In a position facing a discharge space S between a front glass substrate 1 and a back glass substrate 6, a magnesium oxide layer 5 containing crystalline powder wherein magnesium oxide crystalline performing cathode luminescence emission with a peak within a wave range of 200-300 nm excited by an electron beam is selected is provided. 前面ガラス基板1と背面ガラス基板6の間の放電空間Sに面する位置に、電子線によって励起されて波長域200〜300nm内にピークを有するカソード・ルミネッセンス発光を行う酸化マグネシウム結晶体が選別された結晶体粉末を含む酸化マグネシウム層5が設けられている。 - 特許庁
The signal board has a relief obtained from a photosensitive resin laminate with a photosensitive resin layer of ≥500 μm on at least a substrate by way of an adhesive layer and has a coating layer having ≤50% UV transmittance at 400 nm on the surface. 少なくとも支持体上に、接着層を介して500μ以上の感光性樹脂層を有する感光性樹脂積層体より得られるレリーフを有する標識板であって、該標識板表面に400nmにおける紫外線透過率が50%以下であるコーティング層を有していることを特徴とする標識板。 - 特許庁
To solve the problems of the performance improving technique of microphotofabrication using far-ultraviolet light, particularly ArF excimer laser light of 193 nm wavelength, specifically to provide a negative resist composition which, even in fine pattern formation, avoids pattern collapse and exhibits good resolution. 本発明の目的は、遠紫外線光、特に波長が193nmのArFエキシマレーザを用いるミクロフォトファブリケーションの性能向上技術の課題を解決することであり、より具体的には、微細なパターン形成においてもパターン倒れがなく、良好な解像性を示すネガ型レジスト組成物を提供することにある。 - 特許庁
This aqueous polymer dispersion comprises (a) at least one dispersion containing polyvinyl acetate and/or at least one polyvinyl acetate copolymer, and (b) at least one aqueous silicon dioxide dispersion containing SiO_2 particles having an average particle diameter of 1 to 400 nm. 前記課題は、(a)ポリ酢酸ビニル及び/又は少なくとも1種のポリ酢酸ビニルコポリマーを含有する分散体少なくとも1種及び(b)平均粒径1〜400nmを有するSiO_2粒子を含有する水性二酸化ケイ素分散体少なくとも1種を含有する水性ポリマー分散体により解決される。 - 特許庁
The cleaning of optical components for use in a lithographic projection apparatus can be carried out by irradiating a space within the apparatus containing the optical component with UV or EUV radiation having a wavelength of less then 250 nm, in the presence of an oxygen-containing species selected from water, nitrogen oxide and oxygen-containing hydrocarbons. リソグラフィ投影装置において使用する光学部品の清掃は、光学部品を含んだ装置内のスペースを、水、窒素酸化物、および酸素含有炭化水素から選択された酸素含有種の存在下、250nmに満たない波長を有するUV放射線もしくはEUV放射線にて照射することにより実行される。 - 特許庁
In a liquid droplet discharging head in which a part of a pressurized chamber 2 wall face is constituted of a piezoelectric element 8, average surface inclination ΔA (mrad) of the pressurized chamber 2 side surface of the piezoelectric element 8 is at most 1050 and an average volumetric particle size D (nm) of the pigment included in the ink is at least 80 and at most 200. 加圧室2壁面の一部が圧電素子8で構成された液滴吐出ヘッドにおいて、前記圧電素子8の加圧室2側表面の平均表面傾斜Δa(mrad)がΔa≦1050であり、且つインクに含まれる顔料の平均体積粒子径D(nm)が80≦D≦200である。 - 特許庁
In a manufacturing method of a magnetic recording medium 10 wherein a lower non-magnetic layer 2 and the magnetic layer 3 having ≤50 nm film thickness are laminated on a supporting body 1, the lower non-magnetic layer 2 is subjected to calender treatment and heat curing treatment to suppress drying speed of the magnetic layer as a step prior to a step for forming the magnetic layer 3. 支持体1上に、下層非磁性層2と、膜厚50nm以下の磁性層3とが積層形成されている磁気記録媒体10を製造する方法において、磁性層3の形成工程の前工程として、下層非磁性層2に、カレンダー処理及び熱硬化処理を行い、磁性層の乾燥速度を抑制する。 - 特許庁
