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銅の酸化物、水酸化物又は塩を水溶液中で還元剤を用いて還元して銅微粒子を得る方法において、保護剤として無機リン酸、還元反応制御剤としてアルカリ性化合物を添加して粒子径500nm以下の耐酸化性銅微粒子を得る。 - 特許庁 - The method of manufacturing the silicon wafer includes a step of forming an oxide film (20) having a thickness not smaller than 10 nm on the entire surface of a silicon wafer (10) having both mirror-polished surfaces including its edges, and a step of reducing fine damage present on the surface of the wafer by removing the oxide film (20).
本発明のシリコンウェーハの製造方法は、両面を鏡面研磨したシリコンウェーハ（１０）の端面を含む表面全体に、膜厚が１０ｎｍ以上の酸化膜（２０）を形成する工程と、該酸化膜（２０）を除去して表面に存在する微細ダメージを低減する工程とを含む。 - 特許庁 - This inkjet recording medium includes a support and an ink receptive layer which is formed on at least one side of the surface of the support and contains an inorganic microparticle with the primary particle diameter of not more than 20 nm, a boron compound, a water-soluble resin, a titanium chelate compound and a matting agent with the average particle diameter of 1 to 60 μm.
支持体と、前記支持体上の少なくとも片側に配置され、一次粒子径が２０ｎｍ以下の無機微粒子、ホウ素化合物、水溶性樹脂、チタンキレート化合物、及び、平均粒子径１〜６０μｍのマット剤を含有するインク受容層とを有するインクジェット記録媒体。 - 特許庁 - A thermosetting resin composition, in which the glass transfer temperature is 75-95°C and the hydroxyl value is 20-35 mgKOH/g, and which contains polyol and polyisocyanate, is coated and cured on the PET film the surface of which is not subjected to treatment for easy adhesion so as to make the thickness of a cured film less than 10 nm.
ガラス転移温度が７５〜９５℃かつ水酸基価が２０〜３５ｍｇＫＯＨ／ｇであるポリオールとポリイソシアネートを含有する熱硬化型樹脂組成物を，表面に易接着処理が施されていないＰＥＴフィルム上に，硬化膜厚が１０ｎｍ未満となるように，塗布，硬化させる。 - 特許庁 - After the sulfuric acid solution of a concentration of 10 vol.% or below is subsequently added to the inspection water, and the absorbance B of 525 nm of the inspection water is measured; and it is confirmed whether the amount of the sulfuric acid solution added is a predetermined amount, on the basis of the variation quantity from the absorbance A to the absorbance B.
続いて検査水へ濃度１０容量％以下の硫酸溶液を添加した後、検査水の５２５ｎｍの吸光度Ｂを測定し、吸光度Ａから吸光度Ｂへの変動量に基づいて添加された硫酸溶液の量が所定量であるか否かを確認する。 - 特許庁 - The glass powder is preferably silica and is also preferably flaky so as to have a mean thickness of 0.1-2 μm, an aspect ratio of 5-150 and a flatness of 200 nm or less or preferably granular so as to have a mean particle diameter of 0.1-50 μm and a sphericity of 0.1-50 μm.
前記ガラス粉体は、シリカであることが好ましく、また、平均厚さ０．１〜２μｍ、アスペクト比５〜１５０であり、かつ、平面度が２００ｎｍ以下のフレーク状であるもの、または、平均粒径０．１〜５０μｍ、真球度０．１〜５０μｍの粒状であるものが好ましい。 - 特許庁 - That is, even in the case where light with a wavelength of 350 nm is irradiated at 1×10^13 photons/cm^2sec, a channel region of a transistor is formed using an oxide semiconductor in which an amount of variation in the threshold voltage is less than or equal to 0.65 V, preferably less than or equal to 0.55 V.
すなわち、３５０ｎｍの波長の光を１×１０^１３個／ｃｍ^２・ｓｅｃのフォトン数で照射された場合であっても、しきい値電圧の変動量が０．６５Ｖ以下、好ましくは０．５５Ｖ以下となる酸化物半導体でトランジスタのチャネル領域が形成されるようにする。 - 特許庁 - The stainless steel sheet having improved corrosion resistance in the weld heat affected zone is characterized in that the thickness of an oxide film is ≥15 nm, the concentration of Al in the oxide film is ≥50 atomic% in the atomic ratio of Al, Si, Mn, Cr and Fe, and further the defect rate of the oxide film is ≤3.0%.
