「nm」を含む例文一覧(14378)

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  • The polycarbonate/polydiorganosiloxane copolymer includes an aggregation structure with polydiorganosiloxane domains dispersed in a matrix of a polycarbonate polymer, wherein an average size of the polydiorganosiloxane domains is 5-40 nm and the normalized dispersity is ≤40%, and the total light transmittance is ≥88%.
    ポリカーボネートポリマーのマトリックス中にポリジオルガノシロキサンドメインが分散した凝集構造であり、該ポリジオルガノシロキサンドメインの平均サイズが５〜４０ｎｍ、規格化分散が４０％以下あり、全光線透過率が８８％以上であることを特徴とするポリカーボネート−ポリジオルガノシロキサン共重合体。 - 特許庁
  • The polymerizable composition includes (A) a photoradical polymerization initiator represented by general formula (1), the photoradical polymerization initiator having a molar absorption coefficient with respect to light at a wavelength of 365 nm in ethyl acetate of from 4,000 to less than 10,000; (B) a polymerizable compound; and (C) a colorant.
    （Ａ）下記一般式（１）で示され、且つ、酢酸エチル中における、波長３６５ｎｍの光に対するモル吸光係数が４０００以上１００００未満である光ラジカル重合開始剤と、（Ｂ）重合性化合物と、（Ｃ）着色剤と、を含有する重合性組成物である。 - 特許庁
  • The insect pest control apparatus 15 is equipped with a light source 11 for irradiation with a light of at least a part of wavelengths of approximately 470-580 nm wavelengths and controls output of light irradiated from the light source 11 on the base of infestation degree of insect pests 3 or activity degree of insect pests 3.
    略４７０〜５８０ｎｍの波長域の少なくとも一部の波長域の光を照射する光源１１を備え、制御装置１５が、害虫３の発生度合い、または害虫３の活動度合いに基づいて、光源１１から照射される光の出力を制御する。 - 特許庁
  • The element sealing body 1 includes substrate glass 3, an element 4 placed on the substrate glass, and protective glass 2 sealing the element where the surface roughnesses Ra of mutually-contacting surfaces of the protective glass and the substrate glass are 2.0 nm or smaller.
    基板ガラス３と、該基板ガラス上に載置された素子４と、該素子を封止する保護ガラス２とを含む素子封止体１であって、前記保護ガラス及び前記基板ガラスの相互に接触する側の表面の表面粗さＲａが夫々２．０ｎｍ以下であることを特徴とする素子封止体である。 - 特許庁
  • The gas barrier film 1 is a laminate comprising: the resin base material 2; the first silica film 3 formed on the resin base material 2 by emitting ultraviolet light having a wavelength of 155 to 274 nm to the polysilazane; and the second silica film 4 derived from colloidal silica and laminated on the first silica film 3.
    ガスバリアフィルム１は、樹脂基材２と、ポリシラザンに波長１５５ｎｍ〜２７４ｎｍの紫外線光を照射して樹脂基材２上に形成された第一シリカ膜３と、第一シリカ膜３上に積層されたコロイダルシリカ由来の第二シリカ膜４とからなる積層体である。 - 特許庁
  • Jointing is performed in an atmosphere by a jointing material containing a metal oxide particle having an average grain size of 1 nm to 50 μm and a reducing agent made of an organic matter, thus obtaining an improved junction strength to an oxide formed on the surface of a semiconductor substrate.
    平均粒径が１ｎｍ〜５０μｍの金属酸化物粒子と有機物からなる還元剤とを含む接合材料により、大気雰囲気中において接合を行うことで半導体基体表面に形成した酸化物に対して優れた接合強度が得ることができる。 - 特許庁
  • Ethanol is converted to fuel gas with a calorific value of ≥45 MJ/Nm^3 containing ethane as a main component by bringing the ethanol into contact with a catalyst including at least one selected from palladium and platinum, and a solid acid, in the presence of hydrogen 0.4 to 1.0 time the ethanol in volume ratio.