A mark part due to the irradiation with laser beam is formed to the resin molded article comprising this resin composition on the rear surface side with respect to the appearance surface of the molded article in a predetermined mirror image shape and this predetermined mirror image shape is visually confirmed from the appearance surface of the molded article and the light transmissivity at a wavelength of 760 nm of the mark part is 5% or less. この樹脂組成物からなる樹脂成形品に、レーザー光線照射によるマーク部が成形品の体裁面に対する裏面側に所定形状の鏡像の形状で形成され、所定形状が体裁面側から視覚的に認知され、マーク部での波長760nm光線透過率が5%以下である。 - 特許庁
The regenerant for a deteriorated edible oil is composed of a food additive silicon dioxide having a whole specific surface area of ≥350 m^2/g, and a pore configuration wherein a dispersion maximum in the pore diameter range is 4-50 nm and an external surface area, calculated by the V_l-t method, accounts for ≥80% of the whole specific surface area. 全比表面積が350m^2/g以上で、細孔形態が細孔直径4〜50nmの範囲に分布極大を有し、かつV_l−t法で算出した外部表面積が全比表面積の80%以上を占める食品添加物二酸化ケイ素からなることを特徴とする劣化食用油用再生剤。 - 特許庁
After a silicon wafer having the insulating film at the front surface thereof is uniformly sprayed with the Na_3Au(SO_3)_2 electrolytic solution discharged from a spray nozzle, the Pt electrode is soaked to the electrolytic solution, and a voltage is impressed across a silicon substrate and the Pt electrode to precipitate the Au particles of the diameter of 10 nm or less on the fault of insulating film. 表面に絶縁膜を有するシリコンウエハにスプレーノズルによりNa_3Au(SO_3)_2電解液を均一に照射した後、Pt電極を電解液に浸し,シリコン基板とPt電極間に電圧を印加し,絶縁膜欠陥上に直径10nm以下のAu粒子を析出させる。 - 特許庁
A DFB laser device 10, an embedding hetero type having an oscillation wavelength of 1,550 nm, comprises, on an n-InP substrate 12, an n-InP buffer layer 14, an active layer 16, a p-InP spacer layer 18, a grating 20 consisting of GaInAsP layer, and a lamination structure of p-InP first cladding layer 22 in which a grating is embedded. DFBレーザ素子10は、発振波長が1550nmの埋め込みへテロ型であって、n-InP基板12上に、n-InPバッファ層14、活性層16、p-InPスペーサ層18、GaInAsP層からなる回折格子20、及び回折格子を埋め込んだp-InP第1クラッド層22の積層構造を備える。 - 特許庁
In this hydrogen storage alloy powder excellent in charging and discharging characteristics, the surface layer part enriched in Ni and Co as the main phases has a thickness of 10 to 500 nm, and also, the ratio (tmax/tmin) of the maximum part (tmax) to the minimum part (tmin) in the film thickness of the surface layer is controlled to 1 to 10. 水素吸蔵合金粉末において、表面層にNi,Coを主相とするリッチな表面層の厚さ10〜500nmを有し、かつ該表面層膜厚の最大部分(t__max )と最少部分(t_min )の比(t_max /t_min )が1〜10であることを特徴とする充放電特性に優れた水素吸蔵合金粉末。 - 特許庁
