｒ５は、各々が第１付加配光パターン〜第５付加配光パターンを形成する。 - 特許庁 - To form a light distribution pattern suitable for constituting a central part of the light distribution pattern for a high beam, after compactly constituting the vehicular lighting fixture, in the vehicular lighting fixture with a light emitting element as a light source.
発光素子を光源とする車両用照明灯具において、これをコンパクトな構成とした上で、ハイビーム用配光パターンの中心部の構成に適した配光パターンを形成可能とする。 - 特許庁 - The light emitting element 13 has both a light emission pattern 15 for display for displaying data, by emitting light, when driven, and a light emission pattern 16 for illumination for illuminating the indicating needle 11 and the dial 9.
また、発光素子１３が駆動時に発光してデータを表示する表示用の発光パターン１５と、指針１１および文字板９を照明する照明用の発光パターン１６とを有する。 - 特許庁 - Since a light pattern is generated by controlling the light emission mode of each LED in the light source array part 11, an optional light pattern is generated electrically without requiring a mechanical mechanism.
また、光源アレイ部１１の各ＬＥＤの発光態様を制御することによって光パタンを生成するので、任意の光パタンを、機械的な機構を必要とせず、電気的に生成することが可能になる。 - 特許庁 - One optical path is provided with a pattern generation element for generating the optical pattern of a stripe pattern, and light passing through the optical path is the optical pattern of the stripe pattern to be projected from the projection lens 56.
一方の光路には縞模様の光パターンを生成するためのパターン生成素子を設けてあり、当該光路を通過した光は縞模様の光パターンとなって投影レンズ５６から投影される。 - 特許庁 - A coin detector for detecting coins includes: a light emitting unit for radiating detection light; a signal generating circuit for determining a light emitting pattern of the light radiated by the light emitting unit; and a light receiving unit for receiving detection light.
コインを検出するコイン検出装置に、検出光を照射する発光部と、発光部が照射する検出光の発光パターンを決定する信号発生回路と、検出光を受光する受光部とを設ける。 - 特許庁 - The endoscope 10 includes a light guide 22b for transmitting infrared light from a light source 40b, a light guide 22c for transmitting measuring light from a light source 40c, and a CCD 24a for imaging the projection pattern of the measuring light.
内視鏡１０は、光源４０ｂからの赤外光を伝搬するライトガイド２２ｂ、光源４０ｃからの測定光を伝搬するライトガイド２２ｃ、および測定光の投影パターンを撮像するＣＣＤ２４ａを有する。 - 特許庁 - To provide a pattern forming material having high exposure sensitivity, excellent resolution and a high prevention effect against light fog by a light source such as a safelight, and resulting in formation of a high definition pattern, and to provide a pattern forming apparatus equipped with the pattern forming material, and a pattern forming method using the pattern forming material.
露光感度が高く解像度に優れ、かつ、セーフライトなどの光源での光カブリの防止効果が高く、高精細なパターンを形成可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁 - The game machine with an LED unit 29 capable of emitting light in a plurality of colors stores a plurality of light emitting pattern data having the first pattern in which a lighting pattern and an emission color pattern of the LED unit 29 are defined and the second pattern different in emission color from the first pattern.
複数色を発光可能なＬＥＤユニット２９を備えた遊技機において、ＬＥＤユニット２９の点灯パターンと発光色パターンとが定義付けられた第１パターン、及び、１パターンと発光色が異なる第２パターンを有する発光パターンデータを複数記憶する。 - 特許庁 - A dummy pattern is formed in a thin pattern region on a mask by utilizing phase contrast to impart the same shape as the shape of light diffracted by a dense pattern to light diffracted by the thin pattern, thereby reducing the thin-dense deflection of an element pattern formed on a wafer.
マスク上の疎らなパターン領域に位相差を利用してダミーパターンを形成して、疎らなパターンの回折光を密なパターンの回折光と同じ形にすることによって、ウェーハ上に形成される素子パターンの疎密偏差を低減する。 - 特許庁 - For each light-emitting element 4, a p-electrode side wiring pattern 2 and an n-electrode side wiring pattern 3 are arranged such that one becomes a wide wiring pattern and the other becomes a narrow wiring pattern, and the light-emitting element 4 is arranged in the center of the wide wiring pattern.
各発光素子４に対し、一方が幅広、他方が幅狭の配線パターン部になるようにｐ電極側配線パターン部２とｎ電極側配線パターン部３とを配設し、発光素子４を幅広の配線パターン部の中央部に配置する。 - 特許庁 - Illumination light which is made incoherent and illuminates a pattern surface on an observation object by using coherent light, and reference light which is made incoherent are formed, a light amount of reference light is dimmed corresponding to reflectance of a pattern surface, reflection light from a pattern surface and reference light are combined and imaged on a photoelectric conversion element and a pattern position is measured from the imaged interference image signal.
コヒーレント光を用いて観察物体上のパターン面を照明するインコヒーレント化された照明光と、インコヒーレント化された参照光とを形成し、参照光の光量をパターン面の反射率に対応して調光し、パターン面からの反射光と参照光を合わせて光電変換素子上に結像させ、その結像した干渉画像信号からパターンの位置を計測する。 - 特許庁 - The dummy pattern in the virtual region 2 is a square light shielding pattern with a 0.15 μm side length, while the dummy pattern in the virtual region 3 is a square light shielding pattern with a 0.2 μm side length.
