「nm」を含む例文一覧(14378)
＜前へ 1 2 .... 201 202 203 204 205 206 207 208 209 .... 287 288 次へ＞- The abrasive particles are composed of metal oxide particles, having plate-like shape and 10-1,000 nm average particle diameter in a direction of particle plate surface, in which ≥50% particles have holes in a thickness direction of the plate.
粒子の形状が板状で、粒子板面方向の平均粒子径が１０ｎｍから１，０００ｎｍの範囲にあり、かつ５０％以上の粒子が板厚方向に孔を有する金属酸化物粒子からなることを特徴とする研磨粒子。 - 特許庁 - Then the resist pattern 8 is removed, followed by the entire silicon nitride film 7 and the silicon oxide film 6 of about 0.2 nm or smaller in thickness are removed, and the semiconductor substrate 1 is treated by thermal oxidation to form gate insulating films which are different in thickness.
この後、レジストパターン８を除去し、続いて窒化シリコン膜７の全てと約０. ２ｎｍ以下の厚さの酸化シリコン膜６とを除去し、次いで熱酸化処理を半導体基板１に施すことによって、厚さの異なるゲート絶縁膜を形成する。 - 特許庁 - To provide a process for forming patterns of the microphase separation structure having a fine domain size at a level of about 10 nm or smaller by using a block copolymer or a graft copolymer readily soluble in the solvent and easily applicable to the substrate or the like.
溶媒への溶解性が良好で基板等に容易に塗布可能なブロックコポリマー又はグラフトコポリマーを用いて、１０ｎｍ程度以下の微細なドメインサイズを有するミクロ相分離構造からなるパターンを形成し得る方法を提供する。 - 特許庁 - The reflector layer has at least one among an electrical conductivity exceeding about 5.0×10 (Ω.cm) an RMS surface roughness below about 1.0 nm in measurement by an atom force microscope and a refractive index below about 0.5 at a read-out wavelength.
反射体層は、約５．０×１０^4（Ω・ｃｍ）^-^1を超える導電率、原子間力顕微鏡による測定で約１．０ｎｍ未満のＲＭＳ表面粗さ、および読出波長において約０．５未満の屈折率のうちの少なくとも１つを有する。 - 特許庁 - Silver colloid is chiefly formed in an area C of a front substrate side transmitting light emitted from a cell of green color (G), to which, light of an emission wavelength area of blue color (B) of around 400 to 500 nm is made absorbed to enhance color purity.
緑色（Ｇ）のセルから発光される光を透過する前面基板側の領域Ｃ内に銀コロイドを重点的に形成して、４００ｎｍ〜５００ｎｍ程度の青色（Ｂ）の発光波長域の光を吸光させ、色純度を向上させる。 - 特許庁 - After a step of forming a gate electrode 3 of a MOS transistor, a silicon oxide film 2 having a film thickness of 400 nm or more is formed on the whole surface of a wafer, and ion implantation 6 is performed through the silicon oxide film 2 to form an offset drain region.
ＭＯＳトランジスタのゲート電極３形成工程後に、膜厚が４００ｎｍ以上のシリコン酸化膜２をウェハ全面に形成し、シリコン酸化膜２上からイオン注入６をすることによりオフセットドレイン領域を形成する。 - 特許庁 - In the second wet oxidation process, oxidation of the epitaxial layer 1b is made to progress in the state that a thermal treatment temperature of the above wet oxidation is raised up to about 1050°C, and the trench part LOCOS oxide film 6 of about 950 nm in thickness is finally formed.
第２のウエット酸化工程では、上記ウエット酸化の熱処理温度を、約１０５０℃に上げた状態でエピタキシャル層１ｂの酸化を進行させ、最終的に膜厚が９５０ｎｍ程度の溝部ＬＯＣＯＳ酸化膜６を形成する。 - 特許庁 - To provide fine particle-carrying carbon particles obtained by carrying fine metal oxide particles or fine metal hydroxide particles having an average particle diameter of ≤2 nm on carbon particles while keeping the monodisperse state thereof up to primary particles, and to provide a method for manufacturing the fine particle-carrying carbon particles.
平均粒子径が２ｎｍ以下の金属酸化物微粒子あるいは金属水酸化物微粒子を、一次粒子までの単分散状態を保持したまま、カーボン粒子に担持させた微粒子担持カーボン粒子およびその製造方法を提供する。 - 特許庁 - Titanium oxide is added and mixed to and with the soil or ash and water containing the chlorinated dioxins and thereafter the moisture content in the soil or the ash is regulated to ≥20 wt.% per total solids and the soil or the ash is irradiated with light of ≤400 nm in wavelength.
