「nm」を含む例文一覧(14378)
＜前へ 1 2 .... 200 201 202 203 204 205 206 207 208 .... 287 288 次へ＞- The translucent alumina sintered body having 4.5 MPa-m^0.5 fracture toughness, ≥350 MPa-m^0.5 flexural strength, and ≥60% all light transmittance (sample thickness: 1 mm) to a visible light having a wavelength of 600 nm is provided.
破壊靭性が４．５ＭＰａ・ｍ^０．５以上、曲げ強度３５０ＭＰａ以上、なおかつ波長６００ｎｍの可視光に対する全光線透過率（試料厚さ１ｍｍ）が６０％以上である透光性アルミナ焼結体を提供する。 - 特許庁 - The quartz glass preform is characterized in that the difference between the maximum value and the minimum value of the fluorine concentration is 50 ppm, the variation width of the refractive index is ≤20×10^-6, and no absorption peak appears at 163 nm in the absorption spectrum.
また本発明の石英ガラス母材は、フッ素濃度の最大値と最小値の差が５０ｐｐｍであり、かつ屈折率変動幅が２０×１０^−６以下であり、かつ吸収スペクトルにおいて１６３ｎｍに吸収ピークを有しない構成とする。 - 特許庁 - In the S/O suspension-producing method, a W/O emulsion is dehydrated, thereby the S/O suspension including water-soluble solid substances dispersed in the oil phase in the form of fine particles having an average particle size of 20 nm to 10 μm is produced.
Ｗ／Ｏエマルションを脱水することにより、平均粒径２０ｎｍ〜１０μｍの粒子として水溶性固体物質が油相中に分散したＳ／Ｏサスペンションを製造することを特徴とするＳ／Ｏサスペンションの製造方法に係る。 - 特許庁 - The electrode material for the electric double layer capacitor has a surface function group concentration of 0.3 to 0.6 mmol/g, a half-value width (Δν) of 68 to 75 at a peak (G1) of approximately 1,580 cm-1 observed in a Raman spectrum, and an average pore diameter of ≥1.73 nm.
表面官能基濃度が０．３〜０.６ｍｍｏｌ／ｇ、ラマンスペクトルに観察される１５８０ｃｍ^−１付近のピーク（Ｇ１）の半値幅（Δν）が６８〜７５であり、平均細孔径が１．７３ｎｍ以上である電気二重層キャパシタ用電極材。 - 特許庁 - In relation to the upper p-SiN film 12, the real part (n) of the complex index of refraction is set in the range of 1.7-2.4, the imaginary part (k) in the range of 0.15-0.75 and the film thickness in the range of 10-40 nm.
上層ｐ−ＳｉＮ膜１２に関して、複素屈折率の実部ｎを１．７以上２．４以下の範囲内に、虚部ｋを０．１５以上０．７５以下の範囲内に及び膜厚を１０ｎｍ以上４０ｎｍ以下の範囲内に設定している。 - 特許庁 - In each of the narrow holes 13a of the clad 13, a hole diameter (d) and a hole pitch (A) at the fiber cross section are set, respectively so that the numerical aperture (NA) with respect to a light at a wavelength of 630 nm of a portion surrounded by the clad 13 may be 0.2 or higher.
クラッド１３の細孔１３ａは、クラッド１３で囲まれた部分の波長６３０ｎｍの光に対する開口数（ＮＡ）が０．２以上となるようにファイバ横断面における孔径（ｄ）及び孔ピッチ（Λ）がそれぞれ設定されている。 - 特許庁 - In relation to the lower p-SiN film 11, the real part (n) of the complex index of refraction is set in the range of 1.9-2.5, the imaginary part (k) in the range of 0.9-1.7 and the film thickness in the range of 20-60 nm.
下層ｐ−ＳｉＮ膜１１に関して、複素屈折率の実部ｎを１．９以上２．５以下の範囲内に、虚部ｋを０．９以上ｋ以下１．７の範囲内に及び膜厚を２０ｎｍ以上６０ｎｍ以下の範囲内に設定している。 - 特許庁 - Preferably, a mass ratio of the transition metal/noble metal is 0.005-0.3 and the transition metal is at least one metal selected from Mn, Fe, Co, Ni, Y, Mo, Ru, Cu, Ce and Nd and a particle size of the transition metal is 0.5-10 nm.
