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＜前へ 1 2 .... 206 207 208 209 210 211 212 213 214 .... 287 288 次へ＞- Plural rectangular-solid thin film structures 2 formed of positive type photoresist and having a width of 200 μm, a length of 500 μm and a thickness of 1,000 nm are mounted on a base material 1 formed of a silicon wafer, and a lid body 3 is mounted on the base material 1 through a cushioning film 4.
シリコンウエハからなる基材１上にポジ型フォトレジストからなり幅が２００μｍ、長さが５００μｍ、厚さが１０００ｎｍの直方体の薄膜構造体２を複数設け、基材１上には緩衝膜４を介して蓋体３を搭載する。 - 特許庁 - The substrate is manufactured, which has an evaluation pattern including a recess that is formed on the substrate and occupies 0.1-90% of a chip area while the depth ranges from 5 to 300 nm, a wiring groove formed on the recess, and a barrier film 6 and a Cu film 7 provided in the wiring groove.
基板に形成された、深さが５〜３００ｎｍでチップ面積の０．１〜９０％を占める凹部と、凹部上に形成された配線溝と、配線溝に設けられたバリア膜６とＣｕ膜７とを具備する評価用パターンを有する基板を作成する。 - 特許庁 - A semiconductor laser device 10 is the semiconductor laser device of a light emitting wavelength from 600 to 1650 nm, and has a GaAs substrate provided with a recessed part 14 with a bottom surface (100) 14a and a side face (111) A 14b on a surface (100) as a wafer 12.
本半導体レーザ素子１０は、発光波長６００〜１６５０ｎｍ帯の半導体レーザ素子であって、半導体基板１２として、底面が（１００）面１４ａと、側面が（１１１）Ａ面１４ｂの凹部１４を（１００）面に備えるＧａＡｓ基板を有する。 - 特許庁 - This method of manufacturing a transparent body of a high refractive index not lower than 1.6 and of a haze value not higher than 1% is characterized by dispersing a metal oxide minute particle having an average particle diameter of 5-100 nm and then blending with a polymer binder.
上記課題は、平均粒径５〜１００ｎｍの金属酸化物微粒子を分散後、高分子バインダーと混合することを特徴とするヘイズ値１％以下で屈折率が１．６以上の高屈折率透明体の製造方法によって解決される。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition having satisfactory transparency when a source of light with 157 nm is used and excellent in sensitivity and resolution.
１６０ｎｍ以下、特にＦ_2エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、より具体的には１５７ｎｍの光源使用時に十分な透明性を示し、感度及び解像度に優れたポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a mask blank and a method for manufacturing a transfer mask, and a mask blank and a transfer mask which are capable of improving light resistance of a thin film against exposure light having a wavelength of 200 nm or less and significantly improving a mask lifetime.
波長２００ｎｍ以下の露光光に対する薄膜の耐光性の向上、マスク寿命の改善を顕著に図ることができるマスクブランクの製造方法及び転写用マスクの製造方法、並びにマスクブランク及び転写用マスクを提供する。 - 特許庁 - The upper electrode 120 has a structure in which a 1st metal film 116 formed by a PVD method and a 2nd metal film 118 formed by a CVD method are laminated in this order, and the film thickness of a cylinder side wall of the 1st metal film 116 is ≤2 nm.
上部電極１２０は、ＰＶＤ法により形成された第一金属膜１１６と、ＣＶＤ法により形成された第二金属膜１１８とがこの順で積層された構造を有し、第一金属膜１１６のシリンダ側壁の膜厚が２ｎｍ以下である。 - 特許庁 - To provide a method and an apparatus for the formation of a multilayer thin film wherein a multilayer thin film product can be formed at high speed, by forming the film in such a way that the film thickness of a thin film at least on a specific layer being formed on a substrate is formed with an accuracy of 0.5 nm or less.
