「nm」を含む例文一覧(14378)
＜前へ 1 2 .... 78 79 80 81 82 83 84 85 86 .... 287 288 次へ＞- To provide a method for producing an optical film, in which the optical film having such retardations sufficiently close to zero can be obtained even if the optical film is stretched that the in-plane direction retardation is 0-5 nm and the thickness direction retardation is -5 to 5 nm.
フィルムを延伸しても、面内方向リタデーションが０ｎｍ以上５ｎｍ以下、厚み方向リタデーションが−５ｎｍ以上５ｎｍ以下とリタデーションが充分に０に近い光学フィルムを得ることができる光学フィルムの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - The objective composition is produced by formulating 100 pts.wt. of an ethylenic copolymer with 5-70 pts.wt. of an anhydrous silica mixture composed of an anhydrous silica having an average primary particle diameter of ≤20 nm and an anhydrous silica having an average primary particle diameter of 30-50 nm.
エチレン系コポリマー１００重量部に対して、１次粒子の平均粒径が２０nm以下の無水シリカと１次粒子の平均粒径が３０〜５０nmの無水シリカとから成る無水シリカ混合物を５〜７０重量部配合して成る電気絶縁樹脂組成物。 - 特許庁 - Upon reading, a control means 60 controls an optical shutter layer 29 to set it to a read light transmission state of transmitting light having a wavelength band of 400 nm to 500 nm, and controls a plane-shaped light source 20 so that each minute EL light emitter 21 having a line shape emits light sequentially.
読取時には、制御手段６０は光シャッタ層２９を制御して、４００nm〜５００nmの波長帯域の光を透過する読取光透過状態とし、ライン状の各微小ＥＬ発光体２１が順次発光するように面状光源２０を制御する。 - 特許庁 - Provided is an ultra fine fiber having an average thread diameter of more than 1000 nm and 2500 nm or less and the variation of the average thread diameter CV% of 0 to 25% and the thread strength of 0.04 cN or more, which is obtained by subjecting a sea component of a sea-island type conjugate fiber to the elution treatment.
海島型複合繊維の海成分を溶出処理することによって得られる、平均単糸繊径が１０００ｎｍを越え、２５００ｎｍ以下、平均単糸繊径のばらつきＣＶ％が０〜２５％、単糸強力が０．０４ｃＮ以上である極細繊維。 - 特許庁 - To provide a method of forming a fine pattern having the width and the diameter of the pattern of ≤100 nm and an excellent uniformity (uniformity in surface) in an ultra-fine manufacturing process using a high energy light beam of which the wavelength is 200 nm or smaller or an electron beam.
波長２００ｎｍ以下の高エネルギー光または電子線を用いた極微細加工プロセスにおいて、パターン幅や径が１００ｎｍ以下でユニフォーミティー（面内均一性）などの点においても優れる微細パターンの形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - The water-based coloring material comprises a resin fine particle, which contains a colorant and has an average particle size of at most 100 nm and a maximum particle size of at most 500 nm, and a water-dispersed resin having a Tg lower than the Tg of the resin fine particle.
着色剤を含有し、平均粒子径が１００ｎｍ以下であり且つ最大粒子径が５００ｎｍ以下である樹脂微粒子と該樹脂微粒子のＴｇより低いＴｇを有する水性分散樹脂を含有することを特徴とする水性着色材。 - 特許庁 - Preferably, an ultrafine particulate conductive filler having the particle size of ≥5 nm and <100 nm is used as the conductive filler and the compounding amount of the ultrafine particulate conductive filler to the binder 4 (100 parts) is controlled to ≥400 and ≤1,000 parts in terms of the solid content.
上記導電性フィラーとして粒子径が５ｎｍ以上１００ｎｍ未満の超微粒導電性フィラーを用い、この超微粒導電性フィラーのバインダー４（１００部）に対する配合量を固形分換算で４００部以上１０００部以下とするとよい。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition which shows sufficient transmitting property when an exposure light source at ≤160 nm, specifically, F_2 excimer laser light (at 157 nm) is used and which is improved in surface roughness, development defect, scum and resolving power, and to provide a method for forming a pattern by using the composition.