    エタノールを体積比でエタノールの０．４〜１．０倍の水素の存在下に、固体酸にパラジウムおよび白金から選ばれる少なくとも一種と固体酸とを含有してなる触媒に接触させて、エタンを主成分とする発熱量４５ＭＪ／Ｎｍ^3以上の燃料ガスに変換する。 - 特許庁
  • The coating film formed by using the coating composition includes the matrix; and the hollow mesoporous silica particles containing the shell part having the mesoporous structure containing the silica and a hollow part present on the inside of the shell part, and having an average primary particle diameter of 10-200 nm.
    本発明の塗料組成物を用いて形成された塗膜は、マトリックスと、シリカを含むメソ細孔構造を有する外殻部と前記外殻部よりも内側に存在する中空部とを含み平均一次粒子径が１０〜２００ｎｍの中空メソポーラスシリカ粒子とを含む。 - 特許庁
  • In the nanocomposite material composing the optical lens, the inorganic particles whose average primary particle diameter is 40 nm or less are dispersed in a resin obtained by polymerizing a polymerization monomer consisting mainly of bisphenol A acrylate or bisphenol A methacrylate whose molecular weight is 400 to 1,000.
    光学レンズを構成するナノコンポジット材料は、分子量が４００以上１０００以下のビスフェノールＡアクリレートもしくはビスフェノールＡメタクリレートを主成分とする重合単量体が重合した樹脂に、平均一次粒子径が４０ｎｍ以下の無機粒子が分散している。 - 特許庁
  • A polyester textured yarn, having fluff consisting of polyethylene naphthalate fiber on the surface, is characterized in that a crystal volume obtained by the X-ray wide angle diffraction of the polyethylene naphthalate fiber is ranging from 550 to 1,200 nm^3, and in that crystallinity is ranging from 30 to 60%.
    ポリエチレンナフタレート繊維からなる毛羽を表面に有するポリエステル加工糸であって、該ポリエチレンナフタレート繊維のＸ線広角回折より得られる結晶体積が５５０〜１２００ｎｍ^３であり、かつ結晶化度が３０〜６０％であることを特徴とするポリエステル加工糸。 - 特許庁
  • The ink set includes: an ink composition comprising a pigment having a volume average particle diameter of 20-60 nm in a dispersion state, a polymerizable compound that polymerizes with active energy rays, and water; and a flocculant that flocculates a component in the ink composition.
    分散状態での体積平均粒径が２０ｎｍ以上６０ｎｍ以下の顔料と、活性エネルギー線により重合する重合性化合物と、水とを含有するインク組成物、及びインク組成物中の成分を凝集させる凝集剤を含有する処理液を有するインクセット。 - 特許庁
  • The curable composition and a cured product of the composition comprise an organic compound containing a carbon-carbon double bond having reactivity with an SiH group, a hydrosilylation catalyst, an SiH group-containing silicon compound, and polymer fine particles in a size of 10 to 500 nm having a specified structure.
    ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を含有する有機化合物、ヒドロシリル化触媒、ＳｉＨ基含有ケイ素化合物、および、特定構造を有する１０〜５００ｎｍのポリマー微粒子からなる硬化性組成物及びその硬化物である。 - 特許庁
  • Adhesive compositions are rendered stable against degradation caused by ultraviolet light through the incorporation of selected highly soluble, red-shifted, photostable benzotriazole UV absorber which absorbs light in the 350 to 400 nm range.
    接着剤組成物は、３５０ｎｍないし４００ｎｍの範囲で光を強く吸収する、選択された、高度に溶解性で、レッド−シフトされた、光安定なベンゾトリアゾール紫外線吸収剤を混入することにより、紫外線により引き起こされる分解に対して安定化される。 - 特許庁
  • In the method of etching the sapphire substrate, a photoresist pattern is formed on the sapphire substrate and irradiated with ultraviolet rays of ≤400 nm in wavelength, and then dry etching is carried out using the resist pattern as a mask to form many circular truncated conic and circular conic projections on the sapphire substrate.
    本発明は、サファイア基板上にフォトレジストパターンを形成し、波長が400nm以下の紫外線光を照射した後、前記レジストパターンをマスクとしてドライエッチングすることにより前記サファイア基板上に円錐台状や円錐状の凸部を多数形成するサファイア基板のエッチング方法である。 - 特許庁
  • The semiconductor wafer 100 includes a semiconductor substrate (for example, a GaAs substrate 101 and a buffer layer 102), a peeling layer 103 formed thereupon, and a compound semiconductor epitaxial layer 104 formed thereupon, the peeling layer 103 being ≥20 to <200 nm thick.