基板上に製膜中の少なくとも特定の層の薄膜の膜厚を０．５ナノメーター以下の精度で製膜することによって多層薄膜製品の歩留りを高くすることができる多層薄膜形成方法及び装置を提供すること。 - 特許庁 - To provide a catadioptric system which is small in the distance be tween on object surface and an image surface, has simple constitution of a small number of lens elements, is capable of achieving high resolution of ≤0.1 μm by using light of a vacuum UV wavelength of, for example, ≤180 nm.
物体面と像面との距離が小さく且つレンズ枚数の少ない簡素な構成を有し、たとえば波長が１８０ｎｍ以下の真空紫外線波長域の光を用いて０．１μｍ以下の高解像を達成することのできる反射屈折光学系。 - 特許庁 - When an ultrafine conductive fiber is used as a conductive filler included in the conductive layer, the fiber is exposed from the surface, protruded from the surface, or contained in an inner part lower than 100 nm from the surface, and satisfactory conductive performance can be exhibited.
導電層に含有させる導電性フィラーとして極細導電繊維を用いると、これが表面に露出したり、表面から突出したり、表面から１００ｎｍ未満の内部に含有して、導電性能を良好に発揮させることができる。 - 特許庁 - To provide a method for treating a copper surface by which various reliabilities can be enhanced by securing adhesive strength between the copper surface and an insulating resin without forming ruggedness of >1,000 nm on the copper surface, and to provide a wiring board subjected to the method.
銅表面に１，０００ｎｍを超す凹凸を形成することなく、銅表面と絶縁樹脂との接着強度を確保し、各種信頼性を向上させることができる銅表面の処理方法、ならびに当該処理された配線基板を提供すること。 - 特許庁 - This rubber composition comprises 100 pts.wt. of a dienic rubber, 25 to 100 pts.wt. of silica, and 10 to 30 pts.wt. of carbon black having a nitrogen adsorption specific area (N_2SA) of ≤80 m^2/g, a DBP oil absorption of ≥150 ml/100g and a ΔDst of ≥150 nm.
ジエン系ゴム１００重量部、シリカ２５〜１００重量部及び窒素吸着比表面積（Ｎ_２ＳＡ）が８０m^2 /g以下、ＤＢＰ吸油量が１５０ml/100g以上で、ΔＤｓｔが１５０nm以上であるカーボンブラック１０〜３０重量部を含んでなるゴム組成物。 - 特許庁 - The polyester microfiber has a single fiber diameter of 10-1000 nm, a variation (CV%) of the single fiber diameter of 0-25%, a tensile strength of 4.0 cN/dtex or more and a fracture elongation of 10-80% as a bundle of the microfibers, and a dry heat shrinkage rate of 5% or less at 150°C.
単糸繊維径が１０〜１０００ｎｍで、単糸繊維径のばらつき（ＣＶ％）が０〜２５％、極細繊維束として引張強度が４．０ｃＮ／ｄｔｅｘ以上、破断伸度が１０〜８０％、１５０℃での乾熱収縮率が５％以下であるポリエステル極細繊維。 - 特許庁 - The anisotropic-shape silica sol is manufactured by adjusting the pH of a silica sol having an average particle size within the range of 3-20 nm through a cation-removing process to pH2-5, then subjecting to an anion-removing process, thereafter adjusting its pH by adding an alkaline aqueous solution to pH7-9, and heating it to 60-250°C.
平均粒子径が３〜２０ｎｍの範囲にあるシリカゾルを脱陽イオン処理してｐＨ２〜５の範囲に調整し、次いで脱陰イオン処理した後、アルカリ性水溶液を添加してｐＨ７〜９に調整した後、６０〜２５０℃で加熱することにより製造する。 - 特許庁 - The insulating film 18a has sidewall surfaces in contact with the wires 24, and the aspect ratio Y of the insulating film 18a and the area X [nm^2] of the sidewall surface of the insulating film 18a are set to satisfy the relation that Y≤-2.9×10^-7×X+9.49.