好ましくは、遷移金属／貴金属の質量比が０.００５〜０.３であり、遷移金属が、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｃｕ、Ｃｅ、及びＮｄから選択された少なくとも１種であり、遷移金属の粒子径が０.５〜１０ｎｍである。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a semiconductor device which has a gate insulation film consisting of a silicon oxynitride film having a thickness of 2 nm or less and can achieve a good interfacial characteristic between the gate insulation film and an Si substrate, and has a barrier property that makes it difficult for boron to be diffused from a gate electrode.
ゲート絶縁膜とＳｉ基板の界面特性とゲート電極からのボロン拡散のバリア性の両立ができるような、２ｎｍ以下のシリコン酸窒化膜からなるゲート絶縁膜を有する半導体装置の製造方法を実現する。 - 特許庁 - The influence of heat decay is suppressed by setting a half value width of optical power distribution of a proximity light generation element 33 heating a recording area of the magnetic recording medium 21 to 100 nm or less and making cooldown time of a magnetic recording medium 21 to 2 ns or less.
磁気記録媒体２１の記録領域を加熱する、近接光発生素子３３の光パワー分布の半値幅を１００ｎｍ以下にすることで、磁気記録媒体２１の冷却時間を２ｎｓ以下にして、熱揺らぎの影響を抑制する。 - 特許庁 - The fired titanium oxide thin film having 1-5 nm thickness is obtained by depositing titanium oxide on the surface of a substrate in an oxidizing atmosphere by EB vapor deposition while using TiO_2 as a vapor deposition source and firing the titanium oxide-deposited substrate in the atmosphere or in an oxygen atmosphere.
焼成酸化チタン薄膜は、ＴｉＯ_２を蒸発源として酸化性雰囲気中でＥＢ蒸着により基体表面に形成された後、大気雰囲気中又は酸素雰囲気中で焼成された膜であり、１〜５ｎｍの厚みを有する。 - 特許庁 - The support for the lithographic printing plate comprises an infrared reflection type heat insulation layer using a material, having an infrared reflectively of a wavelength of 800 to 1,100 nm of 70% or more, and a heat insulation property of the constituting material equivalent or more to that of a ceramic alumina on a base.
基板上に、８００ｎｍ〜１１００ｎｍの波長の赤外線反射率が７０％以上であって、かつ、構成する材質の断熱性がセラミックアルミナと同等以上である材質を用いた赤外線反射型断熱層を設けてなる。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive composition having a chemical structure transparent to ArF excimer laser beams having a wavelength of 193 nm and high in resistance to dry etching, and a method for forming a negative pattern free from swelling and high in resolution and superior in developability by using an aqueous developing solution of widely used tetramethylammonium hydroxide.
ＡｒＦエキシマレーザの波長１９３nmに透明かつドライエッチング耐性が高い化学構造を持ち、汎用のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液による現像で膨潤のない、解像性に優れたネガ型のパタン形成方法を提供する。 - 特許庁 - An optical fiber terminal 5 is produced by providing a batch cover 2 by hardening the terminal part of one primary coated optical fiber 1 for a prescribed length c such as for 50 nm, for example, while using an ultraviolet setting resin after applying the resin into circular cross section by dice.
１本の光ファイバ素線（１）の端末部分の所定長ｃ、例えば５０ｍｍ長を、紫外線硬化樹脂を用い、ダイスにより該樹脂を断面円形状に塗布してから硬化して一括被覆（２）を設けて光ファイバ端末（５）を製造する。 - 特許庁 - The polybenzazole film has ≤40 nm surface roughness (Ra, arithmetic mean roughness), ≥0.80 tensile strength ratio of lengthwise direction over that of cross direction, ≥0.80 tensile elasticity ratio of lengthwise direction over that of cross direction.
本発明によれば表面あらさ（Ｒａ、算術平均粗さ）が４０ｎｍ以下であり、かつ、縦方向と横方向の引張強さの比が０．８０以上であり、縦方向と横方向の引張弾性率の比が０．８０以上であるポリベンザゾールフィルムが得られる。 - 特許庁 - After coating a glassy film forming-treated solution mixedly dispersing silicic acid fine particles having ≤100 nm grain diameter into an aqueous solution of a silicate, on the surface of the part to be quenched in the steel plate, the above part to be quenched is heated to quenching temperature and cooled into the water.
