「nm」を含む例文一覧(14378)

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  • To provide silica-coated carbon fibers obtained by directly coating silica films on the surfaces of the carbon fibers having an average diameter of ≤200 nm.
    平均直径２００ｎｍ以下の炭素繊維の表面に、直接、シリカ膜を被覆したシリカ被覆炭素繊維を製造する。 - 特許庁
  • Another laser resonator oscillates a laser beam of wavelength 908 nm between an Nd:LiYF_4 crystal 11 and the output mirror 15.
    また、Ｎｄ：ＬｉＹＦ_４結晶１１と出力鏡１５の間を波長９０８ｎｍで発振するレーザ共振器とする。 - 特許庁
  • The colorless transparent and pale blue soda glass and the glass exclusive thereof are classified by light having a wavelength below 430 nm.
    ４３０ｎｍ以下の波長を有する光によって、無色透明および薄青色のソーダガラスと、それ以外のガラスとを分別する。 - 特許庁
  • A chromium film 19B of 20-50 nm thick is formed on both sides of the drive arm 15B of a gyro oscillation piece 10.
    ジャイロ振動片１０の駆動アーム１５Ｂの表裏面にクロム膜１９Ｂを２０ｎｍ〜５０ｎｍ程度の厚さに形成する。 - 特許庁
  • To provide a phthalocyanine compound having the maximum absorption wave length in a shorter wavelength region, particularly, in a range of about 640-750 nm.
    より短波長領域、特に６４０〜７５０ｎｍ付近に最大吸収波長を有するフタロシアニン化合物を提供する。 - 特許庁
  • The aqueous dispersion liquid preferably has a transmittance of ≥80% in a wavelength region of visible light (400-800 nm).
    この水性分散液の可視光の波長領域（４００〜８００ｎｍ）における透過率は好適には８０％以上である。 - 特許庁
  • To provide a synthesized quartz glass without decrease of transmission factor by an ultraviolet irradiation of wavelength 150-200 nm and the manufacturing method.
    波長１５０〜２００ｎｍの紫外線を照射しても透過率が低下しない合成石英ガラスとその製造方法の提供。 - 特許庁
  • To provide a fluorine molecule (F2) laser system which can be controlled, based on the detection of a single pulse energy of 157 nm.
    １５７ｎｍの単一パルスエネルギーを検出し、それに基づいて動作制御可能なフッ素分子（Ｆ_2）レーザシステムを提供する。 - 特許庁
  • More specifically, a nonwoven fabric containing ceramic fibers having an average fiber diameter of 10-1,000 nm is employed as the separator for capacitor.
    すなわち、平均繊維径が１０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下のセラミック繊維を含有する不織布をキャパシタ用セパレータとする。 - 特許庁
  • To form an air outflow step (10 nm or less) on a flying surface of a magnetic head slider with high precision and sufficient reproducibility.
    磁気ヘッドスライダの浮上面における空気流出側段差（１０ｎｍ以下）を高精度に、かつ再現性良く形成する。 - 特許庁
  • The magnetic particles having a mean particle diameter of 5 nm or more and 1 μm or less comprises yttrium-iron-garnet (Y_3Fe_5O_12).
    また、本発明の磁性粒子は、５ｎｍ以上１μｍ以下の平均粒径を有するイットリウム・鉄・ガーネット（Ｙ_３Ｆｅ_５Ｏ_１２）である。 - 特許庁
  • The second oxide semiconductor layer 543 is composed of a Zn oxide semiconductor, and has a thickness within a range of 0.1-1.0 nm.
    第２の酸化物半導体層５４３は、Ｚｎ酸化物半導体よりなり、０．１〜１．０ｎｍの範囲内の厚みを有している。 - 特許庁
  • The first oxide semiconductor layer 542 is composed of a Ga oxide semiconductor, and has a thickness within a range of 0.5-2.0 nm.
    第１の酸化物半導体層５４２は、Ｇａ酸化物半導体よりなり、０．５〜２．０ｎｍの範囲内の厚みを有している。 - 特許庁
  • In the semiconductor substrate, an Si_1-xGe_x epitaxial layer in a thickness of approximately 100 nm is grown on the Si substrate.
    半導体基板は、例えばＳｉ基板上に、厚さが１００ｎｍ程度のＳｉ_1-xＧｅ_xエピタキシャル層を成長させたものである。 - 特許庁
  • The diffraction grating 15a transmits light in the band of 780 nm while the diffraction grating 15b divides the light into zero-order light and ±one-order diffracted light.
    ７８０ｎｍ帯の光は回折格子１５ａは透過し、回折格子１５ｂで０次光、±１次回折光に分割される。 - 特許庁
  • The light transmittance per 1,000 Å thickness of the silicon nitride film, with respect to light with a wavelength of 500 nm, is 85% or higher.
