「nm」を含む例文一覧(14378)
＜前へ 1 2 .... 203 204 205 206 207 208 209 210 211 .... 287 288 次へ＞- To realize a ferroelectric capacitor including a strontium bismuth tantalate film having high remnant polarization density even with a thickness of 100 nm or thinner by the MOCVD (Metalorganic Chemical Vapor Deposition) method, especially the ferroelectric capacitor having a three-dimensional structure.
ＭＯＣＶＤ法により、１００ｎｍ以下の膜厚においても高い残留分極密度を有するタンタル酸ストロンチウムビスマス膜を備えた強誘電体キャパシタ、特に立体的な構造を有する強誘電体キャパシタを実現できるようにする。 - 特許庁 - To effectively avoid the deterioration of reliability caused by the use regarding an optical pickup and an optical disk device by emitting laser beams of wavelength ≤500 [nm] and applying them to the optical disk device accessing the optical disk.
本発明は、光ピックアップ及び光ディスク装置に関し、特に、波長が５００〔ｎｍ〕以下のレーザービームを照射して光ディスクをアクセスする光ディスク装置に適用して、使用による信頼性の低下を有効に回避することができるようにする。 - 特許庁 - It is preferable that the colloidal particle in the alkali dispersible alumina sol has an average particle diameter of 5-300 nm, and the content of the alkali dispersible alumina sol is 1-10 mass% as the solid content of the colloidal particle.
該アルカリ分散性アルミナゾル中のコロイド粒子の平均粒径が、５ｎｍ〜３００ｎｍである態様、前記アルカリ分散性アルミナゾルの含有量が、コロイド粒子の固形分として、１質量％〜１０質量％である態様などが好ましい。 - 特許庁 - By using a short wavelength laser of UV rays at ≤360 nm wavelength, for example, by using the fourth order harmonic waves of a YAG laser, only the upper electrode near the short circuit defect can be removed with good accuracy without adding influences on the lower films.
発振波長が３６０ｎｍ以下の紫外線である短波長レーザー、例えばＹＡＧレーザーの第４高調波を用いれば、下層膜に影響を与えずに短絡欠陥周辺部の上部電極のみを精度良く除去することができる。 - 特許庁 - The aqueous coating material composition is obtained by incorporating photocatalyst particles, an alkali metal silicate having ≤300 average molecular weight (MW), an alkali metal silicate having 1-15 nm mean particle diameter and an emulsion of a weather resistant resin.
光触媒粒子と、平均分子量（ＭＷ）が３００以下のアルカリ金属珪酸塩と、平均粒子径が１〜１５ｎｍのアルカリ金属珪酸塩と、耐候性樹脂のエマルジョンとを含むことを特徴とする水性塗料組成物を提供する。 - 特許庁 - The colored composition comprises a pigment, a transparent resin, a polyfunctional monomer having four or more ethylenically unsaturated double bonds, a photopolymerization initiator and polyfunctional thiol, and is curable upon irradiation with an excimer laser having a wavelength of 308 nm (XeCL).
顔料、透明樹脂、４つ以上のエチレン性不飽和二重結合を有する多官能モノマー、光重合開始剤および多官能チオールを含有し、かつ、波長３０８ｎｍ(ＸｅＣＬ)のエキシマレーザ照射で硬化可能な着色組成物。 - 特許庁 - In this dental curable composition containing a polymerizable monomer (A), a polymerization initiator (B) and calcium phosphate-based particulates (C), the average primary particle diameter of the calcium phosphate-based particulates is 5-200 nm.
重合性単量体（Ａ）と、重合開始剤（Ｂ）と、リン酸カルシウム系微粒子（Ｃ）とを含有する歯科用硬化性組成物であって、前記リン酸カルシウム系微粒子（Ｃ）の平均一次粒子径が５〜２００ｎｍである歯科用硬化性組成物とする。 - 特許庁 - The negative type lithography plate having a photopolymerization photosensitive layer on a support has a pigment having absorbancy in a wavelength region of ≥750 nm and contains a hydrazine compound.
支持体上に光重合性の感光層を有するネガ型平版印刷版において該感光層中に、７５０ｎｍ以上の波長領域に吸収を有する色素を含有し、かつヒドラジン化合物を含有することを特徴とするネガ型平版印刷版。 - 特許庁 - The toner containing at least a coloring agent and a binder resin is an electrostatic charge image developing toner having one or more pores having at least ≥10 nm diameter inside the toner particle with 0.01 to 0.60 porosity.