酸化皮膜の厚みが１５ｎｍ以上、酸化皮膜中のＡｌの濃度がＡｌ，Ｓｉ，Ｍｎ，Ｃｒ，Ｆｅの原子比率において５０原子％以上であるとともに、酸化皮膜の欠陥率が３．０％以下であることを特徴とする、溶接部熱影響部の耐食性が改善されたステンレス鋼板。 - 特許庁 - The pair of substrates 15, 25 includes substrates 11, 23 and alignment layers 12, 22 formed on the surfaces of the substrates 11, 23, respectively, and in contact with the liquid crystal layer 30, wherein the surface roughness of the substrates 11, 23 where the alignment layers 12, 22 are formed is less than 4 nm.
一対の基板１５，２５の各々は、基材部１１，２３と、基材部１１，２３の表面に形成され液晶層３０に接する配向膜１２，２２と、を含んでおり、基材部１１，２３における配向膜１２，２２が形成される面の表面粗さが４ｎｍ未満となっている。 - 特許庁 - Either one of the media and a recording/reproducing head or a spacing amount measuring head is constituted so as transparent, and the spacing amount to be measured by irradiating an abutting part of the media and the above recording/reproducing head by a light from the transparent side is set to 20-80 nm.
メディアおよび前記記録再生用ヘッドまたはスペーシング量測定用ヘッドのいずれか一方を透明に構成し、透明な側からメディアと前記記録再生用ヘッドの当接部に光を照射することによって測定されるスペーシング量を２０〜８０ｎｍとする。 - 特許庁 - This abrasive composition is obtained by mixing the cocondensate of PMMA having a mean particle diameter of 40 nm and divinylbenzene, hydrogen peroxide, benzotriazole (BT), anthranilic acid, and glycine in ion-exchanged water filtered through a 0.5-μm cartridge filter as abrasives, and uniformly dispersing the abrasives in the water by stirring the water with a high-speed homogenizer.
研磨材として、平均粒径４０ｎｍのＰＭＭＡとジビニルベンゼンの共縮合物、過酸化水素、ベンゾトリアゾール（ＢＴ）、アントラニル酸、グリシンを０．５μｍのカートリッジフィルターで濾過されたイオン交換水に混合し、高速ホモジナイザーで攪拌して均一に分散させて研磨用組成物を得た。 - 特許庁 - The top face of an upper electrode 33 and the side faces of the upper electrode 33, a capacitor insulating film 32, and an embedded insulating film 16 are also composed of aluminum oxide having film thicknesses of about 5-100 nm, and covered with second insulating barrier layers 17 which prevent diffusion of hydrogen.
また、上部電極３３の上面並びに該上部電極３３、容量絶縁膜３２及び埋込み絶縁膜１６の各側面は、膜厚が５ｎｍ〜１００ｎｍ程度の酸化アルミニウムからなり、水素の拡散を防ぐ第２の絶縁性バリア層１７により覆われている。 - 特許庁 - In the laminate 100 of the ceramic insulation layer 30 and the metal layer 10, a protective layer 20 composed of a silicon compound whose layer thickness is 5-100 nm is provided on a side where the ceramic insulation layer 30 is provided, in the metal layer 10.
上記目的を達成するため、セラミック系絶縁層３０と金属層１０との積層体１００において、当該金属層１０には、セラミック系絶縁層３０が設けられる側の面に、層厚が５ｎｍ〜１００ｎｍのケイ素化合物から成る保護層２０を設ける構成とする。 - 特許庁 - The toner for developing an electrostatic charge image contains at least a binder resin and a colorant, wherein the colorant comprises a quinacridone pigment having a number average primary particle size of from 30 to 150 nm and having a ratio of a major axis direction length to a minor axis direction length of from 1.0 to 2.0, and Pigment Red 238.
