「line width」を含む例文一覧(3396)

＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 67 68 次へ＞
  • Line width measurement is repeatedly performed during the development process.
    この線幅の測定は，現像中繰り返し行われる。 - 特許庁
  • Consequently, a pattern having a uniform line width is obtained.
    このため線幅が均一なパターンを得ることができる。 - 特許庁
  • The heat treatment conditions are decided based on measurement values of the line width measured in the first line width measuring process.
    第１の線幅測定工程で測定した線幅の測定値に基づいて熱処理条件を決定する。 - 特許庁
  • SYSTEM AND METHOD FOR VARYING HAND-DRAWN LINE WIDTH FOR DISPLAY
    表示する手書き線幅を変えるシステム及び方法 - 特許庁
  • 1. Integrated circuits whose minimum line width which is 0.5 micrometers or more
    （一）　最小線幅が〇・五マイクロメートル以上のもの - 日本法令外国語訳データベースシステム
  • (a) Microprocessors, microcomputers, or microcontrollers with whose minimum line width 0.5 micrometers or more
    イ　最小線幅が〇・五マイクロメートル以上のもの - 日本法令外国語訳データベースシステム
  • (. )aAppends text to the buffer after the addressed line, which may be the address 0 (zero).
    l -tag -width indentt (.)a指定した行の後にテキストを追加します。 - JM
  • To suppress dispersion of the line width in etching of a multilayer film.
    多層膜のエッチングでの線幅のばらつきを抑える。 - 特許庁
  • To prevent breaking of edge sections of a black vertical line in a width of one dot, a vertical line in a width of one dot in an intermediate density and a vertical line in a width of plural dots in a multi-value image.
    多値画像に対して１ドット幅の黒の縦線や中間濃度の１ドット幅の縦線、複数ドット幅の縦線のエッジ部が途切れることを防止する。 - 特許庁
  • To provide an exposure system which can reduce the wafers having line width defects caused by the delay in line width measurement when manufacturing wafers.
    線幅測定の遅延に起因した線幅不良のウエハの製造を減少させる露光システムを提供する。 - 特許庁
  • A resist of a pattern having a line width/space width ratio of 1:1 is formed thereover.
    その上にライン幅とスペース幅の比率が１：１のパターンのレジストを形成する。 - 特許庁
  • To display stock price data with characters of a line width larger than 1-bit width.
    株価データを、１ビット巾よりも広い線巾の文字で表示できるようにする。 - 特許庁
  • When the extension ratio η of the line width is set larger for the region where the line conductors are distributed coarsely, occurrence of deficient line width due to overetching can be prevented effectively in a line conductor having a small line width.
    そこで、線路導体が疎に分布する領域ほど、線路幅の拡張比率ηを大きくすれば、線幅の小さい線路導体において、オーバーエッチングによる線幅不足の発生を効果的に防止することができる。 - 特許庁
  • In order to decrease the main line self inductance more than the sub line self inductance, the line width of the sub line conductor pattern 3a is selected narrower than the line width of the main line conductor pattern 2a.
    そして、主線路の自己インダクタンス値を副線路の自己インダクタンス値より低くするため、副線路用導体パターン３ａの線路幅が、主線路用導体パターン２ａの線路幅より狭く設定されている。 - 特許庁
  • Afterward, the fabric is folded by letting the central line 6 of the central fixed width 2 as a base line.
    その後、中央一定巾２の中央線６を基準にして折り返す。 - 特許庁
  • Each electrode line is a transparent electrode and its line width is 8 μm or smaller.
    各電極線は透明電極であって、その線幅は８μｍ以下である。 - 特許庁
  • The extension ratio ηof the line width for CAD/CAM conversion of the figure data of line conductors into the figure data of plating windows is controlled to be larger in a line conductor having small line width than in a line conductor having large line width.
    線路導体の図形データを、メッキウィンドウの図形データにＣＡＤ／ＣＡＭ変換する際の線路幅の拡張比率ηを、線路幅の小さい線路導体において線路幅の大きい線路導体よりも大きくなるように設定する。 - 特許庁
  • The line pulse width data S52 is divided by a block making section 53, then block pulse width data S53 is outputted.