塩素化ダイオキシン類を含有する土壌または灰、水に、酸化チタンを添加混合した後、土壌または灰中の水分含量を全固形物に対して２０重量％以上として、波長４００ｎｍ以下の光を照射する。 - 特許庁 - Consequently, even when a distance between neighboring two contact holes is of a level so small as several tens of nm or less in a high-density cell array region, the contact holes can be well separated from each other, and a short circuit can thus be prevented between neighboring unit cells.
これにより、高密度セルアレイ領域で互いに隣接した２個のコンタクトホールの間隔が数十ｎｍまたはそれ以下のレベルに小さくなっても、コンタクトホールが互いに良好に分離して隣接した単位セル間の短絡が防止される。 - 特許庁 - To provide an easily adhesive film having excellent abrasion resistance and blocking resistance without damaging the adhesiveness even if the surface at the side of a coated layer formed as an easily adhesive layer is the extremely flat surface having ≤5 nm center area average surface roughness.
易接着層として形成される塗膜層側の表面が、中心面平均表面粗さで５ｎｍ以下という極めて平坦な表面であっても、接着性を損なうことなく、耐削れ性や耐ブロッキング性に優れる易接着フイルムの提供。 - 特許庁 - In the electroless plating method, the metal powder having the average particle size of ≥1 nm and ≤100 μm can be used, and this electroless plating method is applicable to a damascene process or a dual damascene process which is a method for forming a fine metal wiring within a semiconductor element.
本発明の無電解めっき方法では、金属粉末として平均粒径は１ｎｍ以上１００μｍ以下のものを使用でき、半導体素子内の微細金属配線形成方法であるダマシン法ないしデュアルダマシン法にも適用可能である。 - 特許庁 - This composite yarn for forming the composite material is constituted by a polybenzazole fiber having ≤20 nm mean square coarseness of the fiber surface and ≤0.6% equilibrium water content, and a matrix fiber consisting of a thermoplastic polymer having 200-600°C melting point.
繊維表面の平均自乗粗さが２０ｎｍ以下で平衡水分率が０．６％以下のポリベンザゾール繊維と融点が２００〜６００℃の熱可塑性重合体からなるマトリックス繊維とで構成されてなる複合材成形用複合糸条。 - 特許庁 - In the light-emitting element, an titanium oxide conductive film is used for at least one layer of a transparent electrode, a light-emitting wavelength of 300-550 nm is provided and an optical catalytic reaction preventing layer is formed so as to cover the titanium oxide conductive film.
透明電極の少なくとも１層に酸化チタン系導電膜が用いられ、３００〜５５０ｎｍの発光波長を有する発光素子であって、前記酸化チタン系導電膜を覆うように光触媒反応防止層が形成されている。 - 特許庁 - Next, when any of HD DVD, DVD, and CD is discriminated, the control part 40 radiates a laser beam for CD (wavelength 780 nm, NA0.45) to the disk D, and discriminates a kind of the disk D from a signal level of the reflected signal.
次に、ＨＤ ＤＶＤ、ＤＶＤ、及び、ＣＤの何れかとなると、制御部４０は、ＣＤ用のレーザ光（波長７８０ｎｍ，ＮＡ０．４５）をディスクＤに照射させ、その反射信号の信号レベルから、ディスクＤの種別を判別する。 - 特許庁 - To provide a metal powder of a nickel powder or a nickel alloy powder, which can be produced with a simple production method and in which particles having average primary particle sizes of 50 nm to 1 μm are three-dimensionally combined with each other, and to provide a production method therefor.
簡単な製造方法によって製造できる、平均一次粒子径が５０ｎｍ以上１μｍ以下の粒子が三次元的に連結したニッケル粉又はニッケル合金粉の金属粉とその製造方法を提供することにある。 - 特許庁 - The wiping cloth and the wiping product having a bulkiness of 1.5 cm^3/g or greater are obtained using polyester multifilaments A having a single filament diameter of 50-1,500 nm, wherein the content of a delustering agent is 1.0 wt.% or less relative to polyester weight.
