「nm」を含む例文一覧(14378)
＜前へ 1 2 .... 71 72 73 74 75 76 77 78 79 .... 287 288 次へ＞- Among the pores, pores having the longest diameter (L) in a range of 300 to 1,600 nm account for 80-100%, pores having the longest diameter (L) of less than 300 nm account for less than 8%, and pores having the longest diameter (L) of more than 1,600 nm account for less than 12%.
３）該ＣａＭｎＯ_３型熱電変換材料の断面写真において、単位面積（１００μｍ^２）当り存在する空孔の個数が４０〜６０個であり、そのうち最長径（Ｌ）が３００〜１６００ｎｍの範囲にある空孔が８０〜１００％、最長径（Ｌ）が３００ｎｍ未満の空孔が８％未満、最長径（Ｌ）が１６００ｎｍを超える空孔が１２％未満である。 - 特許庁 - The optical laminate of the present invention has a base film having an in-plane retardation Re of 10 nm or less, a thickness direction retardation Rth of 15 nm or less and a light transmittance of 15% or less in a wavelength of 380 nm; and an intermediate layer containing a urethane resin and being formed on the base film; and a surface treatment layer formed on the intermediate layer.
本発明の光学積層体は、面内位相差Ｒｅが１０ｎｍ以下であり、厚み方向位相差Ｒｔｈが１５ｎｍ以下であり、かつ、波長３８０ｎｍにおける光の透過率が１５％以下である基材フィルムと；基材フィルム上に形成された、ウレタン樹脂を含む中間層と；中間層上に形成された表面処理層と；を有する。 - 特許庁 - A crystallite size is within a range from 1 nm to 20 nm, and metal oxide particulates containing a noble metal element such as platinum element (metal oxide particles which are expressed by a general formula MOx and in which one part of the metal element M is replaced by a different kind of noble metal element from M) is made to be carried by carbon particles of the average particle diameter of 20 to 70 nm.
結晶子サイズが１ｎｍから２０ｎｍの範囲にあり、かつ、白金元素等の貴金属元素を含有した金属酸化物微粒子（一般式ＭＯｘで表され且つこのうちの金属元素Ｍの一部がＭとは異種の貴金属元素で置換されている金属酸化物粒子）を、平均粒子径が２０〜７０ｎｍのカーボン粒子に担持させた構成とする。 - 特許庁 - The infra-red absorption filter of light absorption type is constituted of five different kinds or more of methine dyes, with a maximum rate of transmittance preferably being 15% or less in the dimension of from 700 nm to 1,100 nm, with the rate of transmittance at 650 nm being more preferably 40% or more, while the methine dye being, further preferably, a cyanine dye and/or oxonol dye.
５種類以上のメチン染料から構成されている光吸収型赤外光吸収フィルター、７００ｎｍから１，１００ｎｍの範囲における最大透過率が１５％以下であることが好ましく、６５０ｎｍの透過率が４０％以上であることがより好ましく、前記メチン染料がシアニン染料、及び／又はオキソノール染料であることがさらに好ましい。 - 特許庁 - This nickel electrode for the alkaline storage battery includes a positive electrode containing a positive electrode active material mainly composed of nickel hydroxide, and a compound including at least one of elements among erbium(Er), thulium(Tm), ytterbium(Yb) and ruthenium(Lu), having a diffraction peak with d=88 nm, d=84 nm and d=76 nm in the X-ray diffraction pattern by Kα line of Co.