    半導体ウェハ１００は、半導体基板（例えば、ＧａＡｓ基板１０１及びバッファ層１０２）と、この上に形成された剥離層１０３と、この上に形成された化合物半導体エピタキシャル層１０４とを有し、剥離層１０３の厚さを２０ｎｍ以上２００ｎｍ未満にしたものである。 - 特許庁
  • To provide a method for producing a compound adhesive having a good electroconductivity, in a good efficiency by dispersing very fine carbon fibers having 0.2 to 200 nm level diameter in an emulsion type adhesive, without directly giving a mechanical energy to the emulsion type adhesive.
    エマルション型粘着剤中に、直径が０.２〜２００ナノメートルレベルの極細炭素繊維を、機械的なエネルギーを該エマルション型粘着剤に直接与えることなく、分散させて、良好な導電性を有する複合粘着剤を効率よく製造する方法を提供する。 - 特許庁
  • The negative electrode active material for lithium ion secondary battery comprising a material including at least silicon and oxygen in constituent elements includes scale-like powder with a thickness of 30-500 nm and a ratio of average major axis/thickness is 10-100, and wherein oxygen content is 5-38 wt.%.
    少なくともシリコンと酸素とを構成元素中に含む物質からなるリチウムイオン二次電池用の負極活物質であって、厚みが３０〜５００ｎｍであり、かつ、平均長径／厚みの比が１０〜１００である鱗片状の粉末からなり、酸素含有量が５〜３８ｗｔ％であるようにした。 - 特許庁
  • To provide a positive resist composition exhibiting sufficient transmitting property when a light source at 157 nm is used and causing little line edge roughness, development defects and scum.
    １６０ｎｍ以下、特にＦ_２エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には１５７ｎｍの光源使用時に十分な透過性を示し、且つラインエッジラフネス、現像欠陥及びスカムが少ないポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁
  • To provide a method for depositing a catalytic metal on the surface of a carrier in such a state that the catalytic metal exhibits high efficiency as a catalyst, namely, has minute particle size of ≤1 nm and is deposited at a high deposition rate and to provide a metal catalyst manufactured by this depositing method.
    本発明の目的は、担体表面に、触媒としての効率の高い状態、すなわち粒径１ｎｍ以下の微小な状態、かつ担持率の高い状態で、触媒金属を担持させる方法及びその方法で製造した金属触媒を提供することである。 - 特許庁
  • The transparent resin film contains an alicyclic structure-containing polymer and a liquid hydrocarbon being liquid at ordinary temperature and pressure with a boiling point of 80°C or over at a predetermined weight ratio and light transmission of 80% or over at a wavelength of 550 nm and is prepared by a fusion method.
    脂環式構造含有重合体と沸点が８０℃以上であり常温常圧において液体である液体炭化水素と特定の重量比で含んでなり、波長５５０ｎｍにおける光透過率が８０％以上である、溶融法によって作製された透明樹脂フィルム。 - 特許庁
  • This liquid curable composition comprises the following components (A) to (D): (A) a phosphorus-containing tin oxide particle, (B) a compound having two or more polymerizable unsaturated groups in the molecule, (C) a photopolymerization initiator whose molar extinction coefficient at 313 nm is ≤5,000 L/mol×cm, and (D) a solvent.
    下記成分（Ａ）〜（Ｄ）：（Ａ）リン含有酸化錫粒子（Ｂ）分子内に２以上の重合性不飽和基を有する化合物（Ｃ）３１３ｎｍにおけるモル吸光係数が５，０００Ｌ／ｍｏｌ・ｃｍ以下である光重合開始剤（Ｄ）溶剤を含有する液状硬化性組成物。 - 特許庁
  • The quartz glass has ≥95% internal transmittance in 10 mm thickness to ultraviolet light of 245 nm wavelength, ≥10^11.5 Pa s coefficient of viscosity at 1,215°C and the coefficient of viscosity increased to ≥10^12.0 Pa s by containing ≤3 ppm Al by weight.