１６０ｎｍ以下、具体的にはＦ_2エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源使用時に十分な透過性を示し、表面ラフネス、現像欠陥、スカム、解像力が改善されたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - (3) The measuring point is transferred by ± nearly several 10 nm in the direction Z as the center position in which the positioning is performed and an attenuation factor (changing ratio) of the measured values of the magnetic intensity to displacement in the direction Z of the measuring point is calculated and normalized with the measured value, and plotted to measured values themselves.
（３）位置決めした位置を中心にＺ方向に測定点を±数十nm程度移動させ、測定点のＺ方向変位に対する磁界強度の測定値の減衰率（変化率）を算出し、測定値で規格化して、測定値そのものに対してプロットする。 - 特許庁 - The antireflection film has a light-diffusing layer and a low refractive index layer on a transparent support, wherein the light-diffusing layer has an inner haze value of 30 to 60% and a surface haze value of 1% or less, and the antireflection film has an average reflectance of 2.5% or less at a wavelength of 450 nm to 650 nm.
内部ヘイズが３０乃至６０％かつ表面ヘイズ値が１％以下であり、波長４５０ｎｍ〜６５０ｎｍにおける平均反射率が２．５％以下の透明支持体上に光拡散性層と低屈折率層を有する反射防止フィルム。 - 特許庁 - To provide an organic-inorganic gradient composite membrane having a component gradient structure in which rate of content of an inorganic component continuously changes in the direction of membrane thickness, simultaneously excellent in transparency and allowable to control the thickness of the gradient structure in the range from several tens nm to several hundreds nm.
無機成分の含有率が膜の厚み方向に連続的に変化する成分傾斜構造を有すると共に、透明性に優れ、かつ数十ｎｍ〜数百ｎｍの範囲で傾斜構造の厚さを制御できる有機−無機複合傾斜膜を提供する。 - 特許庁 - In the photosensitive composition for forming a light shielding film containing (a) carbon black as a light shielding pigment, (b) a photopolymerizable compound, and (c) a photopolymerization initiator, the dispersion particle diameter of the carbon black is set at 100-250 nm, preferably 150-200 nm.
（ａ）遮光性顔料としてのカーボンブラック、（ｂ）光重合性化合物、および（ｃ）光重合開始剤を含有する遮光膜形成用感光性組成物において、前記カーボンブラックの分散粒子径を１００〜２５０ｎｍ、好ましくは１５０〜２００ｎｍにする。 - 特許庁 - The photochromic surface layer part of the optical substrate is coated with an ultraviolet ray absorbing film with a thickness of 0.1-100 μm, where a ratio of transmitted light ray with a wavelength of 360 nm is 50% or more and where a ratio of transmitted light ray with a wavelength of 320 nm is 10% or less.
上記光学基板のフォトクロミック表層部を、３６０ｎｍの光線透過率が５０％以上であり、且つ３２０ｎｍの光線透過率が１０％以下である、厚さが０．１〜１００μｍである紫外線吸収膜により被覆する。 - 特許庁 - However, the value of the maximum particle diameter Dupa 99% (nm) of the agglomerate means the value of a cumulative frequency of 99% in a cumulative frequency distribution curve of particle diameter of the agglomerate made from the degree of frequency modulation of scattered light of a laser bean> irradiated on the water dispersion of the carbon black.
ただし、アグロメレートの最大粒子径Ｄupa99%(nm)の値は、カーボンブラックの水分散液にレーザー光を照射し、散乱光の周波数変調度合から作成したアグロメレート粒径の累積度数分布曲線における９９％累積度数の値を示す。 - 特許庁 - The anti-reflection film has a multilayered structure wherein a plurality of anti-reflection layers having 1.4 to 1.9 refractive indexes are laminated, and the anti-reflection film has a minimum reflection factor in a range of 460 to 490 nm and a range of 560 to 600 nm.