少なくとも着色剤とバインダー樹脂を含むトナーにおいて、トナー粒子内部に少なくとも直径１０ｎｍ以上の細孔が１つ以上存在し、かつその多孔度が、０．０１〜０．６０であることを特徴とする静電荷像現像用トナー。 - 特許庁 - The colloidal silica is preferably colloidal silica having an average particle diameter of 3 to 100 nm, and the carboxyl-modified epoxy resin is preferably a resin obtained by esterifying a bisphenol A-epichlorohydrin-based epoxy resin with a carboxyl group-having acrylic copolymer.
コロイド状シリカが、平均粒子径が3〜100nmのコロイダルシリカが好ましく、カルボキシ変性エポキシ樹脂が、ビスフェノールＡ−エピクロルヒドリン系エポキシ樹脂と、カルボキシル基を有するアクリル系共重合体とをエステル化反応させて得られた樹脂であることが好ましい。 - 特許庁 - The method for forming the resist patterns includes selectively exposing resist films formed on a substrate and having a film thickness of ≤50 nm and developing the resist film by using a developing agent for forming the resist patterns being aqueous solution containing an organic solvent.
基板上に形成された、その膜厚が５０ｎｍ以下であるレジスト膜を選択的に露光するとともに、有機溶剤を含有する水溶液であるレジストパターン形成用現像液を用いて現像することを含むレジストパターン形成方法である。 - 特許庁 - The system is equipped with a green laser oscillator 10 which oscillates coherent light of 532 nm in wavelength and single-crystal lithium tetraborate LB4 (hereinafter LB4) crystal box 23 where the light from the green laser oscillator 10 is made incident as the incident light.
波長５３２ｎｍのコヒーレント光を発振するグリーンレーザー発振器１０と、このグリーンレーザー発振器１０からの光を入射光として入射する単結晶四ホウ酸リチウム，ＬＢ４（以下ＬＢ４と言う）結晶ボックス２３とを備える。 - 特許庁 - Thus, a porous layer comprising particulates composed of at least one kind selected from a group comprising ruthenium oxide, ruthenium oxide hydrate, and ruthenium hydrate, and an average primary particle diameter of which is 1 to 30 nm is formed to the surface of the alloy foil.
これにより、該箔状の合金の表面に、酸化ルテニウム、酸化ルテニウム水和物および水酸化ルテニウムからなる群から選ばれた少なくとも一種からなる、平均一次粒子径が１〜３０ｎｍである微粒子により多孔質層を形成する。 - 特許庁 - Furthermore, the acid generator (A) contains a sulfonium cation and a borate anion and has a molar extinction coefficient within the range of 3,000-25,000 at 350 nm wavelength in acetonitrile.
スルホニウムカチオンと下記一般式（１）で表されるボレートアニオンとを含んでなり、かつ、アセトニトリル中の波長３５０ｎｍのモル吸光係数が、３０００から２５０００の範囲である酸発生剤（Ａ）、および、カチオン重合性化合物（Ｂ）を含んでなる接着剤組成物。 - 特許庁 - The broadband illuminator emits broadband light of at least 150 mW with respect to a supplied input voltage of 1 mW, to a target region over a broadband continuous wavelength of a continuous wavelength range of at least 100 nm.
広帯域照明器であって、少なくとも１００nmの連続波長域の広帯域の連続波長にわたって、１ミリワットの入力電圧に対し少なくとも１５０マイクロワットの広帯域光出力を標的領域に放射する広帯域照明器。 - 特許庁 - To a precursor solution 11 containing metal complex or metal salt housed in a reaction container 12, an ultraviolet laser light of the wavelength less than 400 nm is irradiated by an ultraviolet light generating apparatus 13 to deposit magnetic oxide nanoparticle.
反応容器１２に収納された、金属錯体または金属塩を含有する前駆体溶液１１に、紫外レーザー光発生装置１３により、波長４００ｎｍ以下の紫外レーザー光を照射して、磁性酸化物ナノ粒子を析出させる。 - 特許庁 - In the hydrocarbon decomposition catalyst, fine metallic nickel particles 5-20 nm in an average particle size are supported on the circumferential parts of a porous complex oxide molding 0.05-50 mm in an average length containing magnesium and aluminum.