絶縁膜１８ａは、配線２４と接する側壁面を有しており、絶縁膜１８ａのアスペクト比Ｙと絶縁膜１８ａの側壁面の面積Ｘ［ｎｍ^２］とが、Ｙ≦−２．９×１０^−７・Ｘ+９．４９なる関係を満たすように設定されている。 - 特許庁 - For realizing inspection at 2.0-2.5 mm image visual field with 20-30 nm image resolution of an SIM image, a beam-irradiating energy of an FIB device is set to 25-50 keV, and the maximum distance between a beam deflection support point and a sample 5 is set to a range of 60-120 mm.
ＳＩＭ像の像分解能が２０〜３０ｎｍで、かつ像視野２〜２.５mm を実現するために、ＦＩＢ装置におけるビーム照射エネルギーを２５〜５０ｋｅＶで、かつビーム偏向支点１１から試料５までの最大距離を６０〜１２０mmの範囲とした。 - 特許庁 - An emitted light having a wavelength of 780 nm is reflected about 50% by the BS 55c and passes through the BS 55b, 55a and is converged on the disk according to CD standard, and the reflected light passes through the BS 55a, 55b, and about 50% of this light passes through the BS 55c and is received by the 105a.
波長７８０ｎｍの出射光は、ＢＳ５５ｃで約５０％が反射し、ＢＳ５５ｂ、５５ａを透過し、ＣＤ規格のディスク集光され、その反射光は、ＢＳ５５ａ、５５ｂを透過し、ＢＳ５５ｃを約５０％が透過し、１０５ａで受光される。 - 特許庁 - Wherein, ε: correcting factor with the kind of blowing gas, Do: outer diameter (mm) of the outer tube in the tuyere, D: inner diameter (mm) of the outer tube in the tuyere, do: outer diameter (mm) of the inner tube in the tuyere and U: linear flowing speed (Nm/s) of the blowing gas in the flowing path of the tuyere.
ここで、εは吹き込みガス種類による補正係数、Ｄｏは羽口の外管外径（ｍｍ）、Ｄは羽口の外管内径（ｍｍ）、ｄｏは羽口の内管外径（ｍｍ）、Ｕは羽口流路内の吹き込みガスの線流速（Ｎｍ／ｓ）を表す。 - 特許庁 - The layered tin oxide is expressed by M_x/nM'_x/3Sn_1-x/3O_2 (wherein, M is a cation, an amine based organic compound having a positive charge or a high-molecular cation; n is the valence of M; M' is Li^+ or H^+; and x is the numerical value of 0.60 to 0.80).
Ｍ_x/nＭ′_x/3Ｓｎ_1-x/3Ｏ_2（但し、Ｍは陽イオン、陽電荷を有するアミン系有機化合物あるいは高分子系カチオン、ｎはＭの価数、Ｍ′はＬｉ^+またはＨ^+であり、ｘは０．６０〜０．８０の数値）で示されることを特徴とする層状スズ酸化物とする。 - 特許庁 - The polyolefinic film is characterized in that the surface roughness Ra of at least the single surface thereof is 0.15 or more and the in-plane phase difference R0 before stretching thereof is 300 nm or less and a ratio R50/R0 of the in-plane phase differnce R50 after 50% stretching thereof and R0 is 2.00 or less.
ポリオレフィン系フィルムを、少なくとも片面の表面粗度Ｒａが０．１５以上であり、伸張前の面内位相差Ｒ_０が３００ｎｍ以下、５０％伸張後の面内位相差Ｒ_５０とＲ_０との比Ｒ_５０／Ｒ_０が２．００以下のフィルムとする。 - 特許庁 - This manufacturing method includes: bringing the plated steel sheet into contact with an acidic solution containing Zr ions; holding the plated steel sheet for 1-90 seconds after the contact treatment; and then washing the plated steel sheet with water and drying the plated steel sheet to form an oxide layer having an average thickness of 10 nm or more on the surface of the plated steel sheet.