少なくとも、結着樹脂と、数平均１次粒径が３０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下で、かつ、長軸方向径と短軸方向径の比が１．０以上２．０以下であるキナクリドン系顔料とピグメントレッド２３８を含有する着色剤と、を含有する静電荷像現像用トナー。 - 特許庁 - To provide a photosensitive color composition that can form a filter segment and a black matrix excellent in a pattern shape and chemical resistance without peeling or crimps on a coating film cured by a laser irradiation with a wavelength between 310 and 380 nm, and a color filter using the photosensitive color composition.
波長３１０〜３８０ｎｍのレーザ照射により硬化した塗膜について、表面剥がれ、表面シワの発生がなく、パターン形状および耐薬品性にも優れたフィルタセグメントおよびブラックマトリックスを形成可能な感光性着色組成物、およびそれを用いたカラーフィルタの提供。 - 特許庁 - The transfer film is obtained by forming a coating layer by applying a coating liquid containing fine silica particles 1-60 nm in an average particle size in a binder on a rough surface film having the uneven surface 15 based on the silica particles having an average particle size of 0.1-2 μm on the surface.
転写フィルムは、表面に平均粒子径が０．１〜２μｍのシリカ粒子に基づく凹凸面１５を有する粗面フィルム上に、バインダー中に平均粒子径が１〜６０ｎｍのシリカ微粒子を含有するコーティング液を塗布してコーティング層を形成することにより得られる。 - 特許庁 - To obtain infrared light emission with a wavelength of approximately 610 nm on which display fabrication is based by a perovskite type oxide thin film EL element which has a lower insulating layer, a light emitting layer, and an upper insulating layer formed of oxide perovskite thin films on a lower electrode and further has an upper electrode formed thereupon.
下部電極上に、酸化物ぺロブスカイト薄膜からなる絶縁層／発光層／絶縁層を作製し、その上に上部電極が作製されたぺロブスカイト型酸化物薄膜EL素子によって、ディスプレイ作成の基礎となる波長610nm近傍の赤色発光を得ること。 - 特許庁 - The plurality of areas formed with the same material mutually have different birefringence due to the difference of the orientation level of a mesogen, and in each of the plurality of areas, the difference of the maximum value and the minimum value of a in-plane retardation is 10 nm or less in.
前記複数の領域は同一材料により形成され、メソゲンの配向の程度が異なることに起因して複屈折率が互いに異なり、前記複数の領域のそれぞれにおいて、面内位相差の最大値と最小値との差が１０ｎｍ以下であることを特徴とする。 - 特許庁 - A galvanized steel sheet is brought into contact with acid solution containing oxide colloidal particles and kept for 1-90 seconds after completing the contact treatment, and then, the steel sheet is subjected to water rinsing and drying to deposit an oxide layer having the mean thickness of ≥10 nm on the surface of the galvanized steel sheet.
亜鉛系めっき鋼板を、酸化物コロイド粒子を含有する酸性溶液に接触させ、接触処理終了後1〜90秒間保持した後、水洗及び乾燥を行うことにより前記亜鉛系めっき鋼板表面に平均厚さ10nm以上の酸化物層を形成する。 - 特許庁 - To provide a polishing head and a polishing device which can provide a stable and constant high flatness, a high polishing uniformity and a work having few micro particles of 45 nm or larger and can be used in a rough polishing process and a finish polishing process in polishing the work.
ワークの研磨において、安定して一定の高平坦度、高研磨代均一性が得られ、かつ、４５ｎｍ以上の微小なパーティクルの少ないワークを得ることができ、粗研磨加工工程にも仕上げ研磨加工工程にも使用できる研磨ヘッド及び研磨装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a nitrogen compound semiconductor light-emitting element with large emission intensity, which comprises an n-type layer composed of AlGaN, an active layer composed of AlGaInN, and a p-type layer, and emits ultraviolet light with an emission peak wavelength of 400 nm or less, and to provide a method of manufacturing the same.
ＡｌＧａＮよりなるｎ型層、ＡｌＧａＩｎＮよりなる活性層、およびｐ型層を有し、発光ピーク波長が４００ｎｍ以下の紫外光を放射する、発光強度の大きい窒素化合物半導体発光素子およびその製造方法を提供する。 - 特許庁 - The mask blank is obtained by forming, on a substrate 11 made of synthetic quartz, a light-shielding layer 12 comprising TaN (with 84.0 atom% of Ta and 16.0 atom% of N in terms of a film composition ratio) to a film thickness of 43 nm by DC magnetron sputtering in a mixture gas atmosphere of xenon (Xe) and nitrogen (N) using Ta as a sputtering target.