鋼板の被焼き入れ部の表面に珪酸塩の水溶液に粒径１００ｎｍ以下の珪酸微粒子を混合分散したガラス皮膜形成処理液を塗布した後、前記被焼き入れ部を焼き入れ温度に加熱し、水冷する。 - 特許庁 - The cosmetic composition contains 0.01-3 mass% fine fibrous cellulose having a length (major diameter) of 0.5 μm to 1 mm, a width (minor diameter) of 2 nm to 60 μm and a length/width ratio (major diameter/minor diameter) of 5-400 and 0.01-40 mass% surfactant.
長さ（長径）が０．５μｍ〜１ｍｍ、幅（短径）が２ｎｍ〜６０μｍ、長さと幅の比（長径／短径）が５〜４００の微細繊維状セルロースを０．０１〜３質量％、界面活性剤を０．０１〜４０質量％含む香粧品組成物。 - 特許庁 - The activated carbon has a micropore volume in a range of micropore diameter of 200-1,000 nm of ≥0.060 cm^3/cm^3, which is determined by a packing density, and hardness of ≥94.0%.
充填密度より求めた体積あたりの細孔直径２００〜１０００ｎｍの領域における細孔容積が０．０６０ｃｍ^３／ｃｍ^３以上で、硬度が９４．０％以上である活性炭により上記課題を達成することができる。 - 特許庁 - The insulating film is composed of a first element group of P, O, and N and a second element, capable of generating a cation of bivalent or higher valence having a 6 coordination defined by Shannon and an ionic radius of 0.073 nm or above as indispensable constituent component elements.
本発明の絶縁被膜は、Ｐ、ＯおよびＮからなる第１元素群と、シャノンにより定義された６配位のイオン半径が０．０７３ｎｍ以上である２価以上の陽イオンを生じさせ得る第２元素とを必須構成元素とする。 - 特許庁 - To inexpensively provide an SOI wafer in which the insulation property of an interlayer insulating oxide film is maintained at a high level even when the film is formed to have an extremely thin thickness of, for example, ≤100 nm and which is high in electrical reliability in a device manufacturing process.
層間絶縁酸化膜の厚さが例えば１００ｎｍ以下となるほど極めて薄く形成した場合であっても、高絶縁性が維持され、デバイス作製工程における電気的信頼性が高いＳＯＩウェーハを低コストで提供する。 - 特許庁 - To provide a wafer holder, which is improved in tight adhesion with a base board composed of ceramics or sapphire, is nonmagnetic, has conductivity, is to be used for detecting the outer periphery of a wafer or the like and has little reflection with respect to the visible light of 400 to 800 nm.
セラミックスやサファイアからなるベース板との密着性に優れ、非磁性で且つ導電性を有するとともに、基板の外周等を検知するのに用いる、４００〜８００ｎｍの可視光に対する反射の少ない基板ホルダーを提供する。 - 特許庁 - The inkjet recording paper is composed by coating or impregnating at least one face of an original paper with a coating liquid comprising a water-soluble polymer compound, either one of fluorescent-220 or fluorescent-271 and an organic fine particle with a mean particle diameter of 30-800 nm.
原紙の少なくとも一方の面に、水溶性高分子化合物と、フルオレスセント−２２０又はフルオレスセント−２７１のうちいずれかと、平均粒子径が３０ｎｍ〜８００ｎｍの有機微粒子を含む塗工液を塗工または含浸する。 - 特許庁 - The zinc-base-plated steel sheet has an oxide layer existing on at least one side of the surface of the plated layer, which has a bulk height of 100-2,000 nm when measured through observation for the cross section and has 3Zn(OH)_2-ZnSO_4-xH_2O.
少なくとも一方の面のめっき層表面に、断面観察から測定される嵩高さが１００〜２０００ｎｍの３Ｚｎ（ＯＨ）_２・ＺｎＳＯ_４・ｘＨ_２Ｏを有する酸化物層が存在することを特徴とする亜鉛系めっき鋼板。 - 特許庁 - The colored fine particle dispersion ink comprises a coloring material and a resin, where the peak particle size is 5-50 nm and the peak ratio defined by the ratio of the number of particles having the peak particle size to the number of particles having a particle size twice the peak particle size is at least 1.5.
色材と樹脂を含有する着色微粒子分散体インクにおいて、ピーク粒径が５〜５０ｎｍであり、かつ ピーク比＝（ピーク粒径％）／（ピーク粒径の２倍の粒径％）≧１．５ であることを特徴とする着色微粒子分散体インク。 - 特許庁 - A control part 40 controls a drive part 20 so that first a laser beam for BD (wavelength 405 nm, NA 0.85) is projected to a disk D, and it is discriminated whether the disk is BD or other than BD (HD DVD, DVD, CD) from presence of its reflected signal.