マグネシウムとアルミニウムとを含み、平均長さが０.０５〜５０ｍｍである多孔性複合酸化物成形体であって該成形体の周縁部分に平均粒子径が５〜２０ｎｍのニッケル金属微粒子が担持されている炭化水素分解用触媒。 - 特許庁 - The resin composition for hard coat layer comprises (meth)acrylate oligomer or (meth)acrylate polymer, an ethylenic unsaturated monomer, a polymerization initiator and inorganic particulates, wherein the inorganic particulates have 5-500 nm average particle diameter and are dispersed.
（メタ）アクリレートオリゴマー又は（メタ）アクリレートポリマー、エチレン性不飽和モノマー、重合開始剤、及び、無機微粒子を含有するハードコート用樹脂組成物であって、前記無機微粒子は、５〜５００ｎｍの平均粒径で分散しているハードコート用樹脂組成物。 - 特許庁 - The ruthenate nano-sheet is manufactured by obtaining a colloid containing a ruthenic acid nano-sheet having a thickness of not more than 1 nm from a layered ruthenic acid compound, via a proton type layered ruthenic acid hydrate and an alkyl ammonium-layered ruthenic acid intercalation compound.
層状ルテニウム酸化合物から、プロトン型層状ルテニウム酸水和物およびアルキルアンモニウム−層状ルテニウム酸層間化合物を経て、１ｎｍ以下の厚みを有するルテニウム酸ナノシートを含むコロイドを得ることによって、ルテニウム酸ナノシートを製造する。 - 特許庁 - To provide a satisfactorily large aperture, while using fewest optical means possible in a projection object lens device which is proper for lithography having advantageously a short wavelength, a wavelength of 100 nm or less.
短い波長、有利には１００ｎｍ以下の波長をもつリソグラフィに適した投影対物レンズ装置であって、できるだけ少ない光学的手段ですますことができ、その一方で充分に大きな開口をそなえているものを提供することである。 - 特許庁 - In the photosensitive resin relief printing plate material with at least a substrate and a photosensitive layer, the photosensitive layer has a multilayer structure having different UV transmittances (measured at 365 nm wavelength every 100 μm thickness).
支持体、感光層を少なくとも有する感光性樹脂凸版材において、感光層が紫外線透過率（３６５nｍの波長、厚み１００μｍあたりでの測定値）の異なる多層構造を有することを特徴とする感光性樹脂凸版材。 - 特許庁 - To provide an optical glass having particularly excellent laser resistance as an optical glass for transmitting ultraviolet rays by using an inexpensive and general purpose chlorine-based silane compound to suppress absorption/emission caused by the irradiation with ≤300 nm excimer laser.
安価でかつ汎用の塩素系シラン化合物を用いて、波長３００ｎｍ以下のエキシマレーザー照射による吸収・発光の生成を抑え、紫外光透過用光学ガラスとして、特に耐レーザー特性に優れた光学ガラスの提供する。 - 特許庁 - The metal particle dispersion includes metal particles (A) having an average particle diameter of ≤500 nm and a dispersion medium, in which the dispersion medium contains a polymer (B) containing a sulfonate group in a molecule, and a solvent (C).
平均粒径が５００ｎｍ以下の金属微粒子（Ａ）及び分散媒からなる金属微粒子分散体であって、分散媒が分子中にスルフォン酸塩基を含有するポリマー（Ｂ）と溶媒（Ｃ）を含むことを特徴とする金属微粒子分散体。 - 特許庁 - A method for producing core-shell type polymer particulates having a particle size of about 20-500 nm comprises subjecting a PEG-containing polymeric azo initiator and a hydrophobic vinyl monomer to soap-free emulsion polymerization in water and/or an alcohol.
ＰＥＧ含有高分子アゾ重合開始剤及び疎水性ビニル系モノマーを、水及び／又はアルコール中でソープフリー乳化重合させることを特徴とする粒子径２０ｎｍ〜５００ｎｍ程度のコア−シェル型高分子微粒子の製造方法。 - 特許庁 - The planographic printing plate successively consisting of at least (A) an aluminum base and (B) a laser photosensitive recording layer is exposed by a plate setter of an inner drum type using a semiconductor laser beam from UV to visible light regions (360 to 450 nm).
少なくとも順次（Ａ）アルミニウム支持体、（Ｂ）レーザー感光性記録層からなる平版印刷版を、紫外から可視光領域（３６０〜４５０ｎｍ）の半導体レーザー光を用いたインナードラム型のプレートセッターで露光することを特徴とする。 - 特許庁 - The image forming method includes multi-exposing and developing a photosensitive composition comprising at least a polymerizable polymer, a photopolymerization initiator and a sensitizing dye which performs sensitization in a wavelength region of 380-1,300 nm.