合成石英からなる基板１１上に、スパッタリングターゲットにＴａを用い、キセノン（Ｘｅ）と窒素（Ｎ）の混合ガス雰囲気で、ＤＣマグネトロンスパッタにより、ＴａＮ（膜組成比 Ｔａ：８４．０原子％，Ｎ：１６．０原子％）からなる遮光層１２を４３ｎｍの膜厚で成膜する。 - 特許庁 - The light irradiation device includes a light source giving light in a wavelength of 400-1,200 nm as pulses having a full width at half maximum of 600μs, and a light guide distributing the pulses of the light given from the light source with energy intensity of 0.2-0.25J/cm^2 to the distance of 5 mm from the light outgoing surface.
４００〜１２００ｎｍの波長の光を、半値幅が６００μｓのパルスとして付与する光源部と、この光源部から付与された光のパルスを、出射面から５ｍｍの距離に０．２〜０．２５Ｊ／ｃｍ^2のエネルギー強度で分布させる導光部と、を備える。 - 特許庁 - A catalytic material of the catalytic thin film includes one element or a plurality of elements selected from a group comprising Ni, Pt, Co, Fe, Al, Cr, Cu, Mg, Mn, Rh, Ti, Pd, Ru, Ir and Re, and the thickness of the catalytic thin film lies within a range of about 1 nm to about 2 mm.
前記触媒薄膜の触媒材料はＮｉ、Ｐｔ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ａｌ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｒｈ、Ｔｉ、Ｐｄ、Ｒｕ、Ｉｒ及びＲｅからなる群から選択された１つまたは複数の元素を含み、厚さは約１ｎｍから約２ｍｍの範囲である。 - 特許庁 - The retardation value Rth in the thickness direction, represented by the formula below, of a green colored layer formed by the green-colored composition for a color filter is -15 to +15 nm.
Ｒｔｈ＝｛(Ｎｘ+Ｎｙ)／２−Ｎｚ｝×ｄ （式中、Ｎｘは着色層のｘｙ平面内のｘ方向の屈折率を、Ｎｙは着色画素層のｘｙ平面内のｙ方向の屈折率を、Ｎｚは着色画素層の厚み方向の屈折率を、ｄは着色層の厚み（ｎｍ）をそれぞれ表す。 - 特許庁 - A manganese compound powder carrying an H^+ type manganese oxide is yielded by an acid treatment of a manganese compound powder carrying manganese oxide, which is a divalent manganese compound carrying an aggregate of nanoparticles of manganese oxide with an oxidation number of >2 to ≤3 and an average particle diameter of 1-20 nm.
２価のマンガン化合物に、酸化数が２より大きく３以下であり、平均粒径１〜２０ｎｍのナノ微粒子の凝集体である酸化マンガンが担持されている酸化マンガン担持マンガン化合物粉末を、酸処理して得られるＨ^＋型酸化マンガン担持マンガン化合物粉末。 - 特許庁 - The inkjet recording ink at least contains a pigment, water, a water-soluble organic solvent and an epoxy ester resin emulsion, the emulsion having a volume-average particle diameter of 10-300 nm and a minimum film forming temperature (MFT) of ≤20°C.
少なくとも顔料、水、水溶性有機溶剤およびエポキシエステル樹脂エマルジョンを含有してなることを特徴とするインクジェット記録用インクであり、該エマルジョン中の体積平均粒子径が１０〜３００ｎｍであって、エマルジョンの最低造膜温度（ＭＦＴ）が２０℃以下であるインクジェット記録用インク。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition which shows high hardness, excellent adhesion to base material or backing, good electric characteristics including low permittivity and low dielectric tangent, a high permeability, and particularly a high permeability in the vicinity of a wavelength of 400 nm.
本発明の目的は、硬度が高く基材や下地などとの密着性が良好であり、誘電率と誘電正接が低く良好な電気特性を示し、かつ透過率が高く、特に波長４００ｎｍ付近の透過率が高い感光性樹脂組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁 - The resin composition used for forming a laminated board comprises an epoxy resin, a first inorganic filler of an indefinite shape, and a second inorganic filler which differs in average particle diameter from the first inorganic filler and in which the average particle diameter is 10-100 nm.