屈折率が１．４〜１．９の範囲にある反射防止層を複数層積層させた多層構造を有する反射防止膜であって、反射率極小を、４６０〜４９０ｎｍの範囲及び５６０〜６００ｎｍの範囲に有することを反射防止膜。 - 特許庁 - As regards the polyester film for the transfer foil, in the surface at least on the transfer surface side, the value of average central surface roughness SRa is 15 nm or below, and the number of projections of at least 200 nm is 1% or above of the total number of projections.
本発明の転写箔用ポリエステルフィルムは、少なくとも転写面側の表面において、中心面平均粗さＳＲａの値が１５ｎｍ以下で、かつ、２００ｎｍ以上の突起数が全突起数の１％以上、であることを特徴とするものである。 - 特許庁 - In the β-type sialon phosphor, the lattice constant (a) of β-type sialon crystal is 0.7605-0.7610 nm and the lattice constant (c) is 0.2906-0.2911 nm, the content of Eu is 0.4-2 mass% and the content of the first transition metal is ≤5 ppm.
β型サイアロン結晶の格子定数ａが０．７６０５〜０．７６１０ｎｍ、格子定数ｃが０．２９０６〜０．２９１１ｎｍであり、Ｅｕ含有量が０．４〜２質量％、第一遷移金属含有量が５ｐｐｍ以下であるβ型サイアロン蛍光体である。 - 特許庁 - On a rear-face panel 110, a transparent phosphor layer 115 formed of micro phosphor particles with a particle size of several nm to tens of nm and transmitting at least visible light, and a mirror-face reflecting layer 116 arranged at a rear-face side of the above layer, are fitted.
背面パネル１１０には、粒径が数ナノメートル〜数十ナノメートルの微細な蛍光体粒子によって形成され、少なくとも可視光を透過する透明蛍光体層１１５と、その背面側に配置される鏡面反射層１１６とが設けられている。 - 特許庁 - The layer preferably contains a thickner of 0.05 to 0.5 by a weight ratio to the binder, and the fine particles are made of an alumina or an alumina hydrate having a mean particle size of primary particles of 10 to 50 nm or a vapor phase process silica having a mean particle size of primary particles of 3 to 30 nm.
好ましくは粘度付与剤を親水性バインダーに対する重量比０．０５〜０．５で含有し、無機微粒子が一次粒子の平均粒径１０〜５０ｎｍのアルミナまたはアルミナ水和物か、一次粒子の平均粒径３〜３０ｎｍの気相法シリカである。 - 特許庁 - When no texture mainly composed of {111} face is formed on both the reverse surface MPP and the light reception surface MPS of the silicon single crystal substrate 3 in the rear surface structure of the solar battery 1, the film thickness of the silicon nitride film 4 at the rear surface side is set to 40 nm-220 nm.
太陽電池１の裏面構造において、シリコン単結晶基板３の裏面ＭＰＰと受光面ＭＰＳとのいずれにも｛１１１｝面を主体とするテクスチャが形成されていない場合、裏面側の窒化シリコン膜４の膜厚を４０ｎｍ〜２２０ｎｍとする。 - 特許庁 - When a substrate is directly etched, the width Wa at the boundary between the photosensitive layer and a supporting body corresponding to the grooves prior to etching is so set as to attain (T.P×0.50)-45 nm≤Wa≤(T.P×0.60)+45 nm with respect to the track pitch T.P.
基板を直接エッチングする場合には、エッチング前のグルーブに対応する感光層と支持体との境界面における幅ＷａをトラックピッチＴ．Ｐに対して（Ｔ．Ｐ×０．５０）−４５ｎｍ≦Ｗａ≦（Ｔ．Ｐ×０．６０）＋４５ｎｍとなるように設定する。 - 特許庁 - The accelerator for fast hardening cement is composed of a sintered compact containing solid solution of a crystalline 11CaO.7Al_2O_2.CaF_2, the lattice constant of which is 1.1971-1.1990 nm, preferably 1.1971-1.1981 nm.
