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導電性支持体と複数の感光層を有する電子写真感光体において、該感光層の最表面層が微粒子を含有しており、かつ最表面層の膜厚１μｍ当たりの吸光度が、１０００ｎｍの波長に対して０．０５以上０．２５以下であることを特徴とする電子写真感光体。 - 特許庁 - The colloidal dispersion liquid includes: an inorganic component including metal particles with an average particle diameter of 0.7-200 nm; an organic substance including at least an amine, and coating at least a portion of surfaces of the metal particles; a dispersion medium including a photo-curable organic compound with a (meth)acryloyl group; and a carboxylic acid.
平均粒径が０．７〜２００ｎｍの金属粒子を含む無機成分と、前記金属粒子の表面の少なくとも一部を覆う少なくともアミンを含む有機物と、(メタ）アクリロイル基を有する光硬化性有機化合物を含む分散媒およびカルボン酸を含むことを特徴とするコロイド分散液。 - 特許庁 - This system computes an initial introduction and installation cost required for installing movable platform fences, examines an advertisement publication rate (an advertisement income) and computes the number-of-month (NM) required for recovering the reduced value (BG) by the advertisement publication rate and presents the results of the computation and examination.
このシステムでは、可動式ホーム柵を設置するために必要な初期導入設置費用の算出、広告掲載費（広告収入）の検討、減額値（ＢＧ）を広告掲載費で回収する回収費用月数（ＮＭ）の算出等を行い、これらの算出結果、検討結果を提示できるようにしている。 - 特許庁 - To obtain a translucent yttrium oxide sintered compact, wherein linear transmittance in visible wavelength ranging from 400 nm to 6 μm excluding a specific absorption wavelength is ≥70% when the thickness is 1 mm without controlling aluminum content to 5-100 wt.ppm expressed in terms of metal, silicon content to ≤10 wt.ppm expressed in terms of metal.
この発明は、アルミニウム含有量を金属換算で５〜１００wt ppm、珪素含有量を金属換算で１０wt ppm以下としなくとも、波長５００ｎｍ〜６μｍにおける、特異吸収波長以外での、直線透過率が１mmで７０％以上とすることができる透光性酸化イットリウム焼結体を得ようとするものである。 - 特許庁 - The method for manufacturing the substrate for the image display apparatus includes: a process for irradiating a surface of the layer containing the polymerized compound and/or the polymer compound obtained by the polymerization of the polymerized compound with a light having a wavelength of 250 nm or less; and a process for providing another layer so as to contact the surface.
重合性化合物および／または該重合性化合物の重合により得られる高分子化合物を含む層の表面を２５０ｎｍ以下の波長の光で照射する工程；及び他の層を上記表面に接するように設ける工程をこの順に含む、画像表示装置用基板の製造方法。 - 特許庁 - Further, on the above film having a spectral absorption region with an absorbance of 0.3 or more in a spectral wavelength region of 300-1,200 nm, a layer including a hydrophobic polymer compound having a functional group, which changes its hydrophobic nature to its hydrophilic nature by heating, on its side chain, is provided.
また、３００〜１２００ｎｍの分光波長領域中に吸光度が０．３以上の分光吸収領域を有する上記の皮膜の上に、加熱により疎水性から親水性に変化する官能基を側鎖に有する疎水性高分子化合物を含有する層を設けた平版印刷版用原板。 - 特許庁 - The adhesive composition for connection in the circuit includes (a) radically polymerizable compounds, (b) a hardener generating radicals by irradiation of light having wave lengths 150 to 750 nm, or heating at 80 to 200°C or by both light irradiation and heating and (c) a compound having N atom and a carbon - carbon double bond in the molecule.