艶消し剤の含有率がポリエステル重量対比１．０重量％以下のポリエステルからなる単繊維径５０〜１５００ｎｍのポリエステルマルチフィラメント糸Ａを用いて、嵩高性が１．５ｃｍ^３／ｇ以上のワイピング用布帛およびワイピング製品を得る。 - 特許庁 - This silver color-developing pearlescent pigment is composed such that a coating layer 14 comprising titanium oxide is formed on a flaky substrate 13 having a major diameter of 5-100 μm and an aspect ratio of 50 or more, where the thickness of the coating layer 14 is 40-100 nm.
長径が５〜１００μｍであってアスペクト比が５０以上の鱗片状基材１３に酸化チタンからなる被覆層１４が形成され、被覆層１４の厚みは４０〜１００ｎｍであるシルバー発色性真珠光沢顔料である。 - 特許庁 - Iridium oxide powder and a barium compound are mixed, and baked at a temperature of 650 to 1,000°C in an ambient atmosphere, and then, barium iridate coarse particle powder thus obtained is crushed down to a mean particle size of 20 to 100 nm to make the conductive particle powder.
酸化イリジウム粉をバリウム化合物と混合した後、大気雰囲気中にて６５０〜１０００℃の温度で焼成し、得られたイリジウム酸バリウム粗粒粉を平均粒径が２０〜１００ｎｍとなるように粉砕して導電性粒子粉とする。 - 特許庁 - To provide a positive photoresist composition capable of forming a fine pattern of about 0.35 μm in photolithography using i-line (365 nm), excel lent in DOF characteristics in such an ultrafine region and having attained high sensitivity.
ｉ線（３６５ｎｍ）を用いたホトリソグラフィ技術において、０．３５μｍ程度の微細なパターン形成が可能で、そのような超微細な領域においてＤＯＦ特性に優れ、かつ高感度化が達成されたポジ型ホトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁 - The layered body is prepared by forming the layer 12 comprising silicon dioxide fine particles on a substrate 11, wherein a primary particle size of the silicon dioxide fine particles is in the range of 50 to 700 nm, and a refractive index of the layer 12 is in the range of 1.20 to 1.40.
基材１１上に酸化ケイ素微粒子からなる層１２が形成された積層体であって、前記酸化ケイ素微粒子の１次粒子径が５０〜７００ｎｍで、前記層１２の屈折率が１．２０〜１．４０である積層体１０。 - 特許庁 - A silicon nitride (Si_3N_4) nanorod with a diameter of 20-80 nm and a length of 1-10 μm is obtained by heating a silicon oxide (SiO) powder to 1,350-1,400°C in a nitrogen gas atmosphere in the presence of an amorphous activated carbon (AAC) as a reducing agent.
還元剤の非晶質活性化炭素（ＡＡＣ）粉末を用い、酸化珪素（ＳｉＯ）粉末を窒素ガス環境下に１３５０℃〜１４００℃の温度に加熱し、直径２０〜８０ｎｍ、長さ１〜１０μｍの窒化硅素（Ｓｉ_３Ｎ_４）ナノロッドとする。 - 特許庁 - The mesoporous silica having high performance in humidity control has pore volume having a maximum value in a range of pore diameters at 3-20 nm, in a distribution curve of a pore diameter (horizontal axis) vs. pore volume (vertical axis) and has a total pore volume of 0.5-2.0 cm^3/g.
細孔径（横軸）−細孔容量（縦軸）の分布曲線において３〜２０ｎｍの細孔径の範囲内に細孔容量の最大値を有し、かつ、全細孔容量が０．５〜２．０ｃｍ^３／ｇである、高い調湿性能を有するメソポーラスシリカ。 - 特許庁 - Preferably, the fibrous activated carbon having the peak of the distribution of the pore diameter of the activated carbon in the domain over 1.2 nm and subjected to activation treatment advanced until having a specific surface area over 1,500 (m^2/g) is filled as the filter 6 for the gas sensor.
好ましくは、ガスセンサ用フィルタ６として、１．２ｎｍ以上の領域に活性炭の細孔半径の分布のピークを有し、かつ、１５００（ｍ^２／ｇ）以上の比表面積を有するまで賦活処理を進めた繊維状活性炭が充填されている。 - 特許庁 - Narrow-band pulse light L1 with the frequency ω1 and a wide-band visible/near infrared pulse light L2 with the frequency ω2 extending over a range from 540 nm to 1.1 μm are non-coaxially condensed to the same point of the gas/liquid interface 1a of a sample 1.