    また、波長２４５ｎｍの紫外光に対する厚さ１０ｍｍでの内部透過率が９５％以上であり、１２１５℃における粘性率が１０^１１．５Ｐａ・ｓ以上であり、さらにＡｌを重量比で３ｐｐｍ以下含有することにより、粘性率が１０^１２．０Ｐａ・ｓ以上である。 - 特許庁
  • To provide a film for reflection member of surface light source which hardly deteriorates the average reflectance in wavelength of 400 to 700 nm, hardly causes secular deterioration of brightness and facilitates the discrimination between a surface provided with a coating layer including a light stabilizer and a colorant, and a non-coated surface.
    ４００〜７００ｎｍの波長における平均反射率の低下が少なく、また経時的な輝度低下が少なく、かつ光安定剤と着色剤とを含有する塗布層を設けた面と非塗布面の区別が容易な面光源反射部材用フィルムを提供する。 - 特許庁
  • The sintered compact for the magnetic head slider comprises alumina crystal grains, titanium carbide crystal grains and carbon crystal grains, wherein the ratio of carbon crystal grains having a particle diameter exceeding 100 nm is ≤35% in the particle diameter distribution of the carbon crystal grains basing on the number as a reference on the sintered compact cross section.
    磁気ヘッドスライダ用焼結体は、アルミナ結晶粒、炭化チタン結晶粒、及び炭素結晶粒を含む焼結体であり、焼結体断面中の炭素結晶粒の個数基準の粒径分布において、粒径が１００ｎｍ超の炭素結晶粒の割合が３５％以下である。 - 特許庁
  • This polymer substrate has a cured resin layer with an unevenness of specified roughness formed on the surface of a substantially uniformly dispersed ultrafine particle composed of a metallic oxide and/or a metallic fluoride with an average primary particle diameter of not more than 100 nm, on at least one surface of a transparent polymer substrate.
    透明高分子基板の少なくとも片面に、平均一次粒子径が１００ｎｍ以下の金属酸化物及び／または金属フッ化物からなる超微粒子が、実質的に均一に分散した、表面に特定粗さの凹凸を有する硬化樹脂層の付いた高分子基板。 - 特許庁
  • To provide a data generating method, an device, and a program for generating drawing data to draw the whole general design figure data with about 1 to 4 nm accuracy in a drawing method and a drawing device for drawing an image by gradation controllable spot light in a two-dimensional arrangement.
    階調制御可能なスポット光を二次元配列状に描画する描画方法や描画装置において、一般的な設計図形データ全体を１〜４ｎｍ程度の精度で描画するための描画データを生成することができるデータ生成方法と装置とプログラムとを提供すること。 - 特許庁
  • The sol containing the crystalline cerium oxide (IV) is as follows: the particle size which is converted from the specific surface area by the gas adsorption method is 10-200 nm and the ratio of the particle size measured by the dynamic light scattering method and the particle size converted from the specific surface area by the gas adsorption method is between 2 and 6.
    ガス吸着法による比表面積から換算した粒子径が１０〜２００ｎｍであり、且つ（動的光散乱法で測定した粒子径）／（ガス吸着法による比表面積から換算した粒子径）の比が２〜６の範囲にある結晶性酸化第二セリウム粒子を含有するゾル。 - 特許庁
  • The method for manufacturing the composite metal powder is characterized by mixing refractory and hard compound particles like ceramics, of which the surface is covered with a vapor-depositing C film of 100 nm or thicker, with a molten metal, and atomizing it to uniformly disperse the hard compound particles into the metal matrix of the powder.
    表面に１００ｎｍ以上のＣ膜を蒸着させたセラミックス等の高融点、硬質化合物粒子を、溶融金属に混合後アトマイズすることにより硬質化合物粒子が均一にマトリックス中に分散してなることを特徴とする複合金属粉末の製造方法。 - 特許庁
  • The optical film is obtained by melt extruding the amorphous thermoplastic resin and has <100 μm thickness and the film has ≤3 nm retardation R (0) in the normal direction, within ±10° deviation of the optical axis in the longitudinal direction and the thickness accuracy satisfying the following (a) or (b).