制御部４０は、駆動部２０を制御して、まず、ＢＤ用のレーザ光（波長４０５ｎｍ，ＮＡ０．８５）をディスクＤに照射させ、その反射信号の有無から、ＢＤであるかそれ以外（ＨＤ ＤＶＤ，ＤＶＤ，ＣＤ）であるかを判別する。 - 特許庁 - The concentration of chromium in the surface layer part within 10 nm from the surface of the steel sheet is regulated to ≤11.5 mass% by setting at least either one of heating temperature of a slab, annealing temperature of a basis material sheet, and finish annealing temperature so that it takes a rather high value.
スラブ加熱温度、母板焼鈍温度、仕上げ焼鈍温度の少なくとも１つを高めに設定することにより、鋼板表面から１０ｎｍ以内の表層部におけるクロム濃度を質量％で１１．５％以下とする。 - 特許庁 - In this method, since the STM chip can be moved to an accuracy of one nm, the two-dimensional array of the quantum dots in the period of several tens of um, that is, the short period of the same level as the size of the quantum dots is possible, whereby the quantum dots of a high density are obtained.
本方法では、ＳＴＭチップをｎｍの精度で移動できるので、数１０ｎｍ、すなわち量子ドットのサイズと同程度の短周期での２次元配列が可能であり、よって高密度の量子ドットが得られるという特徴を有する。 - 特許庁 - The plurality of projecting parts 21 are regularly arranged, and it is enough that the distance D between the distal end parts 22 of the adjoining projecting parts 21 is smaller than the size of dust, and the distance D is preferably ≤1 μm, and is more preferably 100 to 300 nm.
複数の凸部２１は規則的に配列されており、隣り合う凸部２１の先端部２２間の距離Ｄは、塵埃の大きさよりも小さければよく、好ましくは１μｍ以下、より好ましくは１００ｎｍ以上３００ｎｍ以下である。 - 特許庁 - The light-proofing packaging material comprises laminated paper wherein white papers with a whiteness of 60 or above are laminated on both sides of an unbleached kraft paper with a weight basis of 30-200 g/m^2 and is characterised by having light-proofing properties wherein the light transmissivity of light with a wavelength of 550 nm is 0.01% or below.
坪量３０〜２００ｇ／m^2の未晒クラフト紙の両面に白色度６０以上の白色紙を積層した積層紙からなり、波長５５０nmの光透過率が０．０１％以下の遮光性を有することを特徴とする。 - 特許庁 - In the optical device dehydrating method, an optical element is introduced into a processing chamber and irradiated with ultraviolet rays having wavelength of 180 nm or below, in an atmosphere of gas having a moisture content of 3 ppm or below to remove moisture and hydroxyl groups attached on the surface of the optical device.
処理室に収められた光学素子に、水分濃度３ｐｐｍ以下の雰囲気ガス中で、波長１８０ｎｍ以下の紫外線を照射し、光学素子表面の水分・水酸基を除去することを特徴とする光学素子の脱水方法 - 特許庁 - For example, the metal oxide layer 104 is made of a plurality of fine crystal particles of approximately 3 to 15 nm of stoichiometric composition of Bi_4Ti_3O_12 in a base part layer containing excessive Ti in comparison with the stoichiometric composition of Bi_4Ti_3O_12.
例えば、金属酸化物層１０４は、Ｂｉ_4Ｔｉ_3Ｏ_12の化学量論的組成に比較して過剰なＴｉを含む基部層の中に、Ｂｉ_4Ｔｉ_3Ｏ_12の化学量論的組成の３ｎｍ〜１５ｎｍ程度の複数の微結晶粒から構成されている。 - 特許庁 - The metallic luster decorative sheet 1 has at least the metallic thin film layer 3 with a thickness of 0.1 to 1 μm which comprises 15 to 40 wt% of a dry coating film containing a metallic ultrafine particle 4 with a particle diameter of 3 to 100 nm and a base sheet.
金属光沢加飾シート１が、粒子径３〜１００ｎｍの金属超微粒子４がインキの乾燥塗膜中に１５〜４０ｗｔ％含有された厚み０．１〜１μｍの金属薄膜層３と基体シートとを少なくとも有するものである。 - 特許庁 - To provide a rare earth-calcium-oxyborate-based crystal {ReCa4O(BO3)3, where, Re is a rare earth element} capable of reducing the occurrence of optical damages caused by irradiation with light having a wavelength of ≤500 nm and to provide a method of producing the same.