少なくとも重合性ポリマー、光重合開始剤、及び３８０ｎｍから１３００ｎｍの波長域において増感する増感色素を含有する感光性組成物を多重露光した後、現像処理することを特徴とする画像形成方法。 - 特許庁 - The particles are composed of pyrogenic oxide particles which contain superparamagnetic metal-oxide magnetic domains of 3-20 nm in diameters in a nonmagnetic matrix containing a metal oxide or a metalloid oxide and also contain a chloride in amounts of 50-1,000 ppm.
前記粒子は、金属酸化物又はメタロイド酸化物を含有する非磁性マトリックス内に直径３〜２０ｎｍを有する超常磁性金属酸化物磁区を含有する、塩化物含量５０〜１０００ｐｐｍを有するパイロジェニック酸化物粒子からなる。 - 特許庁 - The single-crystal magnesium borate nanotube is prepared by heating magnesium chips and amorphous boron scattered on a silicone wafer in a gas flow comprising argon and oxygen and has a width or diameter of 200-500 nm and a length of 1-5 μm.
シリコンウエハー上に散布された非晶質ホウ素とマグネシウム片とをアルゴンと酸素の気流中で加熱し、単結晶のナノチューブであり、幅あるいは直径が２００〜５００ナノメートル、長さが１〜５マイクロメートルである単結晶ホウ酸マグネシウムのナノチューブを得る。 - 特許庁 - The electrostatic latent image developing toner contains colored particles and an external additive and this additive is fine silica particles (A) made hydrophobic by treatment with a cyclic silazane or the cyclic silazane and a silane coupling agent and having 5-30 nm number average particle diameter of primary particles.
着色粒子と外添剤とを含有し、該外添剤が一次粒子の個数平均粒径５〜３０ｎｍであり、環状シラザン、又は環状シラザンとシラン系カップリング剤で疎水化処理されたシリカ微粒子（Ａ）静電潜像現像用トナーを得る。 - 特許庁 - Since transmissivity in the wavelength of 157.6 nm in fluorine-doped synthetic quartz is as high as high as about 90% per cm, insertion loss by insertion of the etalon 5 is as small as about 10% and fluorine laser of high gain enables laser oscillation well.
フッ素ドープの合成石英では、波長１５７．６ｎｍにおける透過率が１ｃｍ当たり約９０％と高いため、エタロン５の挿入による挿入損失は約１０％と小さく、ゲインの高いフッ素レーザは十分レーザ発振する。 - 特許庁 - Nitrogen ion or silicon ion is implanted into the surface of the glass plate in a depth of 10 nm to 10μm from the surface in the implantation amount of 1×10^12-1×10^18 ions/cm^2.
ガラス板の表面に窒素イオンまたはケイ素イオンをイオン注入法で、表面から１０ｎｍ〜１０μｍの範囲の深さに、１×１０^１２ｉｏｎｓ／ｃｍ^２〜１×１０^１８ｉｏｎｓ／ｃｍ^２の範囲のイオン注入量を注入する。 - 特許庁 - To provide a positive-type photoresist composition, capable of forming a resist pattern having rectangular profile with high sensitivity and high resolving power in lithography, using far-UV, particularly ArF excimer laser light of 193 nm wavelength and superior in the focus depth.
遠紫外線とくにＡｒＦエキシマレーザー光（波長１９３ｎｍ）を使用するリソグラフィーにおいて、矩形プロファイルをもつレジストパターンを高感度、高解像力で実現し得る、更に焦点深度が優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁 - The composition for forming films comprises a compound having an alicyclic hydrocarbon structure and Si atom, wherein the compound having the alicyclic hydrocarbon structure and the Si atom has a particle shape of 2-15 nm particle diameter.
脂環式炭化水素構造とＳｉ原子を有する化合物を含む膜形成用組成物であって，該脂環式炭化水素構造とＳｉ原子を有する化合物が，粒径２ｎｍ〜１５ｎｍの粒子形状であることを特徴とする膜形成用組成物。 - 特許庁 - The aerosol composition includes the porous silica and the liquefied gas, provided that the porous silica has at least one peak at a position corresponding to d-spacing of greater than 2 nm in an X ray diffraction pattern.