    非晶性熱可塑性樹脂を用いて溶融押出された厚みが１００μｍ未満の光学フィルムであって、法線方向のレターデーション値Ｒ（０）が３ｎｍ以下、かつ長さ方向に対する光軸ずれが±１０°以下であり、厚み精度が以下の（ａ）または（ｂ）であることを特徴とする光学フィルム。 - 特許庁
  • In an FBG section 40 that performs high cutoff filtering against optical input in excess of 40 dB in a wide band exceeding 1 nm, a photo-sensitive material having a phtosensitivity against ultraviolet rays is added in the region of a cladding 42 so as to form the chirped Bragg grating same as that in the region of the core 41.
    光入力に対し、１ｎｍを越える広帯域で４０ｄＢを越える高遮断のフィルタリングを行うＦＢＧ部４０であって、クラッド４２の領域に、紫外線に対して感光性を有する感光性材料を添付し、コア４１の領域と同じチャープトブラッググレーティングを形成している。 - 特許庁
  • A plurality of laser radars 2 which calculate a distance up to an object existing in an earth-surface region, and a plurality of ultraviolet image sensors 3 which detect short-wavelength light contained in a range at a wavelength of 190 to 500 nm so as to image the earth-surface region, are installed on both sides of the runway 1.
    地表領域に存在する対象物までの距離を算出するレーザ・レーダ２、及び、波長が１９０ｎｍ乃至５００ｎｍの範囲に含まれる光である短波長光を検出して地表領域を撮像する紫外画像センサ３を、滑走路１の両脇に複数設置する。 - 特許庁
  • A desired harmonic wave (for example, a fourfold wave) is emitted by wavelength-converting a basic wave (1,064 nm wavelength) oscillated by the laser oscillator 5a, by the necessary number of times with a wavelength-converting element 5b, and the object 4 is irradiated with the harmonic wave on its front surface to be machined.
    レーザ発振器５ａから発振された基本波（波長１０６４ｎｍ）を波長変換素子５ｂで必要回数だけ波長変換して所望の高調波（例えば、４倍波）を出射させ、この高調波を板状の被加工物４の表面に照射して加工する。 - 特許庁
  • In the organic electroluminescent element, a compound expressed by a formula (1) is contained in an emission layer or a layer adjacent to the emission layer, a phosphorescent radiation compound is contained in the emission layer, and a 0-0 band in the phosphorescence of the phosphorescent radiation compound is 480 nm or smaller.
    下記一般式（１）で表される化合物を、発光層または該発光層の隣接層に含み、リン光発光性化合物を前記発光層に含み、且つ、該リン光発光性化合物のリン光の０−０バンドが４８０ｎｍ以下であることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。 - 特許庁
  • It is possible to obtain excellent bonding strength to the Al electrode by performing a bonding process in atmospheric air by using a bonding material including metal oxide particles with an average diameter of 1 nm to 50 μm, an acetic acid- or a formic acid-based compound, and a reducing agent made of an organic material.
    平均粒径が１ｎｍ〜５０μｍの金属酸化物粒子と酢酸系化合物、またはギ酸系化合物、及び有機物からなる還元剤とを含む接合材料により、大気雰囲気中において接合を行うことでＡｌ電極に対して優れた接合強度が得ることができる。 - 特許庁
  • In the laminated polyester film for optics, a coating layer, which contains an ultraviolet absorbing compound and has an absolute reflection factor of 4.0% or above for the wavelength of light being anyone within 400-800 nm, is formed on at least one side of a polyester film stretched at least in the uniaxial direction.
    少なくとも一軸方向に延伸されたポリエステルフィルムの少なくとも片面に、紫外線吸収性化合物を含有し、波長４００〜８００ｎｍの任意の波長に対する絶対反射率が４．０％以上である塗布層を有することを特徴とする光学用積層ポリエステルフィルム。 - 特許庁
  • The production method of the silica-coated aluminum pigment comprises a step of dispersing aluminum particles in a solution containing a hydrolyzing catalyst, water and a hydrophilic organic solvent, and a step of adding a solution containing an Si-containing compound to the dispersion at a maximum silica film deposition rate of ≤3 nm/hr.
    アルミニウム粒子を加水分解触媒、水、親水性有機溶剤を含む溶液に分散させる工程、該分散液にＳｉ含有化合物を含む溶液をシリカ膜の最大堆積速度が３ｎｍ／ｈｒ以下にして添加する工程、を含むシリカ被覆アルミニウム顔料の製造方法。 - 特許庁
  • The transparent polymer film is characterized in that: the wavelength dispersion of the in-plane retardation shows reverse wavelength dispersion; the thickness-direction retardation shows normal wavelength dispersion; and the film includes an in-plane slow phase axis at a wavelength of 500 nm in a direction perpendicular to the in-plane orientation direction of the polymer.