正極を水酸化ニッケルを主成分とする正極活物質と、ＣｏのＫα線によるＸ線回折図において、ｄ＝８８ｎｍ、ｄ＝８４ｎｍおよびｄ＝７６ｎｍに回折ピークを有するエルビウム（Ｅｒ）、ツリウム（Ｔｍ）、イッテルビウム（Ｙｂ）およびルテチウム（Ｌｕ）の中少なくとも一種の元素を含む化合物を含有することを特徴とするアルカリ蓄電池用ニッケル電極とする。 - 特許庁 - A film having 90 to 350 nm retardation at 550 nm wavelength is manufactured by preparing a sheet by molding a vinyl alicyclic hydrocarbon polymer resin and having ≤50 nm retardation at 550 wavelength and stretching the above sheet in at least one direction by 1 to 4 times of elongation magnitude in the temperature range of Tg±50°C with respect to the glass transition temperature (Tg) of the vinyl alicyclic hydrocarbon polymer resin.
ビニル脂環式炭化水素重合体樹脂を成形してなる、波長５５０ｎｍのレターデーションが５０ｎｍ以下であるシートを、該ビニル脂環式炭化水素重合体樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）に対してＴｇ±５０℃の温度範囲で、少なくとも一方向に１〜４倍の延伸倍率で延伸して、波長５５０ｎｍにおけるレターデーションが９０〜３５０ｎｍのフィルムを製造する - 特許庁 - Therefore, the signal output from the first detecting part PDA becomes larger than the signal output from the second detecting part PDB, since a controller CPU inputting these signals judges that light source wavelength is higher than 405 nm (e.g. 410 nm), a collimation lens CL is shifted to a position being suitable for the case in which the light source wavelength is 410 nm.
従って、第１の検出部ＰＤＡから出力された信号は、第２の検出部ＰＤＢから出力された信号より大きくなり、これらを入力したコントローラＣＰＵは、信号の差分をとることで光源波長が４０５ｎｍより高い（例えば４１０ｎｍ）と判断できるので、コリメートレンズＣＬを、光源波長が４１０ｎｍである場合に適した位置へとシフトさせる。 - 特許庁 - The glass material contains a light absorbing substance having intrinsic absorption in a wavelength region shorter than 600 nm and no intrinsic absorption in the wavelength region from 600 nm to less than 2,000 nm, for example, either germanium oxide or tin oxide or an oxide containing the combination of these having a group IV element having higher ionization tendency added to the above oxide.
６００ｎｍより短い波長範囲において固有吸収が存在しかつ波長６００ｎｍ以上２０００ｎｍ未満の波長範囲において固有吸収が存在しない吸収物質、例えば酸化ゲルマニウムと酸化スズのいずれか一つあるいはそれらの組合せからなる酸化物に、よりイオン化傾向の高い周期律表ＩＶ属元素を添加したもの等を含むガラス材料。 - 特許庁 - The regions 52 and 54 have projections, the height d of the projection is about 730 nm, and the thickness of quartz 50 is 0.5 mm.
領域５２，５４は、突起物から成り、突起物の高さｄは約７３０ｎｍであり、石英５０の厚さは０．５ｍｍである。 - 特許庁 - The pH is ≥4 and ≤9, and each polishing speed of the insulation film and a conductive film is ≤10 nm/min.
ｐＨが４以上９以下であり、絶縁膜および導電膜の研磨速度が１０ｎｍ／ｍｉｎ以下であることを特徴とする。 - 特許庁 - The low-voltage mercury vapor lamp 16 irradiates the rear side of the LCD substrate 12 (opposite side of the working surface) with a light of 254 nm.
低圧水銀ランプ１６は、ＬＣＤ基板１２の裏面側（加工面の反対側）に向けて２５４ｎｍの光を照射する。 - 特許庁 - The average primary particle size for the particles over 10 wt.% converted as solid content among (B) component exists within 35-150 nm.
（Ｂ）成分のうち固形分換算で１０重量％以上のものの平均一次粒子径が３５〜１５０ｎｍの範囲である。 - 特許庁 - The NM 115 also sets a CoA in a binding update message 205 and directly notifies a CN 106 of the location of the UE 101.
また、ＭＮ１１５は、ＣｏＡを結合更新メッセージ２０５に設定して、ＵＥ１０１の位置を直接ＣＮ１０６に通知する。 - 特許庁 - The magnetic particles are preferably nanoparticles having ≤20 nm particle diameter and can be gathered into a specific part in vivo by magnetic force.