The filmy adhesive for sealing the semiconductor contains a resin composition comprised of (a) a polyimide resin, (b) an epoxy resin and (c) a curing agent and an inorganic filler and has at least 10% of a light transmittance at 555 nm and an absolute value of a difference of a refractive index between the resin composition described above and the inorganic filler described above is 0.15 or less. (a)ポリイミド樹脂、(b)エポキシ樹脂及び(c)硬化剤からなる樹脂組成物と無機フィラーとを含有し、555nmにおける光透過率が10%以上であり、上記樹脂組成物と上記無機フィラーとの屈折率の差の絶対値が0.15以下である半導体封止用フィルム状接着剤。 - 特許庁
In the amorphous silica zirconium composite, a ratio Zr/(Si+Zr) is in a range of 0.5 to 15.0 mol%, a pore volume at a pore diameter of 2 to 50 nm is 0.2 to 1.0 cm^3/g, and desorption of NH_3 measured by an NH_3-TPD method is 0.05 mmol/g or more. Zr/(Si+Zr)が0.5乃至15.0モル%の範囲内にあると共に、2乃至50nmの細孔直径での細孔容積が0.2乃至1.0cm^3/gであり、且つNH_3−TPD法で測定したNH_3脱着量が0.05mmol/g以上であることを特徴とする非晶質シリカジルコニウム複合体。 - 特許庁
In the optical recording disk having on a substrate at least the land part and the groove part for recording/reproducing and the header part recording format information, recording information at least on the land part and performing recording/reproducing of information, the difference of a height of 3-100 nm is provided between a height of the header part and a height of the land part. 基板上に、少なくとも記録再生に関与するランド部およびグルーブ部と、フォーマット情報を記録するヘッダー部とを有し、少なくともランド部上に情報を記録して、情報の記録再生を行なう光記録ディスクにおいて、ヘッダー部の高さとランド部の高さとして、3〜100nmの高低差を設ける。 - 特許庁
On the Si wafer for use that has the face orientation of (001) and an off-angle of 4 degrees in the <011> direction, the GaP layer of 90 nm or smaller or two kinds of group III-V compound semiconductors having GaP as a main component is laminated as a material laminated on the Si wafer, and an oxide layer of a perovskite series is laminated thereon. 使用するSi基板を面方位が(001)で<011>方向へのオフ角が4°のものとした上で、Si上に積層する材料として90nm以下のGaP層またはGaPを機軸とする2種類のIII−V族化合物半導体を積層しておき、その上にペロブスカイト系の酸化膜を積層する。 - 特許庁
In the nano-sized phosphor of which 90% or more of the whole of particles have each a size of 1-100 nm, the equipotential point of zeta potential when the nano-sized phosphor is dispersed in water is 1-6, and the zeta potential at a pH of 8-13 is -100 mV to -30 mV. 全粒子の90%以上が1nm〜100nmの粒径であるナノサイズ蛍光体であり、該ナノサイズ蛍光体を水中に分散させたときのゼータ電位の等電点が1〜6であり、かつpH8〜13におけるゼータ電位が−100mV〜−30mVであることを特徴とするナノサイズ蛍光体。 - 特許庁
The height of a polysilicon layer 4 is formed to be lower than before to be about 95[nm], and when etching a NONON film 5, a polysilazane film 15b and a silicone oxide film 15a, etching treatment is performed under such a prescribed condition that a selection ratio condition between the polysilicon layer 4 and the NONON film 5 is in a range of 1:1.5 to 2. 多結晶シリコン層4の高さを95[nm」程度と従来に比較して低く形成し、NONON膜5およびポリシラザン膜15bおよびシリコン酸化膜15aをエッチング処理するときに、多結晶シリコン層4およびNONON膜5間の選択比条件を1:1.5〜2の範囲となる所定条件でエッチング処理する。 - 特許庁
The transparent film has semi-IPN (semi-mutual penetration netting structure) polymer alloy of cellulose ester and crosslinking polymer, and a retardation value of the film thickness direction {where Rth_(630): Rth_(λ) is the retardation value (units of nm) of the film thickness direction in wavelength λnm under 25°C60%RH} is in the range of -25 to +25. セルロースエステルと架橋ポリマーとのセミIPN(半相互貫入型網目構造)型ポリマーアロイを有し、かつ膜厚方向のレターデーション値(Rth_(630) :Rth_(λ)は25℃60%RH下、波長λnmにおける膜厚方向のレターデーション値(単位:nm)である)が−25以上+25以下である透明フィルム。 - 特許庁