格子定数が１．１９７１〜１．１９９０ｎｍ、好ましくは１．１９７１〜１．１９８１ｎｍである結晶質の１１ＣａＯ・７Ａｌ_2Ｏ_3・ＣａＦ_2固溶体を含有する焼結体が配合されてなることを特徴とする急硬性セメント用急結剤を解決手段とする。 - 特許庁 - The admixture for fast hardening cement is composed of a sintered compact containing solid solution of crystalline 11CaO.7Al_2O_3.CaF_2, the lattice constant of which is 1.1971-1.1990 nm, preferably 1.1982-1.1990 nm.
格子定数が１．１９７１〜１．１９９０ｎｍ、好ましくは１．１９８２〜１．１９９０ｎｍである結晶質の１１ＣａＯ・７Ａｌ_2Ｏ_3・ＣａＦ_2固溶体を含有する焼結体が配合されてなることを特徴とする速硬性セメント用混和剤を解決手段とする。 - 特許庁 - The body to be transferred is such a body to be transferred that forms uneven patterns in a plurality of different directions on the surface, and among the lengths of repeating units of the uneven patterns in a plurality of the different directions, the lengths of two minimum repeating units are within a range of 0.01-10 nm.
被転写体は、表面に、複数の異なる方向に凹凸パターンが形成された被転写体であり、前記複数の異なる方向の凹凸パターンの繰り返し単位の長さのうち、２つの最小繰り返し単位長さが0.01〜10 nmの範囲内にある。 - 特許庁 - To provide an alkaline earth metal aluminosilicate phosphor which highly efficiently emits blue to bluish green light when excited with a vacuum ultraviolet ray of a wavelength of 200 nm or shorter, to provide a method for producing the same, and to provide a luminescent element excitable with a vacuum ultraviolet ray.
波長200 nm以下の真空紫外線励起により高効率に青色若しくは青緑色に発光するアルカリ土類金属のアルミノ珪酸塩蛍光体及びその製造方法、並びに真空紫外線励起発光素子を提供しようとするものである。 - 特許庁 - The sheet consists of a resin composition obtained by incorporating an ultraviolet light absorption agent having a 350-370 nm maximum absorption wavelength (λ_UVmax) and a coloring agent having a 530-620 nm maximum absorption wave length (λ_VISmax) into a transparent resin e.g. an acrylic resin.
例えばアクリル樹脂などの透明樹脂に、最大吸収波長(λ_UVmax)が３５０〜３７０ｎｍである紫外線吸収剤、最大吸収波長(λ_VISmax)が５３０〜６２０ｎｍである着色剤および光拡散剤を含有させた樹脂組成物からなるシートである。 - 特許庁 - A transparent supporting body has an Re retardation value in 10-70 nm range and an Rth retardation value in 50-400 nm range.
透明支持体が、Ｒｅレターデーション値を１０乃至７０ｎｍの範囲に有し、かつＲthレターデーション値を５０乃至４００ｎｍの範囲に有し、該光学異方性層が、Ｒｅレターデーション値を１０乃至１００ｎｍの範囲に有し、かつ、下記式（Ｉ）および（II）を満足するものとする。 - 特許庁 - The resin composition for LED illumination cover has an absorption threshold wavelength of 470-530 nm when it is made a plate shape of thickness 2 mm, and has a transmissivity of light in wavelength 555-800 nm of 80% or more when it is made the plate shape of thickness 2 mm.
厚み２ｍｍの板状にしたときの吸収限界波長が４７０〜５３０ｎｍであり、かつ、厚み２ｍｍの板状にしたときの波長５５５〜８００ｎｍの光の透過率が８０％以上であるＬＥＤ照明カバー用樹脂組成物。 - 特許庁 - The invention relates to the lubricant composition obtained by dispersing a solid lubricant comprising a solid oiliness improver, diamond particle clusters with average particle diameter of about 15 nm which are aggregates of diamond particles of about 5 nm in average particle diameter covered with amorphous carbon, in a lower alcohol and packaged as an aerosol.