(ａ)ラジカル重合性化合物、（ｂ）１５０〜７５０ｎｍの光照射、または８０〜２００℃の加熱、または前記光照射と前記加熱を併用することでラジカルを発生する硬化剤、(ｃ)分子内に窒素原子と炭素—炭素二重結合を含有する化合物からなる回路接続用接着剤組成物。 - 特許庁 - The semiconductor light emitting device is equipped with a semiconductor light emitting element 2 having emission spectrum 400 nm or less, an ultraviolet absorption layer 6 which covers at least the light extraction surface of the semiconductor light emitting device 2, and a sealing resin 7 which seals at least the semiconductor light emitting device 2 covered by the ultraviolet absorption layer 6.
４００ｎｍ以下の発光スペクトルを有する半導体発光素子２と、少なくとも半導体発光素子２の光取出し面を被覆する紫外線吸収層６と、少なくとも紫外線吸収層６で被覆された半導体発光素子２を封止する封止樹脂７とを具備する。 - 特許庁 - After a silicon oxidation film 23 of a thickness approximately 10-50 nm is formed on the surface of the SiOC constituting an insulation film 22 for wiring formation, the increase of the dielectric constant of the SiOC film is suppressed by forming a photoresist film 24 for forming a wiring groove on the insulation film on the silicon oxidation film 23.
配線形成用の絶縁膜２２を構成するＳｉＯＣ膜の表面に１０〜５０ｎｍ程度の厚さのシリコン酸化膜２３を形成した後、絶縁膜２２に配線溝を形成するためのフォトレジスト膜２４をシリコン酸化膜２３上に形成することによって、ＳｉＯＣ膜の比誘電率の上昇を抑える。 - 特許庁 - The mold is constituted by a substrate formed of a first material and an alignment mark provided on the substrate and formed of a second material different from the first material, and the refractive index of the second material with respect to visible light of wavelength of 633 nm is not less than 1.7.
モールドであって、 第１の材料を含み構成される基板と、 該基板上に設けられており、且つ該第１の材料とは異なる第２の材料を含み構成されているアライメントマークと、を備え、 波長６３３ｎｍの可視光に対する前記第２の材料の屈折率は、１．７以上である構成とする。 - 特許庁 - The electrode for spot welding of the Sn-based plated sheet steel, includes a metallic layer constituted of Ni or an Ni alloy having a thickness of 1-1,000 μm in the tip end of the electrode tip thereof, wherein a surface roughness Ra of the surface of the metallic layer is 800 nm or less.
Ｓｎ系めっき鋼板のスポット溶接用電極であって、厚さ１μｍ以上１０００μｍ以下のＮｉ又はＮｉ合金からなる金属層を電極チップ先端に有しており、前記金属層の表面の面粗度Ｒａが８００ｎｍ以下であることを特徴とする、スポット溶接用電極である。 - 特許庁 - In the planographic printing plate obtained by sequentially coating the top of a support with at least an undercoat layer, a silver halide emulsion layer containing a sensitizing dye which imparts maximum spectral sensitivity in a wavelength region of ≥600 nm and a physical developing nucleus layer, an aliphatic carboxylic acid having at least one hydroxyl group or an alkali metallic salt thereof is contained.
支持体上に少なくとも下塗り層、600nm以上の波長域に極大分光感度を付与する増感色素を含有するハロゲン化銀乳剤層及び物理現像核層を順次塗布してなる平版印刷版おいて、少なくとも１つの水酸基を有する脂肪族カルボン酸またはそのアルカリ金属塩を含有する。 - 特許庁 - When inverse phase AC voltage is applied to a first and a second titanium targets 12_1 and 12_2 and the flow rate of an oxygen gas is controlled so that the intensity of emitted light (500 nm) from titanium becomes 15-20%, the titanium oxide film having the photocatalytic capacity can be formed at a high speed without heating the titanium targets.
第１、第２のチタンターゲット１２_1、１２_2に逆位相の交流電圧を印加し、チタンの発光光(５００ｎｍ)の強度が１５％以上２０％以下の範囲になるように酸素ガスの流量を制御すると、加熱しなくても光触媒性能を有する酸化チタン膜を高速成膜することができる。 - 特許庁 - Alternatively, the tunnel magnetoresistance element comprises a magnetite electrode and a barrier layer in which a magnesium oxide layer and an aluminum oxide amorphous layer of ≤2 nm in film thickness are formed at 60°C-130°C film forming temperature on the magnetite electrode and then annealed at a temperature higher by 0-60°C than the film forming temperature.
