「line width」を含む例文一覧(3396)

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  • Accordingly, a stable exposure line width can be obtained to the line width of the CAD data can be obtained in the exposure by the laser plotter 4.
    これにより、レーザプロッタ４で露光するとき、ＣＡＤデータの線幅に対して安定した露光線幅を得ることができる。 - 特許庁
  • Alternatively, the size of the font is changed so that the horizontal line width is n_V pixels or greater and the vertical line width is n_H pixels or greater.
    あるいは、横線の幅がｎ＿Ｖ画素以上、縦線の幅がｎ＿Ｈ画素以上となるようにフォントの大きさを変更する。 - 特許庁
  • Thin lines (zero line-width) are one-pixel-wide lines drawn using an unspecified, device-dependent algorithm.
    描画アルゴリズムは定義されておらず、デバイスに依存する。 - XFree86
  • Thereby, the line width of the mask pattern can be changed into the width of the prescribed dimension of the center figure.
    これにより、マスクパタン線幅を中心図形の所定寸法幅に変更することができる。 - 特許庁
  • To realize a trimming process capable of reducing line width and suppressing the extent of spatial width.
    ライン幅を小さくでき、かつスペース幅の広がりを抑制できるトリミングプロセスを実現すること。 - 特許庁
  • In the sealing material layer 7, the width L_12 of the corner parts 7b is wider than the width L_11 of the straight line parts 7a.
    封着材料層７はコーナー部７ｂの幅Ｌ_12が直線部７ａの幅Ｌ_11より広い。 - 特許庁
  • Long words will be put on a line by themselves, in order to minimize the amount by which width is exceeded.
    widthを超える分を最小にするために、長い語は単独で一行に置かれるでしょう。 - Python
  • When the line width of a linear vector composing an object is thick, vector generating processing is performed in a Thick line vector processing part and in the case of thin line width, the outline vector is generated after changing the line width in a Thin line vector generating part.
    オブジェクトを構成する直線ベクタの線幅が太い場合はＴｈｉｃｋラインベクタ生成部においてベクタ生成処理を行ない、細い場合はＴｈｉｎラインベクタ生成部において線幅を変更した後、アウトラインベクタを生成する。 - 特許庁
  • The width SW of the apertures installed in the width direction of the slits S1-S8 is a width opposed to the position of a signal line 18.
    スリットＳ１〜Ｓ８の幅方向に設けられる開口の幅ＳＷは、信号ライン１８の位置に対向する幅である。 - 特許庁
  • A line width alteration management part 82 gradually increases a degree of the expansion of the character image until the line width of the character becomes a desired one, while there are repeated the processing in the line width altered image acquiring part 84 and the processing in the line width acquiring part 83.
    そして、線幅変更管理部８２により、文字の線幅が所望のものとなるまで文字画像に対する膨張の程度を漸次増大させながら、線幅変更画像取得部８４における処理と線幅取得部８３における処理とが繰り返される。 - 特許庁
  • To quickly and smoothly connect a connection portion of respective line segments constituting a polygonal line to conduct drawing, when a line graphic pattern such as the polygonal line is drawn using the line segments having a line width.
    線幅を有する線分を用いて折れ線等の線図形を描画する際に、折れ線を構成する各線分の接続部分を高速にしかも滑らかに繋いで描画する。 - 特許庁
  • The line width of a lateral portion located between the air flow-in end side and the air flow-out end side is set to be medium between the line width on the air flow-in end side and the line width on the air flow-out end side.
    エアー流入端側とエアー流出端の間に位置する側方部分の線幅は、エアー流入端側の線幅とエアー流出端側の線幅の中間程度に設定されている。 - 特許庁
  • A line forming the mark M can be formed by combination of two lines different in line width and a line type.
    マークＭを形成している線を、線幅や線種の異なる２本線などの組み合わせによって形成してもよい。 - 特許庁
  • To speed up an antialiasing processing for a straight line having arbitrary line width without degrading the plotting precision of a straight line.
    直線の描画精度を劣化させることなく、任意の線幅を持つ直線のアンチエイリアス処理を高速化する。 - 特許庁
  • To provide an apparatus and method for drawing a line, forming a line having a uniform line width while preventing generation of bulge or jaggy.
    バルジやジャギーの発生を防止し、均一線幅の線分を形成可能な線描画装置及び方法を提供する。 - 特許庁
  • To perform line thinning processing, while maintaining apparent thickness difference of a line width, without impairing the image quality.
    画質を損なうことなく、線幅の見た目の太さの差異を保持した細線化処理を行う - 特許庁
  • By tracking the pixel having the prescribed line width from this pixel, contour line tracking is performed.