めっき鋼板を、Ｚｒイオンを含有する酸性溶液に接触させ、接触処理終了後1〜90秒間保持した後、水洗及び乾燥を行うことによりめっき鋼板表面に平均厚さ10nm以上の酸化物層を形成する。 - 特許庁 - This manufacturing method includes: bringing the plated steel sheet into contact with an acidic solution containing Ti ions; holding the plated steel sheet for 1-90 seconds after the contact treatment; and then washing the plated steel sheet with water and drying the plated steel sheet to form an oxide layer having an average thickness of 10 nm or more on the surface of the plated steel sheet.
めっき鋼板を、Ｔｉイオンを含有する酸性溶液に接触させ、接触処理終了後1〜90秒間保持した後、水洗及び乾燥を行うことによりめっき鋼板表面に平均厚さ10nm以上の酸化物層を形成する。 - 特許庁 - The gradient index lens having a concentric ring structure is made of a high-refractive index material 10 [for example, TiO_2 (n=2.43)] and a low-refractive-index material 11 [for example, air (n=1.0)], and the radius difference 12 between outer peripheries of adjacent circular light transmission films is 200 nm.
同心円構造を有する分布屈折率レンズは、高屈折率材料１０［例えば、ＴiＯ_2（ｎ＝２．４３）］と低屈折率材料１１［例えば、空気（ｎ＝１．０）］で構成されており、隣り合う円型光透過膜の外周の半径差１２は２００ｎｍである。 - 特許庁 - In the method for producing a glass preform, the temperature of SiCl_4, which is a raw-material gas, is regulated to 100°C or higher to grow fine glass particles to an average outer diameter of 90 nm or more in a flame from a burner for producing fine glass particles, before the fine glass particles are deposited on a starting glass rod 13.
ガラス母材の製造方法は、原料ガスであるＳｉＣｌ_４の温度を１００℃以上に制御して、ガラス微粒子生成用バーナの火炎内で、ガラス微粒子の平均外径を９０ｎｍ以上にしてから出発ガラスロッド１３に堆積させる。 - 特許庁 - An image forming method is disclosed, the method using a nonmagnetic single component toner that is prepared by externally adding inorganic fine particles having an average primary particle size of 4 to 80 nm and inorganic particles having an average primary particle size of 0.1 to 1.0 μm and that has a softening point of 105 to 125°C and a volume-basis median diameter of 3 to 10 μm.
平均一次粒径が４〜８０ｎｍの無機微粒子と平均一次粒径が０．１〜１．０μｍの無機粒子とを外添し、軟化点が１０５〜１２５℃で体積基準メディアン径が３〜１０μｍとなる非磁性一成分トナーを用いた画像形成方法。 - 特許庁 - The silicone microemulsion composition contains (A) 100 pts.mass of a specific carboxy-modified organopolysiloxane, (B) 25-75 pts.mass of a specific polyether-modified organopolysiloxane, (C) 0.1-10 pts.mass of anionic surfactant, and (D) 23-6,000 pts.mass of water, wherein an average diameter of an emulsion particle is not over 100 nm.
（Ａ）特定のカルボキシ変性オルガノポリシロキサン 100質量部、（Ｂ）特定のポリエーテル変性オルガノポリシロキサン 25〜75質量部、（Ｃ）アニオン性界面活性剤 0.1〜10質量部、及び（Ｄ）水 23〜6000質量部、を含み、エマルション粒子の平均粒径が100nm以下であるシリコーンマイクロエマルション組成物。 - 特許庁 - The density of the hard projecting parts 32 is set to at least 10 per μm^2, and the cutting edge part 33 of each hard projecting part 32 is within the nearly same plane with a height within a range of 20 nm or less from the surface of the elastic support plate 31 or the surface of the insulating film 34.
硬質突起部３２の密度は１０個／μｍ^２以上とし、各硬質突起部３２の切刃部３３はほぼ同一面内にあり、弾性支持盤３１の表面もしくは絶縁膜３４の表面からは２０ｎｍ以下の範囲の高さとする。 - 特許庁 - The lithographic printing master plate has a particle layer consisting of particles having 8 to 800 nm average particle size and a thermosensitive layer in which an image can be formed by exposure to IR laser light on an aluminum support prepared by forming an anodically oxidized film on an aluminum plate.