または、マグネタイト電極と、該マグネタイト電極上に成膜温度６０℃〜１３０℃で酸化マグネシウム層と２ｎｍ以下の厚さの酸化アルミニウム非晶質層を成膜し、前記成膜温度より０〜６０℃高い温度でアニールされた障壁層と、からなることを特徴とするトンネル磁気抵抗素子である。 - 特許庁 - This communication network system is provided with a gateway device carrying out a relay of data transmitted and received among a plurality of networks, causes terminal apparatuses and the gateway device to transmit NM frames showing sleep possibilities on a network basis, and makes at least the terminal apparatuses sleep when all of the terminal apparatuses and the gateway device come into sleeping states.
複数のネットワーク間で授受されるデータの中継を行うゲートウェイ装置を備え、ネットワークごとに、端末機器及びゲートウェイ装置からスリープ可否を示すＮＭフレームを送信させると共に、端末機器及びゲートウェイ装置のすべてがスリープ可状態になった場合に少なくとも端末機器をスリープさせる。 - 特許庁 - To provide a light absorbing dyestuff which has satisfactory light absorbing properties at a wavelength of about 800-1,100 nm and in which the absorption power thereof is not largely lowered with time when the dyestuff is used both individually and in combination with another dyestuff; and a light absorbing material comprising the light absorbing dyestuff.
ほぼ８００〜１１００ｎｍの波長における光吸収特性が良好であって、単独で用いられても、あるいは他の色素と混合して用いられてもその吸収能が経時的に大きく低下することのない光吸収色素およびそれを用いた光吸収材を提供すること。 - 特許庁 - A photoconductive film for forming a non-uniform electric field is obtained by changing conductivity upon the reception of the irradiation with induced light and CdS having an absorbing end in the vicinity of 520 nm is utilized while visible light of a wavelength band centering around a red color not overlapped with the absorption spectrum of CdS is used as illumination light for observation.
誘起光の照射を受けて導電率を変えることで不均一交流電場を形成する光導電膜として、５２０ｎｍ付近に吸収端があるＣｄＳを利用する一方、観察用の照明光はＣｄＳの吸収スペクトルと重ならない赤色を中心とする波長帯域の可視光を用いる。 - 特許庁 - In the optical element 1 including an aspherical optical surface formed by the press molding method, a ray effective portion 2b of the optical surface has, formed thereon, an antireflection structure 4 including a minute uneven structure, which contains a component different from that of a base of the optical element and has an average pitch of 400 nm or less.
プレス成形法によって形成されており、非球面の光学面を有する光学素子１であって、該光学面の光線有効部２ｂには、該光学素子の基材とは異なる成分を含み平均ピッチが４００ｎｍ以下の微細凹凸構造を有する反射防止構造体４が形成されている。 - 特許庁 - A multilayer membrane 3 laminated on a glass substrate surface 21 of a half mirror 1 is a nine-layer structure where the material quality, refractive index and optical thickness of each of multilayer membranes are suitably set and the light transmission/reflection characteristics due to (s) and (p) polarized components thereof are equal for both the wavelengths of 650 and 780 nm.
ハーフミラー１のガラス基板表面２１に積層された多層薄膜３は、各多層薄膜の材質、屈折率および光学的膜厚を適切に設定した９層構造であり、そのｓ、ｐ偏光成分に対する光透過・反射特性は、６５０、７８０ｎｍ波長のいずれについても同一である。 - 特許庁 - The composite material has the fingerprint adhesion-resistant coating film, which contains silicon compound and hydrophilic metal oxide fine particles having the average particle size of 1-100 nm and is formed on the surface of a substrate, wherein the glossiness of the coating film is defined as ≤8 and the color difference is defined as <4.6.