    波長５００ｎｍの光に対する厚さ１０００Å当りの窒化シリコン膜の透過率は８５％以上となる。 - 特許庁
  • To give cut-off workability of light with wavelength of 590 nm out of light of plasma-optical emission of neon to a filter for plasma display panel.
    プラズマディスプレイパネル用フィルターに対し、ネオンのプラズマ発光光の中の波長５９０ｎｍの光のカット性を付与する。 - 特許庁
  • The average particle size of the copper fine particles is 0.1 to 10 nm, and, the surface is coated in a state in which the diethanolamine is coordinated to copper.
    この銅微粒子の平均粒径は0.1〜10nmであり、その表面は、ジエタノールアミンが銅に配位したかたちで被覆されている。 - 特許庁
  • The particles 10 are formed so that the average size of crystallites 1 found by the X-ray diffraction method is ≥30 nm.
    金属磁性粒子１０は、Ｘ線回折法によって求められる結晶子１の平均の大きさが３０ｎｍ以上である。 - 特許庁
  • To provide a positive resist composition excellent in resolution and transmittance to light of ≤170 nm wavelength in exposure.
    露光時の解像度および１７０ｎｍ以下の波長の光に対する透過率に優れたポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁
  • The reaction of the phytochrome having the peak in the vicinity of 660 nm wavelength is controlled to take flowering accelerating effects on long-day plants.
    波長６６０ｎｍ付近をピークとするフィトクロームの反応を抑制させて長日植物の開花促進効果を奏する。 - 特許庁
  • The diffraction grating 15a divides light in the band of 650 nm into zero-order light and ±one-order diffracted light while the diffraction grating 15b transmits the light.
    ６５０ｎｍ帯の光は回折格子１５ａで０次光、±１次回折光に分割され、回折格子１５ｂは透過する。 - 特許庁
  • An easy-to-tear aliphatic polyester film has ≥1,500 molecular extinction coefficient at 205 nm wavelength.
    波長２０５ｎｍにおける分子吸光係数が１５００以上であることを特徴とする易引裂き性脂肪族ポリエステルフィルム。 - 特許庁
  • The image display apparatus 1 is constituted through the use of the glass substrate 3 having a reflectance of 5% or less in a wavelength of 220 nm.
    波長２２０ｎｍにおける反射率が５％以下であるガラス基板３を用いて画像表示装置１を構成する。 - 特許庁
  • The fluorite is characterized in that the internal transmittance to light having the wavelength of 135 nm is ≥70%.
    本発明の蛍石は、１３５ｎｍの波長の光に対する内部透過率が７０％以上であることを特徴とする。 - 特許庁
  • To develop a synthesis method where ferrite particulates with the particle diameter of 30 to several 100 nm can be synthesized in a continuous system.
    粒径が３０ｎｍから数１００ｎｍのフェライト微粒子を連続式で合成することのできる合成方法を開発する。 - 特許庁
  • The present invention enables fluorescent measurement of nucleic acid stably and with high efficiency using light with the wavelength of about 500 nm.
    本発明により、波長５００ｎｍ付近の光を用いて、高効率、且つ安定に核酸を蛍光測定することができる。 - 特許庁
  • The composition for adhesion processing of fiber comprises inorganic powder and a fine particle compound having 1-100 nm average particle diameter.
    無機系粉末と平均粒径が１〜１００ｎｍの微粒子化合物とを含有する繊維附着加工用組成物である。 - 特許庁
  • To provide a recordable-type optical recording medium capable of satisfactorily recording and reproducing by a laser having a wavelength of 400 to 500 nm.
    波長４００ｎｍ〜５００ｎｍのレーザーで良好な記録および再生が可能な追記型光記録媒体を提供する。 - 特許庁
  • To provide a manufacturing apparatus capable of obtaining quartz glass having high light transmittance of ≤250 nm wave length easily and at high yield.
    ２５０nm波長以下の光透過率が高い石英ガラスを容易、かつ歩留まりよく得ることができる製造装置の提供。 - 特許庁
  • Preferably, the outer diameter of the titanium dioxide microparticle is 0.1-5 μm, and the diameter of the spherical void is 50-1,000 nm.
    この発明において、二酸化チタン微粒子は、その粒子外径は0.1〜5μmであり、その球状の空孔の径は50〜1000nmであるのがよい。 - 特許庁
  • The inorganic material films 4A and 4A' have ≤20% maximum light absorption ratio in 300 to 500 nm wavelength region.
    無機材料膜４Ａ、４Ａ’は、３００〜５００ｎｍの波長領域の光の最大吸収率が２０％以下のものである。 - 特許庁
  • A length of the gate electrode PO in a direction from one of the pair of source/drain regions to the other is less than 45 nm.
    上記１対のソース／ドレイン領域の一方から他方へ向かう方向のゲート電極ＰＯの長さは４５ｎｍ未満である。 - 特許庁
  • The average particle diameter(Dp) of an inorganic oxide fine particle containing the oxidation active component is preferably 3-500 nm.