固体状の油性向上剤、及び無定形炭素で被覆された平均粒径約５ｎｍのダイヤモンド粒子の集合体である平均粒径約１５ｎｍのダイヤモンド粒子クラスターからなる固体潤滑剤を、低級アルコール中に分散し、エアゾール化した。 - 特許庁 - Each metallic grain 22 has a refractive index proportional to the square of wavelength λ within a range of 180 to 700 nm and respective metallic grains 12 are arranged at intervals allowing the grains 12 to effectively polarize light having wavelength within the range of 180 to 700 nm and passing these grains 22.
上記金属粒子２２は１８０ないし７００nmの範囲内の波長λの自乗に比例する屈折率を有し、これら金属粒子が、それを通過する１８０ないし７００nmの範囲内の波長を有する光を有効に偏光し得る間隔を有する。 - 特許庁 - To provide a method for producing a fibrous carbon having excellent electroconductivity, especially having a diameter of several 10 to several 100 nm, and suitable as an electrode material of a solid polymer-type fuel cell and a filler for various kinds of resin products without requiring a spinning step and an infusibilizing step.
紡糸工程及び不融化工程を必要とせず、導電性に優れ、特に直径が数十〜数百nmで、固体高分子型燃料電池の電極材料や、各種樹脂製品のフィラーとして好適な繊維状カーボンの製造方法を提供する。 - 特許庁 - The functional nanosructure has a supporting body 1 having a plurality of independent pores, where the diameters of opening parts are 50 to 600 nm and depths are not less than 100 nm and semiconductor fine grains 3 included in the pores.
開口部の口径が５０〜６００ｎｍで且つ深さが１００ｎｍ以上である互いに独立した複数の細孔を有する支持体１と、前記細孔に内包された半導体微粒子３とを有することを特徴とする機能性ナノ構造体である。 - 特許庁 - The production method can provide a porous titanium oxide powder having a maximum peak in the range of 2 to 50 nm in the fine pore distribution curve in the range of 1 to 100 nm, fine pores with diameter in the range of 0.5 to 3.0 μm, and exhibiting photocatalytic activity.
１〜１００ｎｍの範囲の細孔分布曲線において２〜５０ｎｍの範囲に最大ピークを有し、直径が０．５〜３．０μｍの範囲にある細孔を有し、かつ光触媒活性を呈することを特徴とする多孔質酸化チタン粉末を提供する。 - 特許庁 - The porous carbon material is produced by activating a carbon material having an average outer size of 10-100 nm, wherein the summation of the pore volumes of pores having a pore diameter of 0.5-5 nm measured by a nitrogen adsorption method is ≥15% of the total pore volume.
平均の外寸が１０から１００ナノメートルである炭素材料を賦活して作製される多孔質炭素材料は、窒素吸着法により得られる、０．５から５ナノメートルの細孔径における細孔容積の総和が、全細孔容積の１５％以上である。 - 特許庁 - To provide a silica/rare earth oxide combined powder capable of being easily pulverized and disintegrated in use, attaining excellent characteristics as a ceramic product and having <100 nm primary particle diameter and <500 nm average particle diameter and a method of manufacturing the same.
使用に際して十分に粉砕、解砕することが容易であり、セラミックス製品として良好な特性値が得られる一次粒子径が１００ｎｍ未満、平均粒子径が５００ｎｍ未満のシリカ・希土類酸化物複合体粉末及びその製造方法を提案する。 - 特許庁 - The high refractive index transparent particles are planar particles comprising a transparent metal oxide having a crystallite diameter of not more than 15 nm, with the outer diameter (D) of one principal face of not less than 500 nm and a ratio (D/t) of the outer diameter (D) to the thickness (t) of not less than 5.
本発明の高屈折率透明粒子は、結晶子径が１５ｎｍ以下の透明な金属酸化物からなる板状粒子であり、その一主面の外径（Ｄ）が５００ｎｍ以上、この外径（Ｄ）と厚み（ｔ）との比（Ｄ／ｔ）が５以上である。 - 特許庁 - There is also provided the process for the production of copper phthalocyanine fine particles that is in a crystal form other than α- or ε-form and that exhibits a wavelength (λmax) of shorter than 478 nm in the transmission spectrum in the region of 380-780 nm, the wavelength (λmax) being a wavelength at which the maximum transmittance appears.