磁性粒子は２０ｎｍ以下のナノ粒子よりなり、磁力によって生体内の特定の部位へ集合させることができる。 - 特許庁 - The average diameter of the ZnO needle crystal 13 is set to be 300 nm or less, and the aspect ratio is set to be 20 or more.
また、前記ＺｎＯ針状結晶１３の平均径を３００ｎｍ以下とし、且つアスペクト比を２０以上としている。 - 特許庁 - The pH is ≥4 and ≤9 and each polishing speed of the insulating film and a conductive film is ≤10 nm/min.
ｐＨは４以上９以下であり、絶縁膜および導電膜の研磨速度は１０ｎｍ／ｍｉｎ以下であることを特徴とする。 - 特許庁 - The microcomputer 21 computes the actual number Nm of the revolutions of the motor 12 according to a detection value from a number-of- revolution sensor 16.
マイコン２１は、回転数センサ１６からの検出値に基づき直流モータ１２の実際の回転数Ｎｍを検出する。 - 特許庁 - Preferably, the average pore size of the silica of the silica layer is ≤50 nm and the specific surface area is 100-1,000 m^2/g.
好ましくは、シリカ層のシリカの平均細孔径を、５０ｎｍ以下とし、比表面積を１００〜１０００ｍ^２／ｇとする。 - 特許庁 - Specially, a light emission layer of the light emitting element 101 has its main light emission peak in a range of near-ultraviolet light below 550 nm to visible light.
特に、発光素子１０１の発光層が５５０ｎｍ以下の近紫外光から可視光に主発光ピークを発する。 - 特許庁 - The openings penetrate through the metal portion along the direction and have a circle-equivalent diameter ranging from 10 nm or more to 5 μm or less.
開口部は、前記方向に沿って前記金属部を貫通し、円相当直径が１０ｎｍ以上、５μｍ以下である。 - 特許庁 - The amorphous transparent film is transparent at least at a visible range, haze value is 1% or less and retardation value is 20 nm or less.
非晶質透明フィルムは、少なくとも可視域で透明であり、ヘイズ値が１％以下で、リタデーション値が２０ｎｍ以下である。 - 特許庁 - A surface roughness Ra of the main surface E1 and the side surfaces E3 of the current collecting part 3c is 300-800 nm inclusive.
集電部３ｃの主面Ｅ１および側面Ｅ３の表面粗度Ｒａは、３００ｎｍ以上８００ｎｍ以下である。 - 特許庁 - The resin composition is produced by admixing inorganic needles having an average length of 10 to 2,000 nm measured in the form of primary particle.
熱可塑性樹脂に、一次粒子の平均長さが１０〜２０００ｎｍである針状無機物を含んでなる樹脂組成物。 - 特許庁 - To provide a light shielding body which is reduced in light transmissivity when radiating light rays including ultraviolet rays of 280-380 nm wavelength, but can be restored into the original transmissivity by being heated after the transmissivity is reduced.
波長２８０〜３８０ｎｍの範囲の紫外線を含む光を照射すると、光の透過率が減少する。 - 特許庁 - Ultrafine particles of fumed silica, the mean particle diameter of whose primary particles is about 10 nm, are oil-hydraulically pressed into a pressure-formed body.
一次粒子の平均粒径が１０ｎｍ程度の超微粒子のフュームドシリカを油圧プレスして加圧成形体を形成する。 - 特許庁 - The polymer fine particle is preferably emulsified in the clear ink composition and of an average particle diameter of 70 nm or more.
ポリマー微粒子は、クリアインク組成物中においてエマルジョンを形成し、平均粒子径が７０ｎｍ以上であることが好ましい。 - 特許庁 - |n_2-n_1|≤0.02 (a) (in the said formula, the refraction factors n_1, n_2 are measured at 25°C using a 589-nm wavelength of sodium D-ray.