本発明の樹脂組成物は、積層板を形成するために用いる樹脂組成物であって、エポキシ樹脂と、不定形の第１無機充填剤と、前記第１無機充填剤と平均粒子径が異なり、かつその平均粒子径が１０〜１００ｎｍである第２無機充填剤と、を含む。 - 特許庁 - The optical film is characterized by containing a rod-like compound with a maximum absorption wavelength (λmax) of its ultraviolet absorption spectrum in a solution being shorter than 250 nm, a cellulose derivative, a hydrolysate or a polycondensate of a reactive metal compound, and a plasticizer.
溶液の紫外線吸収スペクトルの最大吸収波長（λｍａｘ）が２５０ｎｍより短波長である棒状化合物を含み、セルロース誘導体と、反応性金属化合物の加水分解物または重縮合物、及び可塑剤を含有することを特徴とする光学フィルム。 - 特許庁 - The thin-wall molded member is formed of a material obtained by mixing 2 to 10 wt.% of a carbon nanotube having a length/diameter ratio of not more than 500 and a diameter of not more than 200 nm in a PC resin.
ＰＣ樹脂に、長さ／直径が５００以下であって、前記直径が２００ｎｍ以下であるカーボンナノチューブを２ｗｔ％から１０ｗｔ％混入した材料により形成されたものであることを特徴とする薄肉成型部材を提供することにより上記課題を解決する。 - 特許庁 - It is preferable that the isocyanate group containing urethane prepolymer (A) is obtained from an aliphatic polyisocyanate compound and a polyol compound having a polycarbonate skeleton and/or a polyester skeleton, and the zeolite fine powder (B) is the zeolite fine powder whose bore diameter is 0.3 to 1.0 nm.
上記イソシアネート基含有ウレタンプレポリマー（Ａ）が、脂肪族ポリイソシアネート化合物と、ポリカーボネート骨格及び／又はポリエステル骨格を有するポリオール化合物とから得られるものであること、上記ゼオライト微粉末（Ｂ）が、細孔径０．３〜１．０ｎｍのゼオライト微粉末であることが好ましい。 - 特許庁 - The UV light reflection-blocking fabric is added with a UV absorber and has ≤20% UV transmission of 280-400 nm wave length, ≤30% reflectance and ≤70% of the reflectance based on the reflectance given when the UV absorber is not added.
紫外線吸収剤が付着され、波長２８０〜４００ｎｍの紫外線の透過率が２０％以下で、反射率が３０％以下であり、かつ該紫外線反射率が、前記紫外線吸収剤が付着していない場合の数値に対し、７０％以下の紫外線反射防止布帛である。 - 特許庁 - The polishing slurry disperses polishing particles in a dispersion medium and, as the polishing particles, monocrystalline diamond particles, polycrystalline diamond particles whose particle diameters are within a range of 1 to 10 nm, or cluster particles consisting of the monocrystalline and the polycrystalline diamond particles are used.
この研磨スラリーは、研磨粒子を分散媒中に分散させたものであり、研磨粒子として、粒径が１〜１０ｎｍの範囲にある単結晶ダイヤモンド粒子、多結晶ダイヤモンド粒子、又はこれら単結晶及び多結晶ダイヤモンド粒子からなるクラスター粒子が使用される。 - 特許庁 - This blood purifying treatment system has an external circulation tube in which blood circulates and a dialyzer and is equipped with a mechanism to suppress exposure of blood circulating in the blood purifying treatment system against electromagnetic waves with wave length 280-760 nm.
内部を血液が循環する体外循環チューブとダイアライザーを含む血液浄化療法用装置において、該血液浄化療法用装置を循環する血液の波長２８０〜７６０ｎｍの電磁波の被爆を抑制する機構を設けたことを特徴とする血液浄化療法用装置である。 - 特許庁 - To provide a scanning probe microscope having a space resolution up to the periphery centered at 10 nm, capable of acquiring quantitatively information on a film thickness or its distribution of a dielectric thin film, and an (extremely thin dielectric) film thickness distribution measuring method using the microscope.