波長５００nm以下の光を照射した際に生じる光損傷の発生を低減することが可能な希土類・カルシウム・オキシボレート系結晶（ＲｅＣａ_4Ｏ（ＢＯ_3）_3、Ｒｅ：希土類元素）とその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - While the freezing object 5 is turned by the turning means 6, an alternating magnetic field is generated at predetermined timing from the respective magnetic field generation devices, and light with a wavelength of 500 nm or less is emitted from a light source 41 in the light emission means 4.
回転手段６により冷凍対象物５が回転されつつ、各磁場発生装置から所定のタイミングで交番磁場が発生されるとともに、光照射手段４の光源４１から波長５００ｎｍ以下の光が照射される。 - 特許庁 - To provide a new acid generating agent having high transparency, in particular to light at ≤220 nm wavelength and to provide a photosensitive composition showing high sensitivity, high resolution, a favorable profile, and wide defocus latitude by using the above acid generating agent.
特に２２０ｎｍ以下の光に対して透明性が高い新規な酸発生剤を提供し、また、その酸発生剤を用いて、高感度、高解像力で、良好なプロファイルを示し、且つデフォーカスラチチュードが広い感光性組成物を提供する。 - 特許庁 - This catalyst for hydrogenating the aromatic compound contains a carrier obtained by incorporating alumina in meso-porous silica having pores of 1-5 nm diameter and 700-2,000 m^2/g specific surface area and a noble metal which is deposited on the carrier and selected from palladium and platinum.
直径１〜５ｎｍの細孔および７００〜２０００ｍ^2／ｇの比表面積を有するメソポーラスシリカにアルミナを含有させた担体と、この担体に担持されたパラジウム、白金のいずれから選ばれる貴金属とを含むことを特徴とする。 - 特許庁 - Procyanidins derived from apple fruits contain practically no simple polyphenol, have the maximum-absorption at 280 nm wave length, exhibit IC_50 activity at an amount less than about 1/10 by weight against ACE (angiotensin-converting enzymes) of the amount at which (-) epigallocatechin gallate exhibits IC_50.
リンゴ果実由来であって、実質的に単純ポリフェノールを含まず、波長２８０ｎｍで極大吸収を示し、ＡＣＥに対して、重量比で、（−）エピガロカテキンガレートが、IC_50を示す量の約1/10以下の量で、IC_50活性を示すプロシアニジン類により達成。 - 特許庁 - The raw-material coal composition includes the volatile matter of 6.0 to 15 mass% and shows an average interlayer distance d_002 of the plumbago crystal obtained through the X-ray diffraction is 0.3445 nm or less.
揮発分が６．０〜１５質量％であり、かつＸ線回折によって求められる黒鉛結晶の平均層間距離ｄ_００２が０．３４４５ｎｍ以下であることを特徴とする、電気二重層キャパシタの電極用炭素材の原料炭組成物。 - 特許庁 - In a color filter material containing at least a color material and a binder resin, the surface roughness is adjusted to be within a range of 20-1,000 nm by making the color filter polished or making surface roughness adjusting fine particles contained into the color filter.
少なくとも色材と、バインダー樹脂とを含有するカラーフィルター材において、カラーフィルターを研磨するかあるいは、カラーフィルターに表面粗さ調整用微粒子とを含有させることで、その表面粗さを２０ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲にする。 - 特許庁 - After an SrRuO3 film is formed 70 nm, CMP is performed with the TiO2 film 14 as a stopper to remove an excessive SrRuO3 film on the TiO2 film 14, forming a lower part electrode 16 comprising the SrRuO3 film in the channel 15.
次いで、ＳｒＲｕＯ_3 膜を７０ｎｍ成膜した後、ＴｉＯ_2 膜１４をストッパとしてＣＭＰを行うことによりＴｉＯ_2 膜１４上の余分なＳｒＲｕＯ_3膜を除去し、溝１５内にＳｒＲｕＯ_3 膜からなる下部電極１６を形成する。 - 特許庁 - More specifically, in the case of using the LED light source, it comprises a band pass filter for narrowing the wavelength bands of lights emitted from the light source and a diffusive lens for diffusing the light in the ultranarrow band with a half band width of 1-10 nm passing through the filter.