There is used the wiring member 10 which has a copper foil 11 having a smooth face in which a surface roughness Rz is 2 μm or less, a noise suppressing layer 13 containing a metal or conductive ceramics and having a thickness of 5-200 nm, and an insulating resin layer 12 formed between the smooth face side of the copper foil 11 and the noise suppressing layer 13. 表面粗さRz が2μm以下である平滑面を有する銅箔11と、金属または導電性セラミックスを含む、厚さ5〜200nmのノイズ抑制層13と、銅箔11の平滑面側とノイズ抑制層13との間に設けられた絶縁性樹脂層12とを有する配線部材10を用いる。 - 特許庁
Provided is a spinel sintered compact having an absorption coefficient (k_10) of 0.3/cm or less at a wavelength of 193 nm, wherein the spinel sintered body is characterized by comprising magnesia-alumina spinel as the main component, having a lithium (Li) content of 1,000 ppm by weight or more, and having a fluorine (F) content of less than 1 ppm by weight. マグネシアアルミナスピネルを主成分とし、リチウム(Li)の含有量が1000重量ppm以上であって、且つ、フッ素(F)の含有量が1重量ppm未満であることを特徴とする、波長193nmでの吸収係数(k_10)が0.3/cm以下であるスピネル焼結体を提案する。 - 特許庁
In the perpendicular magnetic recording medium formed by forming backing magnetic layers 13 and 22, a perpendicular magnetization film 15 and a protective film 16 on a substrate 11 in this order, a soft magnetic film contained in the backing magnetic layers is composed of a thin film consisting of magnetic fine crystal grains having a non-cylindrical polycrystalline structure and 1-10 nm average particle size. 基板11上に裏打磁性層13,22、垂直磁化膜15、保護膜16の順に形成した垂直磁気記録媒体において、裏打磁性層に含まれる軟磁性膜は、非柱状多結晶構造の平均粒径が1〜10nmの範囲の磁性微結晶粒からなる薄膜で構成する。 - 特許庁
To obtain a coating composition which excels in the dispersibility of a coating liquid even when fine particles of a metal oxide having a primary particle diameter of ≤30 nm are used, and excels in transparency (a small haze value) when formed into a coating film, a coating film formed by using the coating composition, an antireflective membrane, an antireflective film, and a method for preparing the coating composition. 30nm以下の一次粒子径の金属酸化物微粒子を用いても塗工液の分散性に優れ、塗膜とした場合に、透明性に優れる(ヘイズ値が小さい)コーティング組成物、該コーティング組成物を用いて形成された塗膜、反射防止膜、反射防止フィルム、コーティング組成物の製造方法を提供する。 - 特許庁
This fluorescent lamp has at least one kind of ultraviolet-ray absorbing film or a reflecting film, a protective film, consisting of a connected body of particles of a metal oxide of which the volume average particle size is 10-300 nm and which does not form an amalgam with mercury, and a phosphor layer formed, in this order, on the inner face of the arc tube. 発光管の内面に、紫外線吸収膜又は反射膜のうち少なくとも一種、体積平均粒径が10nm〜300nmであり、水銀とアマルガムを形成しない金属の酸化物の粒子の連結体からなる保護膜、および蛍光体層が、この順で形成されてなる蛍光ランプ。 - 特許庁
The radiation curable composition which is characterized in that a cured film thereof having a thickness of 100 μm, which is obtained by being irradiated with an ultraviolet light having a wavelength of 254 nm at an irradiation intensity of 1.0 J/cm^2 by using a high pressure mercury lamp, has a tensile modulus at 5°C of not less than 1,400 MPa. 高圧水銀ランプにて、波長254nm、照射強度1.0J/cm^2の紫外線を照射して硬化させた膜厚100μmの硬化物膜の5℃における引張弾性率が1,400MPa以上であることを特徴とする光記録媒体背面層用放射線硬化性組成物に関する。 - 特許庁