周波数ω１の狭帯域なパルス光Ｌ１と５４０ｎｍから１．１μｍの範囲に広がる周波数ω２の広帯域な可視・近赤外パルス光Ｌ２とを、試料１の気／液界面１ａの同一点に非同軸的に集光する。 - 特許庁 - In the first and second porous insulation films 11a, 11b, a C/Si ratio of at least each upper layer thereof is ≥1.5, and the maximum diameter of holes included in at least the upper layers of the first and second porous insulation films 11a, 11b is ≤1.3 nm.
第一、第二の多孔質絶縁膜１１ａ、１１ｂは、少なくとも上層のＣ／Ｓｉ比が１．５以上であり、かつ、第一、第二の多孔質絶縁膜１１ａ、１１ｂの少なくとも上層に含有される空孔の最大径が１．３ｎｍ以下である。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a plastic molded product which prescribes a place where a structure of a μm or nm order is formed of a plastic to manufacture the plastic molded product capable of being utilized many times, and to provide the plastic molded product manufactured by the manufacturing method.
プラスチックによるμｍ、ｎｍオーダーの構造を形成する場所を規定し、さらに、多数回の利用も可能なように作製するプラスチック成形品の製造方法及びこの製造方法により製造されるプラスチック成形品を提供する。 - 特許庁 - There is provided the napped fabric composed of napped parts and ground weave parts, wherein the napped fabric is provided by adding polyester napped yarn A of 50-1,500 nm single fiber diameter to the napped parts, and, if necessary, the napped fabric products are provided by using the napped fabric.
立毛部と地組織部とで構成される立毛布帛において、前記立毛部に、単繊維径が５０〜１５００ｎｍのポリエステル立毛糸Ａを含ませて立毛布帛を得た後、必要に応じて該立毛布帛を用いて立毛布帛製品を得る。 - 特許庁 - An uppermost magnetic layer of the magnetic tape contains nearly granular magnetic powder having ≤30 nm particle size and the magnetic tape has 220 to 400 kA/m coercive force in the longitudinal direction and ≤10% change ratio of the coercive force between -100°C and 50°C.
磁気テープの最上層磁性層が、粒子サイズ３０ｎｍ以下の略粒状の磁性粉末を含有し、磁気テープの長手方向の保磁力が２２０〜４００ｋＡ／ｍで、かつ−１００℃と５０℃間の保磁力の変化率を１０％以下にする。 - 特許庁 - To provide a blowby gas filter capable of precluding drop of the thermal efficiency of an internal-combustion engine by suppressing a pressure loss in the process of filtrating the particulate substance or oil mist of nm-order contained in the blowby gas generated in the engine.
内燃機関で発生するブローバイガス中に含まれるｎｍオーダーの粒子状物質やオイルミストをろ過する際の圧力損失を抑制することにより、内燃機関の熱効率の低下を防止することが可能なブローバイガスフィルタを提供する。 - 特許庁 - The splitter 10 has such characteristics that it reflects almost 100% of the beam, when the direction of the electric field is vertical but will transmit almost 100%, when the electric field is horizontal, so that the beam Nm of the laser 6m is reflected and the beam Nn of the laser 6n is transmitted.
偏光ビームスプリッタ１０は、電場の方向が垂直の場合はほぼ１００％反射するが、水平の場合はほぼ１００％透過する特性を有し、レーザ６ｍのビームＮｍは反射し、レーザ６ｎのビームＮｎは透過する。 - 特許庁 - The joint boots are composed of the polyamide resin and the cross-linked acrylic rubber, and are formed by including carbon black having an average basic particle size (an average primary particle size) of 50 nm or less by 0.2 to 3 wt.% there, and are molded by using the acrylic rubber/polyamide-based thermoplastic elastomer including the carbon black.
ポリアミド樹脂と架橋アクリルゴムよりなり、そこに平均基本粒子径(平均一次粒子径)が50nm以下のカーボンブラックを0.2〜3重量％含有せしめた、カーボンブラック含有アクリルゴム／ポリアミド系熱可塑性エラストマーを用いて成形されたジョイントブーツ。 - 特許庁 - The film containing the acrylic resin having the ring structure in the principal chain is biaxially stretched to bring an in-plane phase difference Re and a thickness-directional phase difference into 10 nm or less, to bring a film impact strength into ≥0.2 J and to bring a folding endurance test frequency into ≥200 times.