基板の表面に珪素化合物と平均粒子径１〜１００ｎｍの親水性金属酸化物微粒子を含む耐指紋付着性コーティング被膜が形成された複合材であって、前記コーティング被膜の光沢度が８以下、色差が４．６未満とすることで、耐指紋付着性コーティング被膜が形成された複合材。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing an electronic device structure (such as a high performance MOS semiconductor device) having excellent electric characteristics using an SiO_2 film and an SiON film having extremely thin (such as 2.5 nm or less) film thickness as an insulating film, and using polysilicon, amorphous silicon, and SiGe as an electrode.
極めて薄い（例えば２．５ｎｍ以下）膜厚を有する絶縁膜としてＳｉＯ_２膜およびＳｉＯＮ膜を用い、電極としてポリシリコン、アモルファスシリコン、ＳｉＧｅを用いた良好な電気特性を有する電子デバイス（例えば高性能ＭＯＳ型半導体装置）構造の製造方法を提供する。 - 特許庁 - MS films 3 each having thickness of 30 to 300 nm are sequentially formed, comprising an HC layer 41 mainly composed of an ultraviolet-curing resin provided on one principal plane of a base film 40, a first refraction layer (middle refraction layer) 42 on the HC layer 41, a second refraction layer (lower refraction layer) 43, and a transparent conductive layer 13.
ベースフィルム４０の一方の主面に紫外線硬化樹脂を主成分とするＨＣ層４１を配設し、その上に第一屈折層（中屈折層）４２、第二屈折層（低屈折層）４３、透明導電膜１３からなる、厚さ３０ｎｍ以上３００ｎｍ以下のＭＳ膜３を順次形成する。 - 特許庁 - The level of integration of a semiconductor optoelectronic device is improved by the semiconductor cap layer, such as an InGaAs cap layer having a thickness of ≤200 nm together with the pure metal layer and, in addition, fewer impurities are introduced in the formation of an ohmic contact than with prior art alloy contacts.
本発明では、厚さ200nm以下のInGaAs保護膜層のような半導体保護膜層を厚さ10nm以下の極薄の純金属層と共に用いて、これにより半導体光電子デバイスの集積レベルを向上させると共に、オーミック接触の形成において従来法の合金接触よりも少量の不純物が導入されるに過ぎない。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a red light emitting phosphor practically usable for a light-emitting diode capable of efficiently absorbing ultraviolet rays at an excitation wavelength of about 370 nm and emitting red light at high efficiency and in order to take white light or arbitrary medium color light out of a single light-emitting diode.
発光ダイオードの励起波長３７０ｎｍ前後において、効率的に紫外線を吸収して赤色発光を効率よく放射でき、１個の発光ダイオードから白色ないし任意の中間色を取り出すために、この発光ダイオードに実用的に使用できる赤色発光蛍光体の製造方法を提供する。 - 特許庁 - The coloring composition contains a dipyrromethene-based complex compound in which a dipyrromethene-based compound, represented by general formula (I), is coordinated to a boron atom, a boron compound, a metal atom or a metal compound, or a tautomer thereof, and an infrared absorbing compound having an absorption maximum at a wavelength of ≥700 nm.
一般式（Ｉ）で表されるジピロメテン系化合物が、ホウ素原子、ホウ素化合物、金属原子、又は金属化合物に配位したジピロメテン系錯体化合物又はその互変異性体と、７００ｎｍ以上の波長に吸収極大を有する赤外線吸収性化合物と、を含有する着色組成物。 - 特許庁 - The light emitting diode has an SiC layer formed of a 6H type SiC single-crystal substrate doped with B and N, and a nitride semiconductor layer of ≤408 nm in light emission wavelength, and the SiC layer is excited with primary light from the nitride semiconductor layer to emit secondary light in the visible range.