    ラインパルス幅データS52 はブロック化部53で分割され、ブロックパルス幅データS53 が出力される。 - 特許庁
  • To narrow the width of a scribing line by reducing the width of a TEG region for monitoring the process.
    プロセスモニタ用ＴＥＧ領域の幅を縮小して、スクライブライン幅を狭くする。 - 特許庁
  • To provide a resist material capable of forming a resist line having a uniform line width.
    均一な線幅を有するレジストラインを実現できるレジスト材料を提供する。 - 特許庁
  • More concretely the line width of the sub line conductor pattern 3a is selected to be 50% or over and 90% or below of the line width of the main line conductor pattern 2a.
    より具体的には、副線路用導体パターン３ａの線路幅を主線路用導体パターン２ａの線路幅の５０％以上９０％以下に設定する。 - 特許庁
  • SEMICONDUCTOR DEVICE WITH CONDUCTIVE LINE OF VERY NARROW LINE WIDTH AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME
    微細線幅の導電性ラインを有する半導体素子及びその製造方法 - 特許庁
  • The point of intersection of the straight line and a straight line A imparting a certain linear width is calculated.
    この直線と、一定の線幅を与える直線Ａとの交点を求める。 - 特許庁
  • LINE WIDTH CALCULATION DEVICE, CALCULATION METHOD, AND CALCULATION PROGRAM
    線幅算出装置と算出方法並びに算出プログラム - 特許庁
  • The line pulse width data S52 is corrected based on the correction value S57.
    ラインパルス幅データS52 は補正値S57 に基づいて補正される。 - 特許庁
  • To improve the recording density in the line direction and the track width direction.
    線方向及びトラック幅方向の記録密度を高める。 - 特許庁
  • It also displays a line expressing the target value and its width.
    また目標値とその幅を示すラインを表示等する。 - 特許庁
  • VEHICLE WIDTH LINE ADJUSTING METHOD, IN-VEHICLE CAMERA APPARATUS, AND PROGRAM
    車幅線調整方法、車載カメラ装置及びプログラム - 特許庁
  • PATTERN LINE WIDTH MEASURING METHOD OF SEMICONDUCTOR ELEMENT AND ITS APPARATUS
    半導体素子のパターン線幅測定方法及びその装置 - 特許庁
  • As the result, the electrodes having a stable line width can be formed.
    その結果、安定した線幅の電極が形成される。 - 特許庁
  • Each of R electrodes 141 has 196 μm line width.
    また、Ｒ電極１４１の線幅は１９６μｍである。 - 特許庁
  • The longest tunnel kiln is 125m in length (one line and nine rows of flat-type tiles in width).
    最長は、125mのトンネル窯（幅、F形9列1段）である。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • Line width of the black layer 34 patterned during development is set narrower than the line width of the patterned silver layer 35.
    そして、現像時にパターン化された黒色層３４の線幅をパターン化された銀層３５の線幅よりも狭くする。 - 特許庁
  • PULSE WIDTH MEASURING DEVICE, PULSE WIDTH MEASURING METHOD, OPTICAL TRANSMISSION LINE DISPERSION DETECTION DEVICE, AND OPTICAL TRANSMISSION LINE DISPERSION DETECTION METHOD
    パルス幅測定装置、パルス幅測定方法、光伝送路分散検出装置及び光伝送路分散検出方法 - 特許庁
  • Based on the monospaced line obtained by the separation processing of the monospaced line and the surface, vector data indicated by a core line and line width is generated.
    また、等幅線・面の分離処理で得られた等幅線に基づいて、芯線と線幅とで表されるベクトルデータを生成する。 - 特許庁
  • The integrated error is added to the next line voltage, and, when the pulse width exceeds the minimum pulse width, line voltage pulses of the integrated pulse width are outputted.
    積算誤差は次回の線間電圧に加算し、パルス幅が最小パルス幅以上となったら、積算したパルス幅の線間電圧パルスを出力する。 - 特許庁
  • The length of line, the width of line, and the position describing the line are specified so that the first reference line may be covered with the second reference line and the cable may fall in the width of line visually at the time of normal connection.