To provide a photosensitive composition which has satisfactory sensitivity in scanning exposure with a laser light source having a wavelength shorter than 450 nm, can be handled, e.g., even under bright safelight, and is useful for a lithographic printing plate for scanning exposure excellent in work efficiency, economical efficiency, printing durability, etc., and adaptable to a CTP system. 450nmより短波長のレーザー光源を用いた走査露光に十分な感度を有し、例えば、明るいセーフライト下でも取り扱い可能であり、作業性、経済性、耐刷性等に優れた、CTPシステムに適合した走査露光用平版印刷版等に有用な、感光性組成物を提供する。 - 特許庁
In the heat developable photosensitive material containing on a support a photosensitive silver halide, a non-photosensitive organic silver salt, a reducing agent and a binder, a coupler coloring leuco dye having a coupler residue is contained in the heat developable photosensitive material and the heat developable photosensitive material is exposed with light having a peak intensity at a wavelength of ≤500 nm. 支持体上に、感光性ハロゲン化銀、非感光性有機銀塩、還元剤及びバインダーを含有する熱現像感光材料において、該熱現像感光材料にカプラー発色ロイコ染料を含有し、かつ波長500nm以下にピーク強度を持つ光で露光されることを特徴とする熱現像感光材料。 - 特許庁
In a fuel electrode 12 and an oxidant electrode 13 having a gas diffusion layer 18 for a fuel cell and a catalyst layer 17 arranged on one surface of the gas diffusion layer 18, the catalyst layer 17 is composed of a carrier and the platinum group metal fine particles having a particle size of 2 nm or less arranged on the surface of the carrier. 燃料電池用のガス拡散層18と、このガス拡散層18の一方の面18aに配された触媒層17とを備えた燃料極12および酸化剤極13において、触媒層17を、担持体およびこの担持体の表面に配された粒径が2nm以下の白金族金属微粒子から構成する。 - 特許庁
The water-based floor polisher performing excellently in practical application essentially comprises a combination of a polyalkoxylated aliphatic alcohol, an emulsion-polymerized resin emulsion having an MFT (Minimum Film-Forming Temperature) of ≥50°C but ≤85°C, and a polyolefin-based emulsion having a carboxy group having an average particle diameter of 20-500 nm. ポリアルコキシ化脂肪族アルコール、MFT(最低造膜温度)が50℃以上85℃以下の乳化重合系樹脂エマルション及び平均粒子径が20〜500nmのカルボキシ基を有するポリオレフィン系エマルションを必須成分として組み合わせ使用することにより、実用上優れた性能を有する水性フロアーポリッシュを得ることができる。 - 特許庁
In a process of forming a silicon nitride film 16, the silicon nitride film 16 is so formed as to have a thickness to enable a reflectance change to become 0.08%/nm or below at an interface between the silicon nitride film 16 and an antireflection film 18 with a thickness change in the silicon nitride film 16 at the formation of the silicon nitride film 16. シリコン窒化膜16を形成する工程では、シリコン窒化膜16を形成する際に生ずるシリコン窒化膜16の膜厚の変動に対する、シリコン窒化膜16と反射防止膜18との界面における反射率の変動が0.08%/nm以下となるような膜厚のシリコン窒化膜16を形成する。 - 特許庁
Specifically, the irradiating laser beam has a wave length in the ultraviolet region of 100 to 400 nm, and the surface-modified layer is formed on the metal surface by the steps of condensing the ultraviolet laser beam, and irradiating the metal surface with the condensed laser beam while making the beam scan the metal surface with a two-dimensional shape. つまり、照射するレーザ光は、その波長が100nm以上400nm以下の紫外領域にあるものであり、この紫外レーザ光を集光させ、集光されたレーザ光を、金属表面上を2次元状に走査しながら照射させて、金属表面に表面改質層を形成するようにしている。 - 特許庁