主鎖に環構造を有するアクリル樹脂を含むフィルムを二軸延伸することで、面内位相差Ｒｅと厚さ方向位相差が１０ｎｍ以下、フィルムインパクト強度が０．２Ｊ以上、耐折度試験回数が２００回以上とする。 - 特許庁 - The insulating film is composed of a first element group of B, P, and O and a second element, capable of generating a cation of bivalent or higher valence having a 6 coordination defined by Shannon and an ionic radius of 0.073 nm or above as indispensable constituent component elements.
ＢとＰとＯとからなる第１元素群と、シャノンにより定義された６配位のイオン半径が０．０７３ｎｍ以上である２価以上の陽イオンを生じ得る第２元素と、を必須構成元素とすることを特徴とする絶縁皮膜。 - 特許庁 - A method of manufacturing the metallic luster coat comprises the step of coating the substrate with a material for forming a metallic luster coat including a metal nano-particle coated with a protective material having ionic properties and having an average particle size of 1-100 nm.
イオン性を有する保護物質により被覆された、平均粒子径が１〜１００ｎｍである金属ナノ粒子を含む金属光沢被膜形成用材料を基材上に被膜形成することを特徴とする金属光沢被膜の製造方法。 - 特許庁 - Discoloring phenomenon in a heat treatment is suppressed and the transmittance in the irradiation of a 3 mm thick glass sample with luminous flux of 400 nm wavelength is maintained at ≥70% by adding Sb, Nb, Sn, Ta and Bi to a tellurite glass.
テルライトガラスにＳｂ、Ｎｂ、Ｓｎ、Ｔａ及びＢｉを添加しておくことで、熱処理時の着色現象を抑制でき、厚さ３ｍｍのガラス試料に波長４００ｎｍの光束を照射したときの透過率を７０％以上に維持できる。 - 特許庁 - To provide a semiconductor device which includes an oxide TFT (Thin Film Transistor) having a channel layer of not larger than approximately 10 nm and operates at high speed by reducing contact resistance between the channel layer and a source electrode or between the channel layer and a drain electrode in the oxide TFT.
チャネル層の厚さを１０ｎｍ程度以下とした酸化物ＴＦＴにおいて、チャネル層とソース電極との間やチャネル層とドレイン電極との間のコンタクト抵抗を低減して高速で動作することができる半導体装置を提供する。 - 特許庁 - The ink-jet recording medium characterized by containing an inorganic porous substance with fine pores of 1-200 nm in the fine pore distribution obtained by means of a nitrogen adsorbing method and a latex polymer in an ink absorbing layer and the coating liquid for the ink-jet recording medium are provided.
インク吸収層が窒素吸着法で求めた細孔分布に於いて１〜２００ｎｍに細孔を有する無機多孔性物質、及びラテックスポリマーを含有することを特徴とするインクジェット記録媒体、及び、インクジェット記録媒体塗工液。 - 特許庁 - This thermoplastic resin film whose glass transition temperature is above 150°C, thickness exceeds 100 μm, retardation is below 20 nm and surface tension is above 37 dyne/cm is provided.
ガラス転移点が１５０℃以上の熱可塑性樹脂Ａからなるフィルムであって、該フィルム厚さが１００μｍ以上、レターデーションが２０ｎｍ以下であり、フィルムの表面張力が３７dyne/cm以上であることを特徴とする熱可塑性樹脂フィルムであり、この。 - 特許庁 - In the probe 1 for scattering-type near-field microscopes, a part or the whole of the probe is coated with metal 7 having the particle size of a radius of curvature between 10-50 nm, which prevent adhesion to one another at least due to the interaction of an evanescent field.
散乱型近接場用プローブ1において、少なくともエバネッセント場の相互作用に起因するプローブの一部または全部が、互いに癒着することのない曲率半径10nm以上50nm以下の粒径を持つ金属7でコーティングされるようにした。 - 特許庁 - To provide a tungsten powder having an average particle size of 100 nm or smaller from which hard materials such as a cemented alloy, a tungsten carbide sintered material, and a composite ceramic material having a higher hardness and a higher strength can be obtained, and its manufacturing method.
超硬合金、炭化タングステン焼結材、複合セラミックス材料などの硬質材料の高硬度化および高強度化を可能とする平均粒径が１００ｎｍ以下の炭化タングステン粉末およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a glass substrate for a magnetic disk especially useful when a magnetic disk wherein a magnetic head floats and flies at a low floating height of ≤10 nm is manufactured, and to provide a manufacturing method of the magnetic disk using the glass substrate.