また、α型およびε型の２種の型とは異なる結晶型であり、且つ、３８０〜７８０ｎｍにおける透過スペクトルの透過率が最大となる波長（λmax）が４７８ｎｍ未満である銅フタロシアニン微粒子の製造方法を提供する。 - 特許庁 - At this time, assuming that an overhang 101b is formed at a frontage of the via hole 33 after the seed layer 35a is formed, the via hole 33 when having, for example, an opening diameter ≤70 nm is made to have an opening diameter W2 of ≥20 nm after the seed layer 35a is formed.
その際、シード層３５ａ形成後に、ビアホール３３の間口にオーバーハング１０１ｂが形成されることを想定し、例えば開口径７０ｎｍ以下のビアホール３３であれば、シード層３５ａ形成後のビアホール３３の開口径Ｗ２を２０ｎｍ以上にする。 - 特許庁 - The composition of the polishing liquid for the hard disk substrate contains alumina particles, silica particles and water, wherein a volume medium particle diameter of the silica particle ranges from 20 to 150 nm and a content of the silica particles with a particle diameter of not larger than 10 nm in the silica particles ranges from 0.1 to 25 vol.%.
アルミナ粒子、シリカ粒子、及び水を含み、前記シリカ粒子の体積中位粒径が２０〜１５０ｎｍであり、前記シリカ粒子における粒径１０ｎｍ以下のシリカ粒子の含有量が０．１〜２５体積％であるハードディスク基板用研磨液組成物。 - 特許庁 - After completing shape forming of the diamond tip mounted on the distal end of the diamond cutting tool such as a diamond cutting tool, an ultrashort pulsed laser beam is cast to the surfaces of the diamond tip in contact with a workpiece so that a finely rugged surface having a periodic structure of 5 nm to 3,000 nm is formed.
ダイヤモンドバイトなどのダイヤモンド切削工具の先端に取り付けられるダイヤモンドチップの形状成形後にチップの加工物との接触面に超短パルスレーザ光を照射して５ｎｍないし３０００ｎｍの周期構造の微細凹凸面を形成する。 - 特許庁 - The anode active substance layers 22B contains silicon and the anode active substance having a micro-pore group (a fine pore group with a pore diameter of 3 nm or more and 50 nm or less) as well, and volume of the micro-pore group per a unit weight of silicon is 0.2 cm^3/g or less.
この負極活物質層２２Ｂは、ケイ素を含有すると共に微細孔群（３ｎｍ以上５０ｎｍ以下の孔径の細孔群）を有する負極活物質を含んでおり、ケイ素の単位重量当たりの微細孔群の容積は、０．２ｃｍ^3 ／ｇ以下である。 - 特許庁 - The showcase for heating and warming, includes a chamber having fine particles of tungstic oxide or tungstic oxide composite material on its inner surface, wherein the mean grain size of the fine particles is defined within a range from 1 nm to 200 nm and its aspect ratio is defined within a range of 1-3.5.
酸化タングステンまたは酸化タングステンの複合材の微粒子を庫内表面に具備する加熱保温用ショーケースにおいて、前記微粒子の平均粒径が１ｎｍから２００ｎｍの範囲であり、かつ微粒子のアスペクト比を１〜３．５の範囲とする。 - 特許庁 - An ultraviolet ray shielding layer containing a binder (a) and a metal oxide (d) 30-200 nm in an average primary particle size is laminated on a colored layer containing the binder (a), a coloring material (b), and a metal oxide (c) below 30 nm in an average primary particle size.
（ａ）バインダー、（ｂ）着色材料、（ｃ）平均一次粒子径が３０ｎｍ未満である金属酸化物、を含有する着色層の上に、（ａ）バインダー、（ｄ）平均一次粒子径が３０〜２００ｎｍである金属酸化物、を含有する紫外線遮蔽層を積層する。 - 特許庁 - The light diffusing composition has very low average total light transmittance of ultraviolet rays in the 310-370 nm wavelength region and has high diffusibility of visible rays in 400-780 nm wavelength region, by uniformly dispersing a zinc oxide crystal (zincite) in a binder.