    、面内レタデーション値の波長分散が逆波長分散であり、厚さ方向レタデーションが順波長分散であり、ポリマーの面内配向方向と直交する方向に波長５５０ｎｍにおける面内遅相軸を有することを特徴とする透明ポリマーフィルム。 - 特許庁
  • To form wiring between elements by using carbon nanotube, which, regardless of an ultra fine scale diameter of the order of nanometers (nm), has a structure where its length is not limited and has a very high mechanical strength, and which exhibits either metal or semiconductor electrical conductivity in response to structures and/or diameters.
    直径がナノメータ（ｎｍ）の極微細スケールでありながら、長さは制限を受けない構造を持ち、非常に高い機械的強度を有し、その電気伝導特性は構造や直径に応じて金属的にも半導体的にもなるカーボンナノチューブを用いて微細な素子間の配線を形成する。 - 特許庁
  • The phosphor film is a phosphor film wherein a zinc sulfide compound is doped with additive elements, and the concentration of the additive elements is 0.2-5 mol% based on the Zn, and the film thickness of the phosphor film is 10 nm to 2 μm.
    本発明による蛍光体膜は、硫化亜鉛化合物中に添加元素を含んでなる蛍光体膜であって、該添加元素の濃度は、Ｚｎに対して、０．２モル％以上５モル％以下であり、当該蛍光体膜の膜厚は、１０ｎｍ以上２μｍ以下であることを特徴とする。 - 特許庁
  • The photocatalytic filter medium uses the photocatalytic structure having as the carrier silica sand or the like which is excellent in optical transmissivity in the wavelength range of 240-420 nm of various optical sources to be used for photocatalytic excitation, thus effective use of optical energy is made possible and gas treatment capacity is improved.
    この光触媒ロ材は、光触媒励起に用いられる種々の光源の波長領域である240〜420nmでの光透過性にすぐれたけい砂等を担体とする光触媒構造体を使用しているため、光エネルギーの有効利用が可能となり、ガス処理性能などが向上する。 - 特許庁
  • The high refractive index coating composition contains (1) metal oxide superfine particles with an average particle diameter of 1200 nm and a refractive index 1.60 or more, (2) a binder component possessing a hydrogen bond-forming group, (3) a metal compound which can form cross-linking between molecules of the binder component and (4) a solvent.
    高屈折率コーティング組成物は、（１）平均粒子径が１〜２００ｎｍで屈折率が１．６０以上の金属酸化物超微粒子、（２）水素結合形成基を有するバインダー成分、（３）前記バインダー成分の分子間に架橋結合を形成し得る金属化合物、及び（４）溶剤を含有する。 - 特許庁
  • Further, the ordered-structure body is made to efficiently cause Bragg reflection of the light in the wavelength range from 600 nm to 1 mm also from a face (200) by making the structure to plate-like crystals with the face (111) developed with priority and controlling the thickness in the direction vertical to the face (111).
    さらに、規則配列構造体を、（１１１）面が優先的に発達した板状結晶とし、（１１１）面と垂直方向の厚さを制御する事により（２００）面からも、６００ｎｍから１ｍｍの間の任意の波長範囲の光を効率良くブラッグ反射させる事ができる。 - 特許庁
  • This method comprises an Au thin film formation step for forming an Au thin film of 20 nm or less in thickness on a bonding surface of one silicon member and a heating step for making a bonding surface of the other silicon member and the Au thin film come in contact with each other and heating at a prescribed temperature.
    一方のシリコン部材の接合面に膜厚２０ｎｍ以下のＡｕ薄膜を形成するＡｕ薄膜形成工程と、他方のシリコン部材の接合面と該Ａｕ薄膜とを当接させて所定温度で加熱する加熱工程とを有することを特徴とする。 - 特許庁
  • As for the release film obtained by forming a silicone release layer on a co-extruded biaxially oriented laminated polyester film, the haze value is ≤5%, the orientation angle is ≤10°, the retardation R is ≥1,400 nm, and the dark-field light transmittance under the cross-Nicol method is ≤2.5%.