仮想領域２中のダミーパターンは、１辺の長さが０．１５μｍの正方形状の遮光パターンであり、仮想領域３中のダミーパターンは、１辺の長さが０．２μｍの正方形状の遮光パターンである。 - 特許庁 - The intermediate color filter 3 has the spacer 17 formed correspondingly to the light shielding pattern 12, the rib 19 formed correspondingly to the halftone pattern 13 and the sub-spacer 21 formed according to the light shielding pattern 14 and the halftone pattern 15.
カラーフィルタ３は、遮光パターン１２に対応してスペーサ１７が形成され、ハーフトーンパターン１３に対応してリブ１９が形成され、遮光パターン１４とハーフトーンパターン１５に対応してサブスペーサ２１が形成される。 - 特許庁 - Considering that contrast in light intensity of the fine pattern adjacent to the wide pattern is decreased, a pattern processing which reduces a decrease of the contrast in light intensity for the fine pattern is performed to obtain a semiconductor device.
幅広パターンに隣接した微細パターンの光強度コントラストが低下することを考慮して、微細パターンに対する光強度コントラストの低下を軽減するパターン処理を施した半導体装置が得られる。 - 特許庁 - In the boundary between the convex pattern part and the concave pattern part, the phase of the exposure light is reversed by 180°, and the intensity of the exposure light can be reduced in a corner part which is the boundary between the convex pattern part and the concave pattern part.
これにより、凸パターン部と凹パターン部の境界において、露光光は１８０°位相が反転し、凸パターン部と凹パターン部の境界であるコーナー部において露光光の強度を低下することが出来る。 - 特許庁 - A light intensity pattern is formed by optical simulation using the pattern data (S13), and a model for specifying the quantity of corrections correlated with the difference in size between the light intensity pattern and the test pattern is developed (S14, S15).
パターンデータを用いた光学シミュレーションにより光強度パターンを形成し（Ｓ１３）、テストパターンに対する光強度パターンの寸法相違に相関する補正量を規定するモデルを生成する（Ｓ１４，Ｓ１５）。 - 特許庁 - The exposure device 10 exposes a wafer 7 to light, by using a mask pattern 30 having a metal wiring mask pattern 31 and an identification mask pattern 32, and a mask pattern 40 having a metal wiring mask pattern 41 and an identification mask pattern 42.
露光装置１０は、金属配線マスクパターン３１及び識別マスクパターン３２を有するマスクパターン３０と、金属配線マスクパターン４１及び識別マスクパターン４２を有するマスクパターン４０とを用いてウエハ７を露光する。 - 特許庁 - A reticule 3 transmits incident light corresponding to a prescribed circuit pattern.
レチクル３は、所定の回路パターンに応じて入射光を透過させる。 - 特許庁 - METHOD FOR FORMING LIGHT SHIELDING PATTERN AND METHOD FOR PRODUCING LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE
遮光パターン形成方法及び液晶表示装置の製造方法 - 特許庁 - ENVIRONMENT SENSING LIGHT EMITTING SYSTEM AND EMITTING PATTERN INFORMATION DISTRIBUTION SYSTEM
環境感応式発光システム、および発光パターン情報配信システム - 特許庁 - A light-emitting level pattern storage part 230A stores setting information on a light-emitting level pattern or a sampling pulse in each register 232 of a register set 231.
発光レベルパターン記憶部２３０Ａはレジスタセット２３１の各レジスタ２３２に発光レベルパターンやサンプリングパルスの設定情報を記憶する。 - 特許庁 - To provide a motorcycle projector headlight for a motorcycle capable of forming both a bank light distribution pattern and an overhead light distribution pattern during banking of a vehicle body.
車体バンク時のバンク配光パターンとオーバーヘッド用配光パターンとを形成可能な自動二輪車用プロジェクタ型ヘッドランプを提供する。 - 特許庁 - To obtain a good pattern shape when a resist pattern is formed by using light of 1 nm band to 190 nm band as light for exposure.
露光光として１ｎｍ帯〜１９０ｎｍ帯の光を用いてレジストパターンを形成する場合に、良好なパターン形状が得られるようにする。 - 特許庁 - Then, when the second emission pattern light is emitted, the optical beacon #3 begins to emit its emission pattern light involving an ID code [3] at the moment when the optical beacon #3 receives the emission pattern light from the optical beacon #2.
そして、２回目の発光パターン光の発光したときに、光学ビーコン＃３が光学ビーコン＃２の発光パターン光を受光すると、光学ビーコン＃３はＩＤコード「３」を含む自己の発光パターン光の発光を開始する。 - 特許庁 - To confirm residual amount of battery power by the lighting pattern of a back light section.
バックライト部の点灯パターンによって電池残量を確認できる。 - 特許庁 - To stably read a pattern code by accurately controlling the quantity of light of a light source for reading a pattern code with a simple configuration and by a simple control.