    この画素から所定の線幅を有する画素を追跡することにより、輪郭線追跡を行う。 - 特許庁
  • A scanner illuminates a partial width 212 of a scan line.
    スキャンラインの部分的な幅２１２を照明するスキャナが開示される。 - 特許庁
  • SAMPLE POSITIONING METHOD AND LINE WIDTH MEASURING DEVICE THEREWITH
    試料位置決め方法及びその方法を用いた線幅測定装置 - 特許庁
  • IMAGE FORMING APPARATUS, LINE WIDTH CONTROL METHOD, AND LINEWIDTH CONTROL PROGRAM
    画像形成装置、線幅制御方法、および線幅制御プログラム - 特許庁
  • METHOD AND APPARATUS FOR MEASURING CIRCUIT PATTERN LINE WIDTH
    回路パターン線幅計測方法および回路パターン線幅計測装置 - 特許庁
  • LINE WIDTH MEASUREMENT DEVICE, IMAGE PROCESSOR, IMAGE PROCESSING SYSTEM, AND PROGRAM
    線幅測定装置、画像処理装置、画像処理システム及びプログラム - 特許庁
  • LAMINATION HETERO-WIDTH POWER SOURCE TRUNK LINE IN SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT DEVICE
    半導体集積回路装置における積層異幅電源幹線 - 特許庁
  • It also moves down by carriage-return width 53 of one line of a character string.
    文字列の一行分の改行幅５３で下方にも移動する。 - 特許庁
  • To provide a measuring method of a fine pattern line width and its system.
    微細パターン線幅測定方法およびそのシステムを提供する。 - 特許庁
  • 3. Oscillators with a laser beam spectral line width of 0.005 nanometers or less
    （三）　レーザー光のスペクトル線幅が〇・〇〇五ナノメートル以下のもの - 日本法令外国語訳データベースシステム
  • Width of the road is determined based on the created line segment, and a road element candidate rectangle is generated from the center line segment and the width of the road (S17).
    作成した線分に基づいて道路幅を決定し、中心線分と道路幅から、道路要素候補矩形を生成する（Ｓ１７）。 - 特許庁
  • A preferable spacing between the first space and the second space is the minimum line width not exceeding one-half the predetermined minimum line width.
    前記第２空間は、前記第１空間から前記１／２以下の最小線幅の距離を置いて形成されていると好適である。 - 特許庁
  • A passage width of the straight line part 41 of the ultrasonic wave transmitting passage 40 is formed wider than a passage width of the straight line part 42.
    更に、超音波伝導通路４０の直線部４１の通路幅が直線部４２の通路幅よりも広く形成されている。 - 特許庁
  • Furthermore, the elements can be individually increased and decreased in line width at the starting and ending points, by adjusting the line width by data points.
    また、前記エレメントは、データ点毎の線幅を調整して、始点あるいは終点における線幅を別々に増減することができる。 - 特許庁
  • To measure more precisely the line width formed on a wafer in the optical line width measurement performed by using scatterometry technology.
    スキャテロメトリ技術を用いて行われる光学式の線幅測定において，ウェハ上に形成された線幅をより正確に測定する。 - 特許庁
  • To provide a method of calculating a resist pattern line width on the basis of which a pattern line width is calculated for optical proximity effect correction.
    光近接効果補正のためのマスクパターン・ライン幅を算出する前提となるレジストパターン・ライン幅を算出する方法を提供する。 - 特許庁
  • In addition, the width L2 of the first postcard piece 5 and the width L3 of the second postcard piece 6 are set shorter than the width L1 of the concealing paper piece 4, and also the width W1 extending from the cutting line 14 to the border line 11 is set shorter than the width W3 extending from the folding line 15 to the border line 11.
    さらに、第１葉書紙片５の幅Ｌ２と第２葉書紙片６の幅Ｌ３をそれぞれ隠蔽紙片４の幅Ｌ１よりも短く設定し、かつ、切り取り線１４から境界線１１までの幅Ｗ１を折り線１５から境界線１１までの幅Ｗ３よりも短く設定する。 - 特許庁
  • To provide a white line recognition device used in a lane keeping assist system, or the like, to accurately recognize a white line, even when the width of a white line is different from the normal width.
    車線維持支援システム等に用いられる白線認識装置において、白線の幅が通常とは異なる場所においても、正確に白線を認識する。 - 特許庁
  • To reproduce the line width and density of an original image even when thinning a line of a line width and a character of any size, in an electrophotographic type image forming apparatus.