酸化亜鉛結晶（ｚｉｎｃｉｔｅ）を結合材に均質に分散させることにより、３１０〜３７０ｎｍの紫外線の平均全光線透過率が極めて低く、４００ｎｍ〜７８０ｎｍの可視光線の拡散性が高い光拡散性組成物を提供できる。 - 特許庁 - To provide an inspection method of an optical film capable of accurately inspecting the defects of an optical film including a liquid crystal film, satisfying Re≤20 nm and |Rth|≥20 nm, when an in-plane phase difference is set to Re and a phase difference in the thickness direction is set to Rth.
面内位相差をＲｅ、厚さ方向の位相差をＲｔｈとしたとき、Ｒｅ≦２０ｎｍかつ｜Ｒｔｈ｜≧２０ｎｍを満たす液晶フィルムを含む光学フィルムの欠陥の検査を的確に行うことができる光学フィルムの検査方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a machining method by which both of ≤100 nm flatness and ≤0.15 nm RMS (Root-Mean-Square) of surface roughness are satisfied in a Ti-doped low thermally expansive quartz glass substrate for a reflection type photomask which is used in the exposure by a short wave in UV region or below.
ＵＶ領域以下の短波長の露光に用いられる反射型フォトマスク用Ｔｉドープ低熱膨張石英ガラス基板につき、平坦度≦１００ｎｍ、表面の自乗平均平方根粗さ≦０．１５ｎｍＲＭＳを同時に満足する加工法を提供する。 - 特許庁 - A first SiO film having a refractive index substantially equal to the refractive index of an acrylic resin substrate is formed to a thickness of about 200 nm on the substrate, and a second SiO film having a refractive index assuming a value falling within the range from 1.48 to 1.62 is formed to a thickness of about 200 nm on the first SiO film.
アクリルの基材上に、該アクリルと同程度の屈折率を有するＳｉＯ膜を約２００ｎｍの膜厚だけ形成し、その上に、１．４８〜１．６２の範囲内の値の屈折率を有するＳｉＯ膜を約２００ｎｍの膜厚だけ形成する。 - 特許庁 - A lighting system 23 is embedded in a handle section 11 to emit light having a peak wavelength of more than 380 nm and less than 550 nm from a light emitting section 22 formed on a bristle implanted surface 20 of a head section 10 through a light guiding section 12 in a neck section 12.
ハンドル部１１には光源装置２３が内蔵されており、３８０ｎｍ以上５５０ｎｍ以下のピーク波長を有する光が、ネック部１２内の導光部１２を介して、ヘッド部１０の植毛面２０に形成された出光部２２から出射される。 - 特許庁 - The magnetic recording medium exhibits a square ratio greater than 0.84, a front coating Wyko Ra (average roughness) value of less than 5.5 nm, preferably, less than 4.0 nm, and has a BBSNR of greater than 11dB at 151kfci.
磁気記録媒体は、０．８４よりも大きい角形比と、５．５ｎｍ未満、好ましくは４．０ｎｍ未満のフロントコーティングワイコ（Ｗｙｋｏ）Ｒａ（平均粗さ）値と、を呈し、しかもこの磁気媒体は、１５１ｋｆｃｉにおいて１１ｄＢよりも大きいＢＢＳＮＲを有する。 - 特許庁 - This transparent conductive film layered product 2 is composed of the transparent substrate layer 10 containing an olefin-based resin, and the conductive film layer 12 containing zinc oxide, and having a thickness of 10-150 nm, wherein light transmittance at a wavelength of 400 nm is not smaller than 70%.
本発明の透明導電膜積層体２は、オレフィン系樹脂を含む透明基板層１０と、酸化亜鉛を含む厚さ１０〜１５０ｎｍの導電膜層１２とから構成され、波長４００ｎｍでの光線透過率が７０％以上である。 - 特許庁
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