アルミニウム板に陽極酸化皮膜を設けてなるアルミニウム支持体上に、平均粒径８〜８００ｎｍの粒子からなる粒子層、および、赤外線レーザー露光により画像形成することができる感熱層をこの順に有する平版印刷版原版。 - 特許庁 - The dust core consists of only iron powder particles and phosphate and the iron powder particles are separated apart from each another, at a distance of 200 to 600 nm via a phosphate phase containing 0.048 to 0.12 mass % phosphorus.
本発明の圧粉磁心は、鉄粉末粒子およびリン酸塩だけで構成されるとともに、前記鉄粉末粒子どうしが、リンを０．０４８〜０．１２質量％含むリン酸塩相を介して２００〜６００ｎｍの距離を置いて隔てられていることを特徴とする。 - 特許庁 - A photocatalyst with which the honeycomb 10 is coated is irradiated with a light with wave lengths of 300-400 nm included in the light from a lightening source to oxidize and decompose pollutants in the air passing through the cell of the honeycomb 10.
照明装置の点灯によって、ハニカム１０に塗布された光触媒に、照明装置からの光に含まれる波長３００〜４００ｎｍの波長の光が照射され、ハニカム１０のセルを通過中の空気中の汚染物質が酸化され分解される。 - 特許庁 - This ink jet recording dispersion comprising at least water, a water-insoluble colorant, and a polymer is characterized in that the absorbance at a wavelength of 250 nm of a centrifuged liquid after the centrifuge is in a range of 0.001 to 1.0.
少なくとも水、水に不溶な色材、及び高分子化合物を含むインクジェット記録用分散液であって、遠心分離後の分離液の波長２５０ｎｍにおける吸光度が０．００１〜１．０の範囲であることを特徴とするインクジェット記録用分散液である。 - 特許庁 - The electrode catalyst for fuel cell is made of a carbonized material obtained by carbonization preparation under coexistence of transition metal and this carbonized material is formed by collecting in non-coagulation state a great number of carbon particles of shell-like structure with average particle size of 10-20 nm.
燃料電池用電極触媒は遷移金属共存下で炭素化調製して得られた炭素化材からなり、この炭素化材は、多数の平均粒径１０〜２０ｎｍのシェル状構造の炭素粒子が非凝集状態で集合して形成される。 - 特許庁 - A low absorption region which is characteristic with respect to melanin exists at a position where a wavelength is about 700 nm, and since this wavelength is pertinent to a wavelength of an R component among the RGB components in this region, an image where the melanin is emphasized is generated by using this characteristic.
波長が約７００ｎｍの位置にメラニンに対して特徴的な低吸収領域が存在すし、この領域では、ＲＧＢ成分のうち、Ｒ成分の波長に該当するため、この特性を用いてメラニンを強調した画像を生成する。 - 特許庁 - The toner for developing electrostatic charge image includes at least a binder resin and a colorant containing a quinacridone pigment which has a number average primary particle size of 30 to 150 nm and has a ratio of a long axis length to a short axis length of 1.0 to 2.0.
少なくとも、結着樹脂と、数平均１次粒径が３０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下で、かつ、長軸方向径と短軸方向径の比が１．０以上２．０以下であるキナクリドン系顔料を含有する着色剤と、を含有する静電荷像現像用トナー。 - 特許庁 - The resin composition for optical semiconductors is mainly composed of an epoxy resin component, where the epoxy resin component has a light transmittance of at least 80% at an optical path length of 1 mm for light of a wavelength of 400 nm and has a viscosity of at most 1 Pa s at 25°C.