簡易な構成および制御によってパターン符号の読み取り光源の光量を適正に制御し、パターン符号を安定的に読み取る。 - 特許庁 - A second reflective surface 12 forms a high luminous light distribution pattern HP.
第２反射面１２は、高光度用配光パターンＨＰを形成する。 - 特許庁 - The reference plate for irradiating the observational light to a reference mark pattern, detecting the light reflected by it, and obtaining the position of the reference mark pattern is set to a place, where the reference mark pattern is not exposed directly to the observational light.
基準マークパターンに観察光を照射し、そこで反射された光を検出し、基準マークパターンの位置を求めるための基準プレートにおいて、基準マークパターンを観察光に直接曝されない位置に設ける。 - 特許庁 - To restrain exposure light from becoming uneven in illuminance so as to transfer accurate pattern.
露光光の照度むらを抑えて正確なパターン転写を行う。 - 特許庁 - To facilitate an optimum design of a gradation pattern of a light diffusion layer.
光拡散層のグラデーションパターンの最適設計を容易にすること。 - 特許庁 - One portion of light emitted from a light source unit 30 is shielded with the dot pattern of the pattern image displayed on the monochromatic liquid crystal panel 24, and the liquid crystal panel 21 is irradiated with the other portion of light which has not been shielded with the dot pattern.
光源ユニット３０から発せられた光の一部は、モノクロ液晶パネル２４に表示されたパターン画像のドットパターンで遮られ、他の光はドットパターンに遮られることなく液晶パネル２１を照射する。 - 特許庁 - PROJECTING AND PHOTOGRAPHING METHOD OF LIGHT PATTERN TO THREE-DIMENSIONAL OBJECT AND ITS SYSTEM
３次元物体への光模様の投射・撮影方法及び同システム - 特許庁 - As a result, the vehicular lamp can irradiate effectively and efficiently the light distribution pattern of condensing type and the light distribution pattern of diffusion type.
この結果、この発明は、集光タイプの配光パターンと拡散タイプの配光パターンとを有効にかつ効率良く照射することができる。 - 特許庁 - To determine a difference (mutual detection error) between the time when a correction pattern is detected using regular reflection light and the time when the correction pattern is detected using diffused reflection light.
正反射光による補正パターンの検知タイミングと乱反射光による補正パターンの検知タイミングの差（相互検知誤差）を特定する。 - 特許庁 - If the light-absorbing layer is in a partially provided desired pattern shape, a film-forming pattern reflecting the pattern shape of the light-absorbing layer on which light is irradiated is deposited on the substrate later to be a part of the display panel.
光吸収層が部分的に設けた所望のパターン形状であれば、光が照射された光吸収層のパターン形状を反映した成膜パターンが後に表示パネルの一部となる基板に成膜される。 - 特許庁 - To provide a plane light emitting apparatus which can control an impression of a light guide pattern in a display region of a designed pattern without using a conventional light dispersion sheet and can express an intended designed pattern at a low cost and can improve designability.
従来の光拡散用シートを用いずに柄模様の表示領域内での導光パターンの印象を抑えることができ、低コストで、意図した柄模様の表現が可能となり、デザイン性の向上を図ること。 - 特許庁 - FORMING METHOD FOR FINE PATTERN AND MANUFACTURING METHOD FOR POLARIZED LIGHT SEPARATING ELEMENT
微細パターンの形成方法及び偏光分離素子の製造方法 - 特許庁 - When an optical beacon #2 receives an emission pattern light from an optical beacon #1, self emission of an emission pattern light that includes an ID code [2] begins.
光学ビーコン＃２は光学ビーコン＃１からの発光パターン光を受光すると、ＩＤコード「２」を含む自己の発光パターン光の発光を開始する。 - 特許庁 - EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT EXPOSURE MASK AND BLANK AND PATTERN TRANSFER METHOD
極限紫外線露光用マスク及びブランク並びにパターン転写方法 - 特許庁 - The light of the wavelength converted by the acid dye contained in the resist pattern 2 in reflected light from the resist pattern is shielded by a band pass filter 3.
レジストパターン２からの反射光のうちレジストパターン２に含まれる酸性染料で波長変換された光をバンドパスフィルター３で遮断する。 - 特許庁 - METHOD FOR DESIGNING LIGHT SHIELDING LAYER PATTERN IN PHOTOSEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT
光半導体集積回路における遮光層のパタ—ン設計方法 - 特許庁 - The pattern-forming method comprises the irradiation of the pattern-forming material with light of 250-450 nm wavelength followed by the decomposition of the resin with laser light.
前記パターン形成材料に、２５０〜４５０ｎｍの光を照射し、その後、レーザーにて分解することを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁 - Variations in the intensity of the reflected light can be converted to an electronic pattern
反射光の輝度の変化を電子パターンに変換することができる - コンピューター用語辞典 - It does not matter if the light shielding pattern is removed after the water repellent thin film layer in a part where the light shielding pattern is not formed is decomposed and removed.
遮光パターンが形成されていない部分の撥水性薄膜層を分解除去した後で、遮光パターンを除去しても構わない。 - 特許庁
- 特許庁
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