発光ダイオードにおいて、Ｂ及びＮがドーピングされた６Ｈ型ＳｉＣ単結晶蛍光体からなるＳｉＣ層と、発光波長が４０８ｎｍ以下である窒化物半導体層と、を備え、前記ＳｉＣ層は、前記窒化物半導体層からの１次光により励起され、可視領域の２次光を発するようにした。 - 特許庁 - As for zoom lenses 1 and 2, all the plastic lenses each have at lest one aspheric surface, and a glass 1st lens L1 of a 1st lens group GR1 is colored so as to ≤45% internal transmissivity to light of 370 nm in wavelength when 5 mm thick, and also made ≥1.3 mm thick.
ズームレンズ１、２で、全てのプラスチックレンズが少なくとも１面の非球面を有するようにし、第１レンズ群ＧＲ１のガラス製の第１レンズＬ１に３７０ｎｍの波長の光に対して、厚さ５ｍｍの時に内部透過率が４５％以下となるよう着色を施し、且つ、厚みを１．３ｍｍ以上とした。 - 特許庁 - The method of detecting the electrophotographic photoreceptor prepared by laminating the undercoating layer containing inorganic particles, and a photosensitive layer containing a charge generation agent, a charge transporting agent and a binder resin is characterized in that reflection absorbance of the undercoating layer at a wavelength of 400 nm or less is measured.
無機粒子を含有する下引き層と、電荷発生剤、電荷輸送剤、およびバインダー樹脂を含有する感光層とが順次積層した電子写真感光体の検査方法において、４００ｎｍ以下の波長での、前記下引き層の反射吸光度を測定することを特徴とする電子写真感光体の検査方法。 - 特許庁 - The processing method for patterning the thin film subjects a piezoelectric film composed of the thickness several μm formed on the substrate to microfabrication by irradiating the piezoelectric film with a laser of an oscillation wavelength near 500 nm and a pulse width of pico second or below at ≥20 GW/cm^2 per unit area from the piezoelectric film side.
基板上に形成された厚さ数μｍからなる圧電素子膜に対し、前記圧電素子膜側から発振波長が５００ｎｍ近傍でパルス幅がピコ秒以下のレーザを単位面積当り２０ＧＷ／ｃｍ^２以上で照射を行い前記圧電素子膜に微細加工を施すことで解決できる。 - 特許庁 - A colorant, a dispersant, a dispersion, and an ink are provided which contain cross-linked polymer nano-particles(PNPs) having a mean diameter in the range of 1-50 nm and chromophores, the chromophores including a shape bonded to the PNPs and the PNPs including as polymerized units at least one multi-ethylenically unsaturated monomer.
１〜５０ナノメートルの範囲の平均直径を有する架橋重合体ナノ粒子（ＰＮＰ）と発色団を含む着色剤であり、発色団はＰＮＰに結合した形態を含み、ＰＮＰは重合単位として少なくとも一つの多エチレン性不飽和モノマーを含む着色剤、分散剤、ディスパーション及びインキを用いる。 - 特許庁 - Especially, the raw material of the silanol condensate is at least one kind of silane coupling agents selected from vinyl-based, epoxy-based, amino-based and isocyanate-based silane coupling agents, or at least one kind of tetraalkoxysilanes selected from tetraethoxysilane and tetramethoxysilane, and the average fiber diameter of the vegetable fiber is 10 nm to 1 μm.
特に、シラノール縮合物の原材料は、ビニル系、エポキシ系、アミノ系、イソシアネート系の少なくとも１種から選ばれたシランカップリング剤またはテトラエトキシシラン、テトラメトキシシランの少なくとも１種から選ばれたテトラアルコキシシランで、植物繊維の平均繊維径は、１０ｎｍ〜１μｍで、樹脂は、熱可塑性樹脂である。 - 特許庁 - A charge generating layer 12 is formed on an electrically conductive substrate 11 using a specified charge generating material having absorption to a light source of 380-500 nm and a charge transfer layer 13 comprising a charge transfer material and a resin binder is disposed on the layer 12 to obtain the objective laminate type electrophotographic photoreceptor 10.