    電子写真方式の画像形成装置において、どのようなサイズの文字および線幅の線を細線化した場合であっても、原画像の線幅および濃度を再現する。 - 特許庁
  • A projected line part 41 having width three times of the width of another projected line part 31 is formed without engraving one of recessed line parts 30 engraved at the same pitch on the lens barrel part 13.
    ズームレンズ鏡筒部１３に同一ピッチで刻設される凹条部３０の一つを刻設せずに他の凸条部３１の３倍の幅を持つ凸条部４１を形成する。 - 特許庁
  • The width of the resist pattern 33 is thereby adjusted correspondingly to the width of a line pattern of an optical grating.
    これにより、レジストパターン３３の幅を光学格子のラインパターンの幅と対応するように調整する。 - 特許庁
  • To precisely form a plurality of patterns which are shrunk in line width and space width through simple manufacturing steps.
    簡易な製造工程で、ライン幅とスペース幅をシュリンクした複数のパターンを精度よく形成する。 - 特許庁
  • The projected line 2 has a dovetail shape in which the width L1 of the tip part is larger than the width L2 of the base end part.
    該突条２は、先端部の幅Ｌ_１が基端部の幅Ｌ_２よりも大きいアリ状となっている。 - 特許庁
  • Line image data S21 is inputted to a gradation value/pulse width conversion section 22, then pulse width data S22 is outputted.
    ライン画像データS21は階調値／パルス幅変換部22に入力され、パルス幅データS22が出力される。 - 特許庁
  • The character pattern is given to a character line width calculating part 35, and the width of lines constituting the character.
    文字パターンは文字線幅算出部３５に与えられ、文字を構成する線の幅が算出される。 - 特許庁
  • When both depth data and line width data of the determination pixel are smaller than those of the object pixel, the line width data of the object pixel is re-set to the line width data of the determination pixel, and the determination pixel is re-set to a pixel at a position shifted from the object pixel by re-set line width.
    判定ピクセルの深度データと線幅データとが何れも対象ピクセルよりも小さければ、対象ピクセルの線幅データが判定ピクセルの線幅データに再設定されるとともに、対象ピクセルから再設定された線幅分だけシフトした位置の画素に判定ピクセルが再設定される。 - 特許庁
  • To provide an image forming device which easily control the line width of a line extending in the sub-scan direction without changing the image data by image processing even if the line has a line width of one dot.
    副走査方向にのびる線の線幅を、線幅が１ドットの線であっても画像処理により画像データを変更することなく調節することが容易な画像形成装置を提供する。 - 特許庁
  • In the inventive semiconductor device, the line width W1 of a main interconnect line part 24 through which a main current flows is formed wider at one end 241 than the line width W2 of the main interconnect line part 24 at the other end 242 thereof.
    本発明の半導体装置では、主電流が流れる主配線部２４の一端２４１の配線幅Ｗ１を、主配線部２４の他端２４２の配線幅Ｗ２より広く形成する。 - 特許庁
  • A signal line path near a region 11 on which a multi-pin connector is mounted is set as a part 6a of a narrow line path width and a signal line path of the other region 12 is set as a part 6b of a wide line path width.
    多ピンコネクタが実装される領域１１近傍の信号線路を、線路幅の狭い部分６ａにし、その他の領域１２の信号線路を、線路幅の広い部分６ｂにする。 - 特許庁
  • The mask size checking mark 3 includes a line pattern 4 having a line width equal to that of the product pattern and a reference pattern 5 disposed next to the line pattern 4 and having a larger width than the line pattern 4.
    マスク寸法検査マーク３は、製品パターンの線幅と等しい線幅のラインパターン４と、このラインパターン４に隣接して配置されラインパターン４よりも幅が広い基準パターン５とを含んでいる。 - 特許庁
  • To retain the width of a line in a roughly fixed range when forming a marking line such as a cutting line and a welding line at a material to be worked consisting of a steel plate.
    鋼板からなる被加工材に切断線や溶接線等のマーキング線を形成する際に線幅を略一定の範囲内に保持する。 - 特許庁
  • To provide a method for forming a bit line of a semiconductor device capable of easily manufacturing the bit line having a width of a fine line of 0.1 μm or less.
    0.1μm以下の微細線幅のビットラインを容易に製造できる半導体装置のビットライン形成方法を提供する。 - 特許庁
  • To output an excellent image, without enlarging the line width of a line pattern such as a character and a thin line, while making a halftone section glossy.
    ハーフトーン部でグロスを出しつつ、文字や細線などのラインパターンの線幅が太くなることなく、良好な画像を出力する。 - 特許庁
  • A side guide 3b is movably provided in the width direction of a carrying line 4.
    サイドガイド３ｂを、搬送ライン４の幅方向に移動可能に設ける。 - 特許庁
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