The electrophotographic toner having a core-shell structure is prepared by covering a core particle comprising at least a resin, a colorant and a wax with a shell layer made of the resin, wherein holes of an average diameter of 100 to 1,000 nm exist by 2 to 30 pieces per one particle of toner on an average, on the shell layer. 少なくとも樹脂と着色剤とワックスを含有してなるコア粒子を、樹脂からなるシェル層にて被覆してなるコア・シェル構造の電子写真用トナーにおいて、該シェル層にトナーの1粒子当たり平均径100〜1000nmの穴が平均2〜30個存在することを特徴とする電子写真用トナー。 - 特許庁
To provide high flow rate and high strength crystalline polymer microporous membrane having easily obtained by a process only consisting of extrusion and rolling without stretching and heating capable of efficiently catching a fine particle of several tens nm size, and to provide an efficient method for producing the crystalline polymer microporous membrane and a filtration filter. 延伸及び加熱することなく、押出及び圧延のみの工程によって簡易に得られ、微小な孔径を有し、数十nmサイズの微粒子を効率良く捕捉することができ、高流量、かつ、高強度である薄膜の結晶性ポリマー微孔性膜及びその効率的な製造方法、並びに濾過用フィルタの提供。 - 特許庁
The hydrogenated amorphous carbon film is prepared from a hydrocarbon gas through a plasma CVD method and is characterized by a G band shift of 1,550-1,559 cm^-1 and a half-width of G band of 180-197 cm^-1 in a Raman spectrum measured by Raman spectroscopy with an Ar laser (wavelength: 488 nm). プラズマCVD法によって炭化水素ガスから得られる水素化アモルファスカーボン膜であって、Arレーザ(波長:488nm)によるラマン分光分析によって測定されるラマンスペクトルのGバンドシフトが1550〜1559cm^−1、かつGバンド半値幅が180〜197cm^−1であることを特徴とする。 - 特許庁
The catalyst contains one or more noble metals selected from the group consisting of Au, Ag, Pt, Pd, Rh, Rg, Ir, Os, and alloys thereof, wherein the noble metal particles have a relative degree of crystallinity of greater than 2 as determined by X-ray diffraction and an average particle size of about 2-10 nm. この触媒は、Au、Ag、Pt、Pd、Rh、Ru、Ir、Osおよびそれらの合金からなる群から選択される1以上の貴金属を含有し、ここで、この貴金属粒子は、エックス線回折によって決定される、2より大きな相対結晶化度および約2nmと約10nmとの間の平均粒径を有する。 - 特許庁
To provide a positive resist composition which eliminates the need for prebake in a process of forming a resist film and has high sensitivity, in particular, high sensitivity and good pattern forming properties to active energy rays having a maximum emission wavelength in the range of 400-410 nm from a semiconductor laser as an irradiation source. レジスト膜を形成する工程においてプリベークを必要とせず、さらに高感度、特に半導体レーザーを照射源とした最大発光波長が400nm〜410nmの範囲内にある活性エネルギー線に対して高感度かつパターン形成性が良好なポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁
The element is 30 nm or less in a half-value width of an emission spectrum of at least one material from among the organic EL element. 基板1と、その上に形成されかつ有機EL材料を含む発光層3とを有し、発光層3が赤、緑および青の発光色を有する有機EL材料をそれぞれ含むことにより白色に発光する有機EL素子において、有機EL材料のうち、少なくとも1つの材料の発光スペクトルの半値幅が30nm以下である素子。 - 特許庁