導電性支持体１１上に、３８０ｎｍから５００ｎｍの光源に対して吸収を持つ特定の電荷発生物質にて電荷発生層１２を形成し、電荷輸送物質とバインダ樹脂からなる電荷輸送層１３を積層することをもって積層型電子写真用感光体１０とする。 - 特許庁 - The core shell type silver-tin composite particle 1 has the average particle diameter of 1 to 300 nm, and has a structure where a tin particulate 2 essentially consisting of tin and also formed into the nucleus is covered with an outer shell layer 3 as a film with fine pores composed of at least one kind selected from silver, a silver-tin alloy, silver and a silver-tin alloy.
本発明のコアシェル型銀錫複合粒子１は、平均粒子径が１ｎｍ以上かつ３００ｎｍ以下であり、錫を主成分としかつ核となる錫微粒子２が、銀、銀錫合金、銀及び銀錫合金のいずれか１種からなる微細孔を有する膜である外殻層３により被覆された構造である。 - 特許庁 - The fluorescent colloidal solution comprises a fluorescent fine particle and a solvent dispersing the particle, wherein the fluorescent fine particle is a metal sulfide which is doped with an activator and has an average particle size of 1-10 nm, and the colloidal solution at a concentration of 10% gives a transmission of 50% or more for a visible ray measured by a spectrophotometer.
本発明の蛍光コロイド液は、蛍光微粒子とそれを分散させる媒体を含む蛍光コロイド液において、蛍光微粒子が、付活剤がドープされた平均粒径１〜１０ｎｍの硫化金属であり、濃度１０％のコロイド液の分光光度計による可視光の透過率が５０％以上である。 - 特許庁 - This film is the laminating polyester film used for the process paper of the high density DVD light transmission protection layer, and average roughness of a center plane (SRa(A)) of one film plane (A plane) is 20 nm or less, and average roughness of a center plane (SRa(C)) of the other film plane (C plane) is larger than SRa(A).
高密度ＤＶＤ光透過保護層の工程紙として使用されるポリエステルフィルムであって、一方のフィルム面（Ａ面）の中心面平均粗さ（ＳＲａ（Ａ））が２０ｎｍ以下であり、もう一方のフィルム面（Ｃ面）の中心面平均粗さ（ＳＲａ（Ｃ））がＳＲａ（Ａ）よりも大きいことを特徴とする積層ポリエステルフィルム。 - 特許庁 - According to preferred embodiments of the decomposing agent of the present invention, the decomposing agent contain metal finepowders having a particle size of a nanometer (nm) order, and after the metal finepowder is administered into a living body, the finepowder is taken up by cells and invade into mitochondria to eliminate superoxide anions generated in the mitochondria.
本発明の分解剤の好ましい態様では、ナノメーター（ｎｍ）オーダーの粒径の金属微粉末を含んでおり、該金属微粉末は生体内に投与された後に細胞内に取り込まれ、さらにミトコンドリア内に侵入してミトコンドリア内で生成されるスーパーオキサイドアニオン又は一酸化窒素を消失させる。 - 特許庁 - The colored composition comprises a pigment (A), resin (B), a monomer (C) having an ethylenically unsaturated double bond, and a photopolymerization initiator (D) represented by a general formula (1), wherein the colored composition is cured upon irradiation with a laser of a 405 nm wavelength.
前記課題は、顔料（Ａ）と、樹脂（Ｂ）と、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマー（Ｃ）と、及び一般式（１）で表される光重合開始剤（Ｄ）とを含有してなる着色組成物であり、波長４０５ｎｍのレーザーの照射により硬化することを特徴とする着色組成物によって解決される。 - 特許庁 - An excessive amount of the chelating agent is added to a solid waste containing heavy metals, the unreacted amount of the chelating agent is measured in its absorbance of a wavelength of 330 nm or above and the addition amount of the chelating agent necessary for insolubilizing the heavy metals in the solid waste is determined from the measured value.