多孔質シリカと、液化ガスとを含有するエアゾール組成物であって、前記多孔質シリカが、そのＸ線回折パターンにおいて、ｄ間隔が２ｎｍより大きい位置に少なくとも１つのピークを有することを特徴とするエアゾール組成物である。 - 特許庁 - This epoxy resin is such as to be 0.4-0.8 in ultraviolet absorbance at 260 nm when determined in the form of a tetrahydrofuran solution with 10 ppm concentration using an ultraviolet spectrophotometer and 250-280 g/eq in epoxy equivalent.
紫外線吸光度計を用いて濃度が１０ｐｐｍのテトラヒドロフラン溶液で吸光度を測定した場合２６０ｎｍにおける紫外線の吸光度が０．４〜０．８の範囲にあり、かつエポキシ当量が２５０〜２８０ｇ／ｅｑの範囲にあるエポキシ樹脂を用いる。 - 特許庁 - The mutant luciferase is different from a corresponding wild type luciferase by a fact that it generates a biological luminescence having peak intensity at a wavelength different by at least 1 nm from the peak intensity of the biological luminescence generated from the wild type enzyme.
突然変異ルシフェラーゼは、野生型酵素によって生成される生物発光のピーク強度の波長から少なくとも１ｎｍは異なるピーク強度の波長を有する生物発光を生じることで対応野生型ルシフェラーゼとは異なる。 - 特許庁 - (2) The ground metal layer comprises a nickel alloy containing at least one kind of metal selected from a group consisting of chromium, vanadium, titanium and molybdenum formed by a dry plating method as a main component, and its thickness is 3-50 nm.
（２）前記下地金属層は、乾式めっき法により形成されたクロム、バナジウム、チタン及びモリブデンからなる群から選ばれる少なくとも１種の金属を含有するニッケル合金を主成分として含み、かつその膜厚が３〜５０ｎｍである。 - 特許庁 - A transparent conductive film with a high transmissivity of about 800% or more in a wavelength range of 450-3200 nm is obtained by giving heat treatment to a film mainly containing a zinc-indium oxide (IZO) under a low oxygen atmosphere.
亜鉛−インジウム酸化物（ＩＺＯ）を主成分とする膜を、低酸素雰囲気下で加熱処理することで、４５０〜３２００ｎｍの波長領域において、約８０％以上の高い透過率を示す透明導電膜を得ることができる。 - 特許庁 - In the ink-jet recording sheet in which at least one ink receiving layer is formed on a support, the ink receiving layer contains a polyurethane resin having a polycarbonate chain in a molecule and ultrafine particles of inorganic pigment 100 nm or below in primary particle size.
支持体上に１層以上のインク受容層を設けてなるインクジェット記録シートに於いて、該インク受容層が分子中にポリカーボネート鎖を有するポリウレタン樹脂と、１次粒子径が１００ｎｍ以下の超微粒無機顔料とを含有する。 - 特許庁 - The film is a porous film having fine pores and made of a thermoplastic resin, with the resin containing not less than 1 wt.% of a polyolefin having a chain length of not less than 2,850 nm.
微細孔を有する熱可塑性樹脂製の多孔性フィルムからなる飼料作物貯蔵用フィルムであって、前記熱可塑性樹脂は、分子鎖長が２８５０ｎｍ以上のポリオレフィンを１重量％以上含む飼料作物貯蔵用フィルム。 - 特許庁 - To provide an optical fiber which exhibits a small increment of loss due to an OH group and is suitable for transmitting signals in a band including a wavelength of 1,380 nm, an optical fiber preform used for the optical fiber and a method of manufacturing a fluorine-added silica glass body.
ＯＨ基による損失増加量が小さく、波長１３８０ｎｍを含む帯域で信号を伝送するのに好適な光ファイバ、ならびに、この光ファイバに用いる光ファイバプリフォームおよびフッ素添加シリカガラス体の製造方法を提供する。 - 特許庁 - The solid electrolyte film of the thickness of 0.1-10 μm is formed on the surface of a porous plate-like sintered body for a thin-film gas sensor matrix made of trisilicon tetranitride needle crystal with the surface roughness of 30-300 nm in Ra value.