    共押出し二軸配向積層ポリエステルフィルムにシリコーン離型層を設けた離型フイルムであって、ヘーズ値が５％以下、配向角が１０°以下、リターデーションＲが１４００ｎｍ以上、かつクロスニコル法における暗視野光線透過率が２．５％以下である離型フィルム。 - 特許庁
  • This abrasive composition is prepared by mixing primary particles of colloidal silica, oxalic acid, hydrogen peroxide, benzotriazole, quinaldinic acid, ethylenediamine, and histidine having the mean particle diameter of 30 nm in ion-exchanged water filtrated through a 0.5-μm cartridge filter as abrasive powder and uniformly scattering the particles in the water by agitating the water with a high-speed homogenizer.
    研磨材として一次粒子の平均粒径が３０ｎｍであるコロイダルシリカ、シュウ酸、過酸化水素、ベンゾトリアゾール、キナルジン酸、エチエンジアミン、ヒスチジンを０．５μｍのカートリッジフィルターで濾過されたイオン交換水に混合し、高速ホモジナイザーで攪拌して均一に分散させて研磨用組成物を得た。 - 特許庁
  • The aromatic polyamide film has a light transmittance of ≥80% for all the lights of wavelengths of 450-700 nm, a thickness of 1-200 μm, and an amount of ≤2 wt%, based on 100 wt% of the film, as the amount of the outgassing in the range of 130-330°C.
    波長４５０ｎｍ〜７００ｎｍの全ての光に対する光線透過率が８０%以上、厚みが１μｍ〜２００μｍであり、１３０℃〜３３０℃の範囲におけるアウトガス量がフィルム１００重量％に対して２重量％以下である芳香族ポリアミドフィルムとする。 - 特許庁
  • The molten kneading is carried out under the conditions that the coating resin low in the decomposition temperature decomposes, thereby a content percentage of the coating resin in the transparent resin composition becomes 10 mass% or less, and an average particle diameter of a domain consisting of the inorganic filler in a state coated with the coating resin becomes 800 nm or less.
    溶融混練は、分解温度の低い被覆樹脂が分解することで、透明樹脂組成物中の被覆樹脂の含有率が１０質量％以下となり且つ被覆樹脂に被覆された状態の無機フィラーからなるドメインの平均粒径が８００ｎｍ以下となるような条件で行う。 - 特許庁
  • The paste composition for forming transparent conductive films contains: (1) a metal oxide ultrafine particle that is a fine particle containing a metal oxide and an organic constituent and has an average particle diameter of 1-100 nm; (2) an organic solvent; and (3) resin in which a thermal decomposition reaction is an endothermic one.
    １）金属酸化物及び有機成分を含有する微粒子であって、その平均粒子径が１〜１００ｎｍである金属酸化物超微粒子、２）有機溶媒、並びに３）熱分解反応が吸熱反応である樹脂を含有することを特徴とする、透明導電膜形成用ペースト組成物。 - 特許庁
  • This optical glass blank used when the optical elements are manufactured by press forming is constituted by forming a release layer which is a thin film consisting mainly of carbon and fluorine and is F/C=0.4 to 2 in the constitution ratio of these elements and 1.5 to 10 nm in film thickness on the surface of the glass blank.
    プレス成形により光学素子を製造する際に用いられる光学ガラスブランクにおいて、主として炭素とフッ素よりなる薄膜で、その元素の構成比がＦ／Ｃ＝０．４〜２であり、かつ、膜厚が１．５〜１０ｎｍである離型層が、ガラスブランク表面に形成されていることを特徴とする。 - 特許庁
  • Preferably, the dislocation defect density of a second clad layer 5 composed of an n-type gallium nitride series semiconductor forming a part of an underlaying layer of the active layer 6 is 10^9 to 10^11/cm^2, and preferably, the gap of a dislocation defect in the second clad layer 5 is 120 to 170 nm.
    活性層６の下地層の一部をなすｎ型窒化ガリウム系半導体からなる第２クラッド層５の転位欠陥密度が１０^９〜１０^１１／ｃｍ^２であることが好ましく、第２クラッド層５における転位欠陥の間隔が１２０〜１７０ｎｍであることが好ましい。 - 特許庁
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