    第一の基準線が第二の基準線に、ケーブルが正常接続時には目視にて線幅内に収まる様に線長、線幅、線記載位置を規定し構成されたフレキシブルフラットケーブル及びプリント配線板。 - 特許庁
  • For example, a control of a trimming amount of the line width of the photoresist 105b is performed so that the line width of the photoresist 105b may be the same as the line width of the mask pattern constituted by the SiO_2 layer 103.
    例えば、フォトレジスト１０５ｂの線幅が、ＳｉＯ_2層１０３からなるマスクパターンの線幅と同一になるようにフォトレジスト１０５ｂの線幅のトリミング量の制御を行う。 - 特許庁
  • After melting the toner, a line width of fixed toner DF2, DF3 become near to the width of the case of the toner being monochrome (line width DF1), and the possibility that this dot gain or line-space blocking generates becomes small.
    トナー溶融後、定着したトナーの線幅ＤＦ２、ＤＦ３は、トナーが単色（線幅ＤＦ１）の場合に近くなり、線太り又はつぶれが発生する可能性が小さくなる。 - 特許庁
  • MULTIPLE PDL OPERATOR DEFINITION FOR MANAGING LINE WIDTH OF LINE OVERLAPPED ON PAINTED-OUT OBJECT
    塗りつぶしオブジェクトに重なる線の線幅管理のためのＰＤＬオペレ—タ多重定義 - 特許庁
  • In a line width measuring device 1, the circuit line of one CMOS to be measured is imaged in the state where the circuit line and the pixel train of a CCD image sensor are inclined in the measurement of the line width of the circuit line.
    線幅測定装置１では、測定対象となる１つのＣＭＯＳの回路線の線幅を測定する際に、回路線とＣＣＤイメージセンサのピクセル列とを傾けた状態で撮像する。 - 特許庁
  • A width W1 of each pad line 109p is smaller than a height of each pad line 109p and larger than a width W3 of the line connection part 109q.
    各パッド配線１０９ｐの幅Ｗ１は、各パッド配線１０９ｐの高さよりも小さく且つ配線接続部１０９ｑの幅Ｗ３よりも大きい。 - 特許庁
  • First transmission line portions having a first width are alternately interlaced with second transmission line portions having a second width in the transmission line.
    伝送線において、第１の幅を有する第１の伝送線部分は、第２の幅を有する第２の伝送線部分と交互に交差（インターレース）されている。 - 特許庁
  • To extract width data corresponding to a road center line from road center line vector data and block line vector data.
    道路中心線ベクトルデータと街区線ベクトルデータより、道路中心線に対応する幅員データを抽出する。 - 特許庁
  • It is preferred to change a distance between the pattern 3' corresponding to the line pattern 3 and the auxiliary line patterns 4 in accordance with a line width of the line pattern 3.
    ラインパターン３の線幅に応じて、ラインパターン３に対応するパターン３’と補助ラインパターン４との距離を変えることが好ましい。 - 特許庁
  • Since the blooming variation is ±10 nm, the ratio of this line-width variation to the blooming variation is about 1/5.
    ボケの変動が±10nmなのでその比率は約1/5である。 - 特許庁
  • Line width of the actual pattern is measured by the measurement apparatus (ST20).
    実際パターンの線幅を測定装置で測定する（ＳＴ２０）。 - 特許庁
  • VEHICLE WIDTH LINE DISPLAY POSITION ADJUSTING METHOD AND IMAGE DISPLAY SYSTEM
    車幅線表示位置調整方法及び画像表示システム - 特許庁
  • MASK OF ELECTRON BEAM ALIGNER, METHOD FOR DETERMINING LINE WIDTH OF MASK APERTURE, PROGRAM FOR DETERMINING LINE WIDTH OF MASK APERTURE, AND ELECTRON BEAM ALIGNER
    電子ビーム露光装置のマスク、マスク開口の線幅決定方法、マスク開口の線幅決定プログラムおよび電子ビーム露光装置 - 特許庁
  • A mask is disposed on which a pattern having a line width substantially smaller than a converted value on the object surface of a desired line width.
    所望線幅の物体面における換算値よりも実質的に小さい線幅のパターンが形成されたマスクを設置する。 - 特許庁
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 67 68 次へ＞

例文データの著作権について