浮上量が１０ｎｍ以下の低浮上量で磁気ヘッドを浮上飛行させる磁気ディスクを製造する場合に特に有益な磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、該ガラス基板を利用した磁気ディスクの製造方法を提供する。 - 特許庁 - This cyclic olefinic polymer characterized by comprising the copolymer of a 2 to 20C α-olefin with a cyclic olefin having a specific structure and having a light transmittance of ≥85% at 400 nm, when a 3 mm-thick molded product of the polymer is measured.
環状オレフィン系重合体は、炭素原子数が２〜２０のα-オレフィンと、特定構造の環状オレフィンとの共重合体からなり、厚さ３ｍｍの成形体で測定した４００ｎｍにおける光線透過率が８５％以上である。 - 特許庁 - This electronic spectrum measuring apparatus is constituted so that narrow-band femtosecond visible/inner infrared rays with a frequency ω1 are emitted and a wide-band visible/near infrared pulse light L2 with a frequency ω2 is obtained by a filter for cutting white light on a short wavelength side of 540 nm or below.
分光測定装置は、周波数ω１の挟帯域なフェムト秒可視・近赤外光の発光と、周波数ω２が広帯域な可視・近赤外パルス光Ｌ２は、白色光を５４０ｎｍ以下の短波長側をカットするフィルターにより得る。 - 特許庁 - In the inkjet recording medium, in which at least one ink accepting layer is provided on a transparent support, the center-line mean roughness Ra of an ink accepting layer side surface is set to be 0 to 10 nm.
透明支持体上に少なくとも一層のインク受容層を有するインクジェット用記録媒体において、該インク受容層側表面の中心線平均表面粗さＲａが０〜１０ｎｍであることを特徴とするインクジェット用記録媒体。 - 特許庁 - To an Al-free semiconductor laser device which has a high output and high reliability and has 760 to 800 nm by compensating a strain in the active regions of a barrier layer and a quantum well layer, and to provide a reproducer/recorder for an optical disk using the same.
バリア層と量子井戸層の活性領域における歪を補償し、高出力でありかつ信頼性の高い、７６０〜８００ｎｍのＡｌフリーの半導体レーザ装置、及びそれを用いた光ディスク用再生記録装置を提供する。 - 特許庁 - According to the present invention, the polyazomethine film excellent in heat-resistance having surface roughness (Ra, arithmetic average roughness) of 40 nm or less and 10% weight reduction temperature of 250°C or higher is obtained, and is preferable as electric and electronic part materials.
本発明によれば表面あらさ（Ｒａ、算術平均粗さ）が４０ｎｍ以下であり、かつ、１０％重量減少温度が２５０℃以上である耐熱性に優れたポリアゾメチンフィルムが得られ、電気・電子部品材料として好適である。 - 特許庁 - However, if a inorganic compound powder particle CP with an average grain diameter of 500 nm or less is incorporated in it, the backing contraction of the wiring pattern layer 6 can be delayed properly when the ceramic green sheet 5 is formed to a laminated body 30 and baked.
しかしながら、５００ｎｍ以下の平均粒径を有する無機化合物粉末粒子ＣＰを含有させると、該セラミックグリーンシート５を積層体３０となして焼成する際に、配線パターン層６の焼成収縮を適度に遅らせることができる。 - 特許庁 - The method for culturing the plant is characterized by irradiating the plant with light having light main wavelengths of 400 to 500 nm at an irradiation illuminance of ≤2.5 W/m^2 on the surface of a culture bed in a time zone not irradiated with solar light.
植物に対し、太陽光が照射されない時間帯において、発光主波長が４００〜５００ｎｍにあり、かつ上記波長域の栽培ベッド面上の放射照度が２．５W／ｍ^２以下の光を照射する植物栽培方法である。 - 特許庁 - In the electrophotographic photoreceptor with which a laser having the oscillation wavelength from 400 to 600 nm is used as the exposure light source, the photosensitive layer 4 on a conductive supporting body 1 contains a bisamine compound expressed by formula (1) as a charge transfer substance 3.
発振波長が４００〜６００ｎｍの範囲にあるレーザを露光光源として使用される電子写真感光体において、導電性支持体１上の感光層４に、電荷移動物質３として（１）式のビスアミン化合物を含有する。 - 特許庁
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