エポキシ樹脂成分を主体とする光半導体用樹脂組成物であって、前記エポキシ樹脂成分は光路長１ｍｍにおける波長４００ｎｍの光透過率が８０％以上であり、かつ、２５℃における粘度が１Ｐａ・ｓ以下であるもの。 - 特許庁 - The photosensitive composition comprises (A) a hexaarylbiimidazole type compound having a structure represented by general formula (I), (B) a sensitizing dye having an absorption maximum λ_max at 350-850 nm, and (C) an addition polymerizable compound having an ethylenically unsaturated double bond.
（Ａ）下記一般式（I）で表される構造を持つヘキサアリールビイミダゾール型化合物（Ｂ）３５０ｎｍ〜８５０ｎｍに吸収極大λ_maxを持つ増感色素、及び（Ｃ）エチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物を含有する感光性組成物。 - 特許庁 - Related to the photoelectric transducer structure formed on the surface, a p-type semiconductor layer 13 and an intrinsic semiconductor layer 14 contacting the surface are crystalline layers which mainly comprise crystal particles, grown as pillars, whose height is 100 nm or higher.
該表面上に形成される光電変換素子構造において、該表面に接するｐ型半導体層１３、および真性半導体層１４は、柱状に成長した高さ１００ｎｍ以上の結晶粒により主として構成される結晶質層である。 - 特許庁 - This method for producing the dicarboxylic acid comprises dissolving or dispersing an aliphatic compound having a cycloalkane structure as a skeletal component in a ketone-based solvent, and irradiating the compound with the light of a wavelength of about 200-400 nm in the presence of oxygen to conduct ring opening and oxidation of the compound.
シクロアルカンを骨格成分として含む脂環族化合物をケトン系溶剤に溶解乃至分散させ、これに、酸素の存在下で２００〜４００ｎｍ程度の波長域の光を照射することにより、開環と酸化を行ってジカルボン酸を製造する。 - 特許庁 - The composition includes the slightly soluble crystalline HIV protease inhibitor having the water solubility of less than 10 mg/ml and adsorbing, on its surface, a cellulosic surface stabilizer in an amount sufficient to maintain an effective average particle size of less than 1,000 nm.
１０ｍｇ／ｍｌ未満の水中溶解度を有する難溶性結晶ＨＩＶプロテアーゼ阻害剤が、その表面に、１０００ｎｍ未満の有効平均粒子サイズを保持するのに十分な量でセルロース系表面安定剤を吸着している組成物。 - 特許庁 - After wastewater is electrolytically treated so that the residual concentration of chlorine in electrolytically treated water becomes at least 100 mg/l or above, preferably, 200 mg/l or above, the electrolytically treated water is irradiated with ultraviolet rays with a wavelength of 300 nm or below.
本発明は、電解処理水中の残留塩素濃度が少なくとも１００ｍｇ／Ｌ以上、好ましくは２００ｍｇ／Ｌ以上となるよう廃水を電解処理した後に、電解処理水に対して波長３００ｎｍ以下の紫外線を照射する。 - 特許庁 - The coloring resin composition comprises a polymer having a nitrogen-containing functional group and a polyvalent carboxylic acid or its anhydride, and is capable of expressing at least one absorption peak in a wave length range of 600-800 nm due to the formation of a mixture thereof.
窒素を含有する官能基を有するポリマーと多価カルボン酸又はその無水物から成り、これらの混合により波長６００乃至８００ｎｍの範囲に少なくとも１つの吸収ピークを発現し得ることを特徴とする着色樹脂組成物。 - 特許庁 - The coating agent for glass is obtained by blending 10-30 pts.wt. melamine-based curing agent and 40-100 pts.wt. silica fine particle having 10-100 nm average particle diameter per 100 pts.wt. solid portion of aqueous polyurethane having silanol groups.
本発明は、シラノール基を有する水系ポリウレタンの固形分１００重量部に対し、メラミン系硬化剤１０〜３０重量部および平均粒径が１０〜１００ｎｍのシリカ微粒子４０〜１００重量部を配合したガラス用コーティング剤を提供する。 - 特許庁 - In the colloid of the composite metal particles containing a plurality of metal elements, the particle size of the particles is 2-15 nm, and a plurality of the metal elements are distributed substantially uniformly in the particles.