│ｎ_2−ｎ_1│≦０．０２ （ａ） （上記式中、屈折率ｎ_1及びｎ_2は２５℃、ナトリウムＤ線の波長５８９ｎｍで測定する） - 特許庁 - A Y_2O_3 film is obtained by drying and heat-treating a Y_2O_3 slurry having a volume average particle diameter, in a dispersed state, of 10-300 nm.
分散時の体積平均粒径が１０ｎｍ〜３００ｎｍであるＹ_2Ｏ_3スラリーを乾燥、熱処理して得られてなるＹ_2Ｏ_3皮膜。 - 特許庁 - The wavelength of the ultraviolet ray is preferably 340-380 nm for excitation, and the light source is preferably an L light source for excitation.
史が戦の波長としては、３４０〜３８０ｎｍが好ましく例示でき、高原としてはＬ光源が好ましく例示できる。 - 特許庁 - The facing material contains fire-resistant aggregate, water or a lower alcohol and silica sol of an average particle size not smaller than 40 nm.
この塗型剤は、耐火性骨材と、水又は低級アルコールと、平均粒子径が４０ｎｍ以上であるシリカゾルとを含有する。 - 特許庁 - To provide a curable composition which is high in light permeability to light of about 400 nm just after it is cured by ultraviolet rays or the like.
紫外線等によって硬化させた直後の、４００ｎｍ程度の光に対する透過率が高い硬化性組成を提供。 - 特許庁 - The adhesive layer has a thickness of ≥0.3 nm and is an oxide film including at least one element selected from elements contained in the lower electrode.
密着層は、膜厚が０．３ｎｍ以上で下部電極の構成元素の少なくとも一部を含有する酸化膜である。 - 特許庁 - A resist film 102 having a film thickness of ≤50 nm is formed from a positive-type chemically amplified resist material onto a substrate 101.
まず、基板１０１の上に、ポジ型の化学増幅型レジスト材料から膜厚が５０ｎｍ以下のレジスト膜１０２を形成する。 - 特許庁 - To provide an omnidirectional reflector for reflecting an electromagnetic wave band less than 100 nm when viewed from an angle of 0 degree to 45 degrees.
０度から４５度の角度から見た場合に１００ｎｍ未満の電磁波バンドを反射する全方向反射器を提供する。 - 特許庁 - An aspect ratio of the structure is 0.2 to 1.28, and film thickness of the transparent conductive film is 9-50 nm.
構造体のアスペクト比が、０．２以上１．２８以下であり、透明導電膜の膜厚が、９ｎｍ以上５０ｎｍ以下である。 - 特許庁 - A white pigment having absorption in a wavelength region of 800-1,000 nm is applied to the predetermined position of the inkjet recording medium.
インクジェット記録媒体の所定の位置に８００〜１０００ｎｍの波長域に吸収を持つ白色顔料を付与する。 - 特許庁 - Content ratio of the inorganic fine particles in the ultraviolet shielding layer 13 is 40-80 vol%, and thickness is 400 nm or less.
紫外線遮蔽層１３の無機微粒子の含有割合は４０〜８０ｖｏｌ％であり、厚みは４００ｎｍ以下である。 - 特許庁 - High-concentration amorphous fibroin is produced, and then adjusted into ultrafine particle water emulsion whose average particle diameter is ≤200 nm.
高濃度非結晶性フィブロインを作成した後、平均粒子径２００ｎｍ以下の超微細粒子水乳化物に調整する。 - 特許庁 - To provide a liquid crystal optical modulation element capable of stably modulating a laser beam having a wavelength of at most 500 nm for a long period of time.
波長５００ｎｍ以下のレーザー光を長期に渡って安定に変調可能な液晶光変調素子の提供。 - 特許庁 - Further, the light storage layer 7 contains green phosphor which emits green light of main wavelength of 490-550 nm