    酸化活性成分を含有する無機酸化物微粒子の平均粒子径（Ｄｐ）は、３〜５００ｎｍの範囲にある事が望ましい。 - 特許庁
  • The dye preparation for green comprises an antioxidant having an absorption between the wavelength range of 320-420 nm and a green dye.
    ３２０〜４２０ｎｍの波長領域に吸収を有する酸化防止剤と青色色素を含有する緑色用色素製剤。 - 特許庁
  • The resultant ultraviolet ray-shielding fabric can shield more than about 90% of the ultraviolet rays having the wavelength of 350 nm in the sunshine.
    紫外線遮蔽率が太陽光中の波長約350ｎｍの紫外線を約９０％以上遮蔽する紫外線遮蔽布帛。 - 特許庁
  • The nickel hydroxide hexagonal plate has a crystal structure of β type and a thickness of 20-500 nm.
    該水酸化ニッケルヘキサゴナルプレートは結晶構造がβ型であり、厚さが２０〜５００ｎｍである、水酸化ニッケルヘキサゴナルプレートである。 - 特許庁
  • The polyolefin based thermoplastic resin preferably contains ≥1 wt.% of polyolefin having a molecular chain length of ≥2850 nm.
    ポリオレフィン系熱可塑性樹脂は、分子鎖長が２８５０ｎｍ以上のポリオレフィンを１重量％以上含むことが好ましい。 - 特許庁
  • To provide an ITO film having a surface roughness (Ra) of ≤1 nm without any new manufacturing step such as a polishing step.
    研磨のような新たな製造工程を経ること無く表面粗さ（Ｒａ）が１ｎｍ以下であるＩＴＯ膜を提供すること。 - 特許庁
  • It is preferable that the primary particle diameter of the colloidal silica is 5-40 nm, and the shape is a chain-like shape or an associated shape.
    前記コロイダルシリカが、一次粒子径が５〜４０ｎｍであり、形状が鎖状又は会合状であることが好ましい。 - 特許庁
  • The light-emitting layer of the light-emitting element 102 has a main output peak range from near the ultraviolet light of 550 nm or shorter wavelength to visible light.
    特に、発光素子１０１の発光層が５５０ｎｍ以下の近紫外光から可視光に主発光ピークを発する。 - 特許庁
  • The seed disinfectant contains a Japanese cypress oil and an emulsifying agent having an HLB value of ≥15 and has emulsion particle diameters of ≤200 nm.
    ヒバ油とＨＬＢ値１５以上の乳化剤とを含有してなる、エマルション粒径２００ｎｍ以下の種子消毒剤を用いる。 - 特許庁
  • The sheet resistivity of the conductive glass is 1-0.01 Ω/square and the light transmission rate at the wave length of 550 nm is 60-90%.
    また、導電性ガラスのシート抵抗は１〜０．０１Ω／□、波長５５０ｎｍでの光線透過率が６０〜９０％である。 - 特許庁
  • The resin has a glass transition temperature (Tg) of -5°C or lower and is fine particles having a mean particle size of 200 nm or less.
    また、前記合成樹脂は、ガラス転移温度（Ｔｇ）が−５℃以下であって平均粒子径が２００ｎｍ以下の微粒子である。 - 特許庁
  • The first retardation plate 2 is a three-quarter-wave plate and the second retardation plate 5 is a retardation plate having 415-480 nm phase difference.
    第１位相差板２は３／４波長板であり、第２位相差板５は、位相差値が４１５〜４８０ｎｍの位相差板である。 - 特許庁
  • To provide an insulation film having superior withstand voltage and step coating properties at ≤50 nm film thickness in a deposition method.
    絶縁膜の製造方法に関し、５０ｎｍ以下の膜厚においてより優れた絶縁耐圧と段差被覆性を実現する。 - 特許庁
  • To provide a method for manufacturing a stable colloidal liquid in which metallic oxide particles of 1 to 10 nm size are uniformly dispersed.
    １〜1０ｎｍサイズの金属酸化物の粒子が均一に分散されてなる、安定なコロイド液を製造する方法を提供する。 - 特許庁
  • The number Ns is corrected on the basis of a deviation of the number Ns from the number Nm within a prescribed time period.
    推定回転数Ｎｓは、回転数Ｎｍ及び推定回転数Ｎｓの所定時間内での偏差に基づき補正される。 - 特許庁
  • To realize the floating amount of 5 nm by bringing a head element into contact with the surface of a recording medium, and maintaining contact stably.
    浮上量５ｎｍを実現するために、ヘッド素子を記録媒体表面に接触させ、その接触を安定に維持する。 - 特許庁
  • Fine particles 3a-3f comprising an electric conductor and having ≤100 nm diameter are formed on the stepped part by vapor-depositing the electric conductor on the surface of the substrate 8 by electron beam vapor deposition.
    段差部に導電体からなり１００ｎｍ以下の直径を有する微小粒子３ａ〜３ｆを形成する。 - 特許庁
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