The toner for electrostatic latent image developing comprises at least color particles containing a binder resin, a colorant and a release agent, and an external additive, wherein the external additive contains a monodispersion spheric silica having 1.3 to 1.9 absolute specific gravity and 80 to 300 nm volume average particle size. 少なくとも、結着樹脂、着色剤及び離型剤を含有する着色粒子と外添剤とを有する静電潜像現像用トナーにおいて、該外添剤が、真比重が1.3〜1.9であり、体積平均粒径が80〜300nmである単分散球形シリカを含むことを特徴とする静電潜像現像用トナーである。 - 特許庁
The near-infrared absorption film is obtained by laminating, on a transparent base film, a near-infrared absorption layer mainly made up of two or more near-infrared absorbing dyes including a diimmonium salt compound and a resin, wherein the near-infrared absorption film has a transmittance at 400 nm wavelength of ≤30%. 透明基材フィルム上に、ジインモニウム塩化合物を含む2種類以上の近赤外線吸収色素と樹脂から主に構成される近赤外線吸収層を積層した近赤外線吸収フィルムであって、波長400nmにおける透過率が30%以下であることを特徴とする近赤外線吸収フィルム。 - 特許庁
In this reed processing method of a harmonica or a keyboard harmonica, the material of the reed is copper alloy, a laser beam with a wavelength of 600 nm or shorter is radiated while air or inert gas is sprayed to the reed, and a melting section and an evaporating section are formed on the surface of the reed, thereby tuning it into a predetermined musical interval. ハーモニカや鍵盤ハーモニカのリード加工方法において、前記リードの材質は、銅合金からなり、前記リードに空気や不活性ガスを吹付けながら、波長が600nm以下のレーザー光線を照射して、前記リードの表面に溶融・蒸発部を形成することで所定の音程となるように調律する。 - 特許庁
It is preferable that the carbon fiber has wrinkles on its surface along the fiber axis direction, and it has the maximum depth of the wrinkles of ≤30 nm, an average single- fiber strength determined by a single-fiber tensile strength test of ≥6 GPa, a Weibull shape coefficient of <6 and a Weibull diagram factor of ≥900. 炭素繊維の表面に繊維軸方向に沿った皺を有し、該皺の深さの最大値が30nm以下であること、単繊維引張り試験により求められる平均単繊維強度が6GPa以上、ワイブル形状係数が6未満、ワイブル尺度係数が900以上であることが好ましい。 - 特許庁
The semiconductive seamless belt has a thickness of ≤1 mm and comprises a resin composition containing 3-12 pts.wt. of a conductive carbon black having a primary particle diameter of ≤50 nm and a BET specific surface area of ≥600 m^2/g, based on 100 pts.wt. of the polyether sulfone resin. 厚さが1mm以下であり、ポリエーテルスルフォン系樹脂100重量部に対して1次粒子径が50nm以下、BET比表面積が600m^2/g以上である導電性カーボンブラックを3〜12重量部を含有する樹脂組成物にて構成されている半導電性シームレスベルトとする。 - 特許庁
The biaxially stretched resin film is characterized in that: it is composed of a layer containing a polyethylene terephthalate resin (A) and a layer containing a syndiotactic polystyrene resin (B), which are laminated alternately in total of five or more layers; and absolute value of retardation measured by polarization microscope with Berec compensator is 500 nm or less. ポリエチレンテレフタレート系樹脂(A)を含む層とシンジオタクチックポリスチレン系樹脂(B)を含む層が交互に合わせて5層以上積層されており、ベレック型コンペンセーターを用いた偏光顕微鏡により測定されるレターデーションの絶対値が500nm以下であることを特徴とする二軸延伸樹脂フィルム。 - 特許庁
A protection layer is formed by applying a protection ink containing 92-94 wt.% UV-curable urethane resin composition and fine silica particles having an average particle diameter of 7-12 nm to the surface of a printed material printed with a water-based dye ink and immediately applying ultraviolet rays to the protection ink layer to cure the ink. 紫外線硬化型のウレタン系樹脂組成物92〜94重量%と、平均粒径が7〜12nmのシリカ微粒子とを含む保護インクを、水性染料インクによる印刷を施した印刷物表面に付与し、直ちに紫外線を照射して上記保護インクを硬化させ、保護層を形成する。 - 特許庁