重金属を含有する固体廃棄物にキレート剤を過剰量添加し、未反応のキレート剤量を３３０ｎｍ以上の波長の吸光度を測定し、該測定値から固体廃棄物中の重金属の不溶化に必要なキレート剤の添加量を決定するキレート剤の必要量決定方法である。 - 特許庁 - To provide a fullerene derivative maintaining high solubility in a polar organic solvent such as a ketone and an ester, having a low extinction coefficient because of having a low absorptivity of a light having 193 nm wavelength, and having a high refractive index, to provide a solution containing the fullerene derivative, and to provide a membrane of the fullerene derivative.
ケトンやエステル等の極性有機溶媒への高溶解性を維持するとともに、波長１９３ｎｍの光に対する吸光度が低いため消衰係数が低く、且つ屈折率が高いフラーレン誘導体、並びにそのフラーレン誘導体を含有する溶液、及びフラーレン誘導体膜を提供する。 - 特許庁 - The laser-engraving printing original plate includes a laser-engraving layer consisted of at least one photosensitive resin hardener, the laser-engraving layer including dye whose average particle diameter is 5 nm to 5 μm, the color tone of the outermost layer of the laser-engraving layer is blue.
少なくとも１層の感光性樹脂硬化物からなるレーザー彫刻層を有するレーザー彫刻印刷原版であって、該レーザー彫刻層が顔料を含有し、該顔料の平均粒子径が５ｎｍ以上５μｍ以下であって、前記レーザー彫刻層の最外層の色調が青色であるレーザー彫刻印刷原版。 - 特許庁 - The pattern forming material has a support and at least a photosensitive layer on the support, wherein the photosensitive layer contains a binder, a polymerizable compound, a photopolymerization initiator and a sensitizer, and the sensitizer contains at least two sensitizers each having the absorption maximum at a wavelength of 340-500 nm.
支持体と、該支持体上に少なくとも感光層を有してなり、該感光層が、バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、及び増感剤を含んでなり、該増感剤は、極大吸収波長が３４０〜５００ｎｍである増感剤を少なくとも２種含むことを特徴とするパターン形成材料である。 - 特許庁 - A two-terminal resistance switch element has: two molecule-containing carbon nanotubes arranged with a nanoscale gap width; the gap width is in the range of 0.1-20 nm; the molecules are fullerene molecules; and the semiconductor device is composed by incorporating the two-terminal resistance switch element thereinto.
２個の分子内包型カーボンナノチューブをナノスケールの間隙幅をもって配置したことを特徴とし、間隙幅は、０．１ｎｍ〜２０ｎｍの範囲であることを特徴とし、該分子は、フラーレンであることを特徴とした、２端子抵抗スイッチ素子及び２端子抵抗スイッチ素子を組み込んだ半導体デバイスである。 - 特許庁 - This ultraviolet screening agent is composed by coating the surface of cerium oxide ultrafine particles, cerium-containing compound oxide ultrafine particles or a mixture thereof with one or more kinds of amorphous or crystalline inorganic compounds so as to provide 1-500 nm average primary particle diameter of the ultraviolet screening agent.
紫外線遮蔽剤が酸化セリウム超微粒子、セリウム含有複合酸化物超微粒子、又はそれらの混合物の表面を、１種または２種以上の不定形または結晶性の無機化合物で被覆し、かつ上記紫外線遮蔽剤の平均１次粒子径が１ｎｍ〜５００ｎｍであるように構成する。 - 特許庁 - An image forming recording layer containing thermoplastic polymer particles fusion bonded on the substrate by heat energy, a compound generating the chemical reaction under the presence of a compound absorbing light energy of wavelength longer than 500 nm and an infrared ray absorbent is formed on an aqueous substrate.