誘電体薄膜の膜厚もしくはその分布に関わる情報を定量的に取得可能な、１０ｎｍを中心としてその近傍までの空間分解能を持つ走査型プローブ顕微鏡及びそれを用いた（極薄誘電体）膜厚分布測定方法を提供する。 - 特許庁 - A magnetoresistive effect element having a high magnetoresistive effect is obtained by forming a high-polarizability layer having a thickness of ≤10 nm in contact with the interface between a nonmagnetic layer and an intermediate layer as an Fe-rich Fe-O layer and heat-treating the Fe-O layer into a ferromagnetic Fe-O layer.
非磁性層中間層界面に接して１０ｎｍ以下の厚さの高分極率層を、ＦｅリッチなＦｅ—Ｏ層として形成し、熱処理によって強磁性Ｆｅ−Ｏ層の積層膜とし、これによって高い磁気抵抗効果を有する磁気抵抗効果素子を得る。 - 特許庁 - Thus, the oxygen coordination number of the base metal is increased and the relative dielectric constant is increased to ≥30 in spite of an amorphous, so that the storage device can be applied to the capacitor dielectric film of the DRAM of F65 nm and after this.
ＨｆＯ_２やＺｒＯ_２を母材とし、ＹやＬａなどのイオン半径の大きい元素の酸化物を添加すれば、母材の酸素配位数が増大して非晶質でも比誘電率が３０以上に増大するため、Ｆ６５ｎｍ以降のＤＲＡＭのキャパシタ誘電体膜に適用することができる。 - 特許庁 - A disc 10 is rotated by a rotary dial 14, and a holmium filter 1 is arranged on the light path, and the wavelength of a light irradiated to the holmium filter 1 is scanned within the range of 190-900 nm, and the absorption maximum wavelength of the transmitted light intensity is calculated so that the accuracy of the wavelength can be calibrated.
回転ダイヤル１４により円盤１０を回転させ、光路上にホルミウムフィルタ１を配置させ、ホルミウムフィルタ１に照射する光の波長を１９０〜９００ｎｍの範囲内でスキャンし、透過光強度の吸収極大波長を求めることにより、波長の正確さを校正する。 - 特許庁 - To provide an optically recording medium, especially an optically recording medium capable of recording and regenerating with a blue laser beam which is a visible laser beam, to provide a new indole derivative, and to provide the optically recording medium which uses the indole derivative and can well record and regenerate with a laser beam having a wavelength of 300 to 900 nm.
光記録媒体、特に可視レーザーの一種である青色レーザー光により記録再生可能である光記録媒体において、新規インドール誘導体及びそれを用いた波長３００〜９００ｎｍのレーザーで良好な記録および再生が可能な光記録媒体の提供。 - 特許庁 - In this photochemical therapy with less adverse effect, more than one kind of substances selected from photosensitive substances and antioxidants, and photolyase are applied on an affected part and light with an output of 10-300 mW/cm including 100-11,000 nm wavelength range is radiated thereto.
光感受性物質と抗酸化剤から選ばれる一種以上の物質とフォトリアーゼを患部に塗布し、１００〜１１０００ｎｍの波長域を含む出力１０〜３０００ｍｗ／ｃｍの光を照射することにより副作用の少ない光化学療法を提供する。 - 特許庁 - First, a dispersion containing an ultraviolet-curable resin composition is prepared by dispersing, in a suitable solvent, an ultraviolet-curable resin composition containing a monomer and/or oligomer having a suitable amount of (meth)acrylic group, an antimony pentoxide filler having an average particle size of 1-100 nm, and a polymerization initiator.
まず、適量の（メタ）アクリル基を有するモノマー及び／又はオリゴマー、平均粒径１〜１００ｎｍの五酸化アンチモンフィラー、および重合開始剤を含有する紫外線硬化性樹脂組成物を適当な溶媒に分散させ、紫外線硬化性樹脂組成物を含む分散液を調製する。 - 特許庁 - The meso-pore having the uniform diameter consists of a meso- pore formed by using an assembled body of amphipathic molecules as a template and the distribution of the diameters of the meso-pores measured by a nitrogen gas adsorption method has a single maximum value and ≥60% pores of total pores have ≤10 nm diameters.