針状結晶の四窒化三ケイ素からなり、表面粗さが、Ｒａ値で３０ｎｍ以上、３００ｎｍ以下である薄膜ガスセンサ基材用の多孔質板状焼結体の表面に、０．１〜１０μｍの厚さの固体電解質薄膜を形成させる。 - 特許庁 - The void-type inkjet image receiving layer is characterized by being formed by using the coating liquid comprising particles consisting of a gas phase silica and particles consisting of a colloidal silica and comprising particles with a particle diameter measured by means of a light scattering method of 50-500 nm.
気相法シリカからなる粒子とコロイダルシリカからなる粒子を含有し、光散乱法により測定された粒子径が５０〜５００ｎｍである粒子を含有する塗布液を用いて形成されたことを特徴とする空隙型インクジェット受像層。 - 特許庁 - A single crystal MgO(001) substrate 11 is prepared, an epitaxial Fe(001) lower electrode (first electrode) 17 by a thickness of 50 nm is grown on a MgO(001) seed layer 15 at a room temperature, and then, annealing is performed in ultra-high vacuum at 350°C.
単結晶ＭｇＯ（００１）基板１１を準備し、５０ｎｍ厚のエピタキシャルＦｅ（００１）下部電極（第１電極）１７をＭｇＯ（００１）シード層１５上に室温で成長し、次いで、超高真空において、３５０℃でアニールを行う。 - 特許庁 - A method for producing the fibrous carbon particles is provided, comprising contacting fibrous carbon particles with a liquid containing at least a liquefiable material precursor, wherein the fibrous carbon particles as raw material each has a single hollow part surrounded by carbon crystal wall and each has a major axis of 40 nm to 10 μm.
炭素結晶壁で包囲された単一の中空部を有し、長径が４０ｎｍ以上、１０μｍ以下の範囲である繊維状炭素粒子を原料として、これを少なくとも液化可能物質前駆体を含む液体に接触させる。 - 特許庁 - The polyester film is obtained by forming a coating layer having 0.005-50 μm thickness and containing particles having ≤100 nm average short diameter (ASP) and 20-1,000 particle diameter ratio (ALP/ASP) of average long diameter (ALP) to the ASP on at least one surface.
平均短径（ＡＳＰ）が１００ｎｍ以下であり、平均長径（ＡＬＰ）との粒径比（ＡＬＰ／ＡＳＰ）が２０〜１，０００である粒子を含む厚み０．００５〜５０μｍの塗布層を少なくとも片面に形成されているポリエステルフィルムとする。 - 特許庁 - Oxide glass powder where the total content of Fe_2O_3 and TiO_2 is not less than 0.1 mass% and phosphor powder having excitation light in 350-410 nm are mixed, molded and thereafter sintered in a temperature range of the softening point of the oxide glass ±150°C.
Ｆｅ_2Ｏ_3およびＴｉＯ_2の含有量の合計が０．１質量％以下である酸化物ガラス粉末と、３５０〜４１０ｎｍに励起光をもつ蛍光体粉末とを混合し、成形後、酸化物ガラスの軟化点±１５０℃の温度範囲で焼結させる。 - 特許庁 - After coating the surface of an under-cladding layer 2 and the like with an ultra violet curable resin, a resulting coating layer 3a is irradiated with ultraviolet light L having a wavelength within the range of 330-400 nm in a predetermined pattern, and an irradiated portion is cured and formed into cores.
アンダークラッド層２等の表面に、紫外線硬化型樹脂を塗布した後、その塗布層３ａに対して、波長３３０〜４００ｎｍの範囲内の紫外線Ｌを所定パターンに照射し、その照射した部分を硬化させてコアに形成する。 - 特許庁 - By the heating, the extra fine conductive fibers are exposed to the surface, protruded from the surface, or contained in the inside <100 nm from the surface, so that a conductive layer is formed, and the conductive extruded article A can be produced.
この加熱により、極細導電繊維が表面に露出したり、表面から突出したり、表面から１００ｎｍ未満の内部に含有したりして、導電層が形成されて、導電性押出成形体Ａを製造することができる。 - 特許庁 - The method for manufacturing a tempered glass plate includes a chemical tempering process of chemically tempering a glass plate, and a polishing process of, after the tempering, polishing the surface of the glass plate by using slurry containing colloidal silica having an average particle diameter of 80 nm or less.
ガラス板を化学強化する化学強化工程と、前記化学強化工程後に、前記ガラス板の表面を、平均粒径が８０ｎｍ以下のコロイダルシリカを含むスラリーを用いて研磨する強化後研磨工程と、を含む、強化ガラス板の製造方法。 - 特許庁
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