After the multicomponent dispersion family food containing starch, protein, lipid, and like is dyed by fluorescent coloring matters, the tissue structure of the starch, protein, and lipid can be analyzed as a three-dimensional image by observation in a region having lower wavelength than -40 nm being the maximum absorption wavelength of the fluorescent coloring matters. 澱粉、蛋白質、脂質等を含有する多成分分散系食品を蛍光色素で染色した後、蛍光色素の最大吸収波長の−40nmより低波長領域で観察することによって、澱粉、蛋白質及び脂質の組織構造を立体的画像として解析することができる。 - 特許庁
In this electrophotographic photoreceptor having an intermediate layer and a photosensitive layer in this order on a support, a surface layer of the electrophotographic photoreceptor contains a curable resin and the intermediate layer contains a copolymerized polyamide resin having a specified repeating structural unit and titanium oxide particles whose average primary particle diameter is ≤100 nm. 支持体上に中間層および感光層をこの順に有する電子写真感光体において、該電子写真感光体の表面層が硬化性樹脂を含有し、該中間層が特定の繰り返し構造単位を有する共重合ポリアミド樹脂および平均一次粒径100nm以下の酸化チタン粒子を含有する。 - 特許庁
A barrier layer 3 comprising a thin film based on SiOx (wherein x is 0.01-1.2) is provided on at least one surface of a substrate film 2 to constitute a translucent barrier film 1 with average light transmissivity of 10-70% at a wavelength of 400-700 nm. 基材フィルムフィルムの少なくとも一方の面に、SiO_x(Xは0.01〜1.2の範囲)を主体とする薄膜、あるいは、AlO_x(Xは0.2〜1.2の範囲)を主体とする薄膜からなるバリア層を設け、波長400〜700nmにおける平均光線透過率が10〜70%の範囲内にある半透明バリアフィルムを構成する。 - 特許庁
The laser annealing device is equipped with a laser beam source composed of at least a GaN semiconductor laser having a plurality of light emitting dots to emit laser beams having a wavelength of 350 to 450 nm, and a scanning means for scanning the annealing surface of a work with the laser beam emitted from the laser beam source. 少なくとも1つのGaN系半導体レーザによって、波長350〜450nmのレーザビームを出射する複数の発光点が生じるように構成されたレーザ光源と、該レーザ光源から出射されたレーザビームでアニール面上を走査する走査手段と、を備えるようにレーザアニール装置を構成する。 - 特許庁
A light source and a holographic optical element (HOE) are established so that the HOE in which a half-wavelength width of diffraction peak in a wavelength region of each color of RGB is narrow and ≤20 nm is used and a video light guided by optical pupil through the HOE has intensity peak near a wavelength where color purity of RGB becomes higher. RGBの各色の波長域における回折ピークの半値波長幅がそれぞれ20nm以下と狭いHOEを用い、HOEを介して光学瞳に導かれる映像光が、RGBの色純度が高くなる波長付近に強度ピークを有するように、光源およびHOEを設定する。 - 特許庁
The ceramic porous plate has fine pore parts having 5 nm to 200 μm average pore diameter and ≥0.5 mm thickness and a thin film having film thickness controlled in a molecular layer or atomic layer level is formed on at least a part of the inside wall of the fine pore parts by an atomic layer deposition (ALD) method. 平均細孔径が5nm〜200μmの細孔部を有し厚さが0.5mm以上のセラミック多孔質板であって、該細孔部内壁の少なくとも一部にALD法によって分子層または原子層レベルで膜厚制御された薄膜が形成されていることを特徴とするセラミック多孔質板を提供する。 - 特許庁