具体的には、ＬＥＤ光源を用いる場合は、光源から出射された各光の波長帯域を絞るバンドバスフィルターと、概フィルターを透過した半値幅が１〜１０ｎｍの超狭帯域の光を拡散する拡散レンズとからなる。 - 特許庁 - To provide an optical device structure that a change of the lapse of time in optical elements in use is controlled in an optical device using an ultraviolet region, especially in the optical device using the wavelength range of a wavelength of 400 nm or less wherein absorption of oxygen is large.
紫外線領域を使用する光学装置において、特に酸素の吸収が大きな波長４００ｎｍ以下の波長域で使用する光学装置で、使用している光学素子経時変化を抑制した光学装置構成を提供する。 - 特許庁 - Alternatively, the surface of the plating layer in the hot dip galvanized steel sheet is provided with a flat projecting part, and the Al/Zn ratio from the surface layer to 200 nm in the depth direction in the projecting part is <0.003 (exclusive of zero) or >0.2.
もしくは、溶融亜鉛めっき鋼板のめっき層表面に平坦な凸部を有し、該凸部の表層から深さ方向200nmまでのAl/Zn比が0.003未満（ただし0は除く）もしくは0.2超えであるプレス成形安定性に優れた溶融亜鉛めっき鋼板。 - 特許庁 - The coating liquid is discharged toward the substrate W from a discharge port 521 of the tip of a discharge nozzle and the coating liquid P immediately after applied on the substrate W is irradiated with UV light L1 having 365 nm wavelength from a first irradiation light sources 551, 552.
吐出ノズル先端の吐出口５２１から基板Ｗに向けて塗布液を吐出するとともに、基板Ｗに塗布された直後の塗布液Ｐに対して第１の照射光源５５１，５５２から波長３６５ｎｍのＵＶ光Ｌ1を照射する。 - 特許庁 - In the production of the electrophotographic photoreceptor, a coating solution containing an organosilanol compound and titanium dioxide having ≤30 nm average particle diameter is applied on an electric charge generating layer and cured to form a silicone hard coat layer having ≥1.5 μm thickness.
電荷発生層上に有機シラノール化合物と平均粒径３０ｎｍ以下の酸化チタンを含む塗布液を塗布し、硬化させて厚さが１．５μｍ以上のシリコンハードコート層を設けることを特徴とする電子写真感光体の製造方法。 - 特許庁 - The coating composition contains a pigment having a color developing compound present on the surfaces of base particles having light reflecting properties and a binder, and has a light reflectance of a formed coating film of ≥10% in the region of 800-1,200 nm.
光反射性を有する基体粒子表面に発色性化合物が存在する顔料と、結合剤を含有する塗料組成物であり、形成塗膜の光反射率が８００から１２００ｎｍの領域で１０％以上とする。 - 特許庁 - An organic dye material for recording information by light having a wavelength of not more than 620 nm is used for a recording layer, and a prevention layer for preventing deterioration in property of a reflective layer formed on the recording layer is formed between the recording layer and the reflective layer.
記録層は波長が６２０ｎｍ以下の光により情報が記録される有機色素材料を用い、記録層の上に形成される反射層の特性劣化を防止する防止層を、記録層と反射層との間に形成する。 - 特許庁 - To provide a photocurable thermosetting resin composition suitable for direct imaging with a laser beam at a wavelength of 400 to 410 nm for a solder resist application, and to provide a cured product of the composition and a printed wiring board patterned by using the cured product.
ソルダーレジスト用途として、又、４００〜４１０ｎｍのレーザー光による直接描画に用いるに好適な光硬化性・熱硬化性樹脂組成物、及び硬化物並びにそれを用いてパターン形成されたプリント配線板を提供する。 - 特許庁 - The ceramics slurry composition comprises a raw material powder of the ceramics and the water-soluble acrylic binder whose weight average molecular weight and radius of inertia in water are 10,000-500,000 and ≤100 nm, respectively.
セラミック原料粉末と水溶性アクリルバインダと水とを混合してなる、セラミックスラリー組成物において、水溶性アクリルバインダの重量平均分子量を１００００〜５０００００とし、水中での慣性自乗半径を１００ｎｍ以下とする。 - 特許庁 - Transmittance of the substrate and the layer provided with the uneven structure at wavelength 360 nm is set to be ≥90% and refractive index of the layer provided with the uneven structure at the same wavelength is set to be equal to or be less than that of the substrate.
そして基板と凹凸構造を備えた層の波長３６０ｎｍにおける透過率を９０％以上とし、かつ同波長における凹凸構造を備えた層の屈折率を基板の屈折率に比較して等しいかまたは小さくする。 - 特許庁
- 特許庁
- Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