均一な径のメソ細孔が両親媒性分子の集合体をテンプレートにして形成された細孔からなり、窒素ガス吸着測定により求められた前記メソ細孔の径の分布が、単一の極大値を有し、且つ６０％以上の細孔が１０ｎｍに含まれる。 - 特許庁 - To provide a biaxially stretched polyester film used for a constituent of a dye-sensitized solar cell, which contains 0.01-10 wt.% of a benzoxazine-based ultraviolet absorber, and has a light transmittance of 20.0% or less at a wavelength of 380 nm.
色素増感太陽電池の構成部材として使用される二軸延伸ポリエステルフィルムであり、当該フィルムはベンゾオキサジン系紫外線吸収剤を０．０１〜１０重量％含有し、波長３８０ｎｍの光線透過率が２０．０％以下であることを特徴とする二軸延伸ポリエステルフィルム。 - 特許庁 - The light transmission type organic EL element is composed of a transparent anode layer, a positive hole transport layer, a luminescence layer, a colorless organic electron injection layer of a thickness in the range of 3 to 30 nm, and a transparent cathode layer composed of indium-zinc oxide formed on a transparent substrate in this order.
透明基板の上に、透明陽電極層、正孔輸送層、発光層、厚さが３〜３０ｎｍの範囲内にある無色の有機電子注入層、そして、インジウム亜鉛酸化物からなる透明陰電極層がこの順で形成されてなる光透過型有機エレクトロルミネッセンス素子。 - 特許庁 - The photosensitive ceramic composition contains an inorganic powder and a photosensitive organic component as essential component, wherein the inorganic powder includes alumina powder whose average particle diameter is ≤500 nm, and the photosensitive organic component includes a polymer whose Tg is -60 to 30°C.
無機粉末と感光性有機成分を必須成分とする感光性セラミックス組成物であって、無機粉末が平均粒子径５００ｎｍ以下のアルミナ粉末を含有し、かつ感光性有機成分がＴｇ−６０℃〜３０℃のポリマーを含有することを特徴とする感光性セラミックス組成物。 - 特許庁 - To provide an electrophotographic photoreceptor capable of stably controlling volume resistivity for suppressing both image deletion and an increase in residual potential, low in the absorption of light near a 400 nm wavelength, without impairing photosensitivity characteristics, and having a surface layer excellent in durability.
画像流れと、残留電位の上昇の双方を抑制する体積抵抗率を安定して制御することができ、４００ｎｍ付近の光の吸収が低く感光特性を阻害させず、耐久性に優れる表面層を有する電子写真用感光体を提供する。 - 特許庁 - To provide a fuel cell and a membrane electrode assembly, wherein the utilization efficiency of a catalyst particle is enhanced by using a non-porous carbon carrier that has a low specific surface area, and wherein at the same time a high activity Pt-Ru series catalyst, in which the catalyst grain size is maintained to be smaller than 5 nm is used in a fuel electrode.
非多孔質低比表面積カーボン担体を使用して触媒粒子の利用効率を高め、同時に触媒粒径を５ｎｍ未満に保ち、高活性なＰｔＲｕ系触媒を燃料極に使用する燃料電池及び膜電極接合体を提供する。 - 特許庁 - In an anti-reflecting film production method, a coating liquid is applied onto a web W, which is supported by a backup roller 11 and travels continuously, by using a slot die to form at least one layer having a film thickness of ≤200 nm in a dried state and having a lower refractive index than that of the web.
バックアップローラ１１に支持されて連続走行するウェブＷ上に、スロットダイを使用して塗布液を塗布し、乾燥状態での膜厚が２００ｎｍ以下であり、かつ、ウェブよりも屈折率の低い層を少なくとも１層形成する反射防止フィルムの製造方法。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a laminated wafer capable of removing an oxide film by heat treatment of a shorter time compared with that in a conventional method, and capable of eliminating an island-like trace of the oxide film on a laminated interface, even when a thickness of an active layer is as thin as 500 nm or less.
本発明の目的は、従来の方法に比べ短時間の熱処理で酸化膜を除去できる上、活性層の厚さが500nm以下と薄い場合であっても、貼り合わせ界面における島状酸化膜の跡を無くすことができる貼り合わせウェーハの製造方法を提供することにある。 - 特許庁
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