親水性支持体上に、熱エネルギーにより融着する熱可塑性ポリマー粒子、５００ｎｍより長波長の光エネルギーにを吸収する化合物の存在下に化学反応を誘起する化合物及び赤外光吸収剤を含有する画像記録層が形成されている平版印刷版材料。 - 特許庁 - The semiconductor thin film contains at least silicon and hydrogen and has the ratio of scattering peak intensity in TA mode to scattering peak intensity in TO mode obtained by Raman scattering spectrum not larger than 0.35 wherein crystal grains having maximum grain size in the range of 1-6 nm are scattered.
少なくともシリコンおよび水素を含有し、ラマン散乱スペクトルにより得られるＴＯモードの散乱ピーク強度に対するＴＡモードの散乱ピーク強度の比が0.35以下であり、かつ最大粒径が１ｎｍ超６ｎｍ未満の結晶粒が散在分布してなることを特徴とする半導体薄膜とする。 - 特許庁 - To provide a surface modification method which can be suitably used for improving the affinity with liquids especially aqueous liquids and for keeping the modification effect to hydrophilicity for a long term, without requiring complex post processing such as radiation crosslinking, or damaging the porousness of a porous fluororesin film having <100 nm micropores.
放射線架橋などの煩雑な後処理をすることなく、また、１００ｎｍ未満の微細孔の多孔質フッ素樹脂膜の多孔性を損なうことなく、液体、特に水性液体とのなじみを改善し、しかも親水性への改質効果を、長期にわたって維持できる表面改質方法を提供する。 - 特許庁 - The bifunctional catalyst for dealkylating ethylbenzene and isomerizing xylene consists of a composition obtained by blending MFI-type zeolite with an inorganic oxide, is the catalyst molding having a group of pores each having 4-20 nm pore diameter and ≥0.45 mL/g pore volume and contains an alkaline earth metal.
ＭＦＩ型ゼオライトと無機酸化物を配合してなる組成物で、細孔径４〜２０ｎｍの細孔群をもち、細孔容積が０．４５ｍＬ／ｇ以上からなる成型体であって、アルカリ土類金属を含有することを特徴とする、エチルベンゼン脱アルキル化及びキシレン異性化機能を有する二元機能触媒。 - 特許庁 - Also, the composition containing the carbon nanotubes is a carbon nanotube dispersion, which contains a dispersion medium and carbon nanotubes having the average length of 0.4-5,000 nm calculated from values measured by SEM image analysis and the coefficient of variation (CV value) of the average length of at most 40%.
また、本発明に係るカーボンナノチューブを含有する組成物は、ＳＥＭ画像解析による測定値から算出される平均長径が０．４〜５０００ｎｍであり、平均長径の変動係数（ＣＶ値）が４０％以下であるカーボンナノチューブと、分散媒体を含むカーボンナノチューブ分散体であることを特徴とする。 - 特許庁 - To provide a polishing solution for copper-based metals capable of achieving a practical working speed 200 nm/min even though slurry concentration is relatively low and presenting high gloss and high smoothness without surface defects in surface characteristics.
半導体デバイス上に施したＣｕ及びＣｕ合金を有する面を研磨するにあたり、スラリー濃度が比較的低濃度にも係わらず、実用的な加工速度２００ｎｍ／ｍｉｎが達成でき、しかも、表面特性は、表面欠陥のない高光沢、高平滑性を発現可能な銅系金属用研磨液を提供する。 - 特許庁 - At least one transparent polymer film substrate composing a transparent touch switch has a light transmittance of ≤35% at 350 nm, and a transparent conductive film consisting of an organic conductive polymer composition containing polythiophene is provided for the transparent polymer film substrate.
透明タッチスイッチを構成する少なくとも一つの透明高分子フィルム基材の３５０ｎｍでの光線透過率が３５％以下であり、該透明高分子フィルム基材に、ポリチオフェンを含有してなる有機導電性ポリマー組成物よりなる透明導電膜を有していることを特徴とする透明タッチスイッチ。 - 特許庁