複数の金属元素を含む複合金属粒子のコロイドであって、前記複合金属粒子の粒子径は２〜１５ｎｍであり、複数の金属元素が前記複合金属粒子内で実質的に均一に分布することを特徴とする複合金属コロイドである。 - 特許庁 - The abrasive for a semiconductor produced by coating a basic material with a plurality of metal oxides by compounding, coating, drying, or the like, contains a fine particle metal oxide having a mean particle size of 1-400 nm and a metal oxide having a functional group on the surface.
基材に複数の金属酸化物を複合塗布乾燥等により被覆処理した半導体用研磨材料であり、平均粒径が１ｎｍから４００ｎｍの微粒金属酸化物、表面に官能基を有する金属酸化物を含むものである。 - 特許庁 - The film for a plasma display is obtained by uniformly coating the top of a transparent film with a resin coating solution containing a dye having the absorption maximum at 575-595 nm wavelength and removing the solvent by drying to form a film containing the dye and having 1-50 μn thickness.
５７５〜５９５ｎｍに吸収極大波長を有する色素を含む樹脂コーティング溶液を透明フィルムの上に均一に塗布し、次いで溶剤を乾燥させ、当該色素を含む厚さ１〜５０ミクロンの膜を形成したことを特徴とするプラズマディスプレイ用フィルム。 - 特許庁 - In the music data utilization system, the plurality of music data (automatic performance data etc.) Dm to which additional information Ad in a text form is respectively added are utilized, and data name information Nm and music guide information Gd are included in the additional information Ad.
この音楽データ利用システムでは、夫々にテキスト形式の付随情報Ａｄが付与された複数の音楽データ（自動演奏データ等）Ｄｍを利用することができ、付随情報Ａｄにはデータ名情報Ｎｍ及び音楽的案内情報Ｇｄが含まれる。 - 特許庁 - The optical information recording medium 100 includes at least two optical information recording layers L0 and L1 wherein information is recorded or reproduced by irradiation with a laser beam made incident from the same direction and having 400 to 450 nm wavelength.
本発明による光学的情報記録媒体１００は、同一方向から入射され、波長が４００ｎｍ以上４５０ｎｍ以下のレーザ光の照射によって、情報が記録又は再生される少なくとも２つの光学的情報記録層Ｌ０、Ｌ１を具備する。 - 特許庁 - Metal particulates precipitated by reducing metal ions in water and having a primary particle diameter of ≤200 nm are dispersed into a mixed solvent of water and a water-soluble organic solvent as a dispersion medium in the presence of a dispersing agent having a molecular weight of 200 to 30,000.
水中で、金属のイオンを還元して析出させた、一次粒径が２００ｎｍ以下の金属微粒子を、分子量が２００〜３００００の分散剤の存在下、分散媒としての、水と水溶性有機溶媒との混合溶媒中に分散させた。 - 特許庁 - To provide an information recording method which enables a high-density recording of information by using an optical information recording medium capable of recording by a laser light with a wavelength of 390-430 nm and having excellent recording characteristics such as sensitivity, reflectance and modulation degree.
波長３９０〜４３０ｎｍのレーザー光によって記録が可能であり、感度、反射率、変調度などの記録特性に優れた光情報記録媒体を用いることによって、情報の高密度記録が可能な情報記録方法を提供することである。 - 特許庁 - The recording layer is composed of a composite compound having at least two kinds of cation elements, and at least one kind of the cation element is a transition element having a "d" orbit in which electrons are inadequately filled, and a shortest distance between adjacent cation elements is ≤0.32 nm.
記録層は、少なくとも２種類の陽イオン元素を有する複合化合物から構成され、陽イオン元素の少なくとも１種類は、電子が不完全に満たされたｄ軌道を有する遷移元素であり、隣接する陽イオン元素間の最短距離は、0.32nm以下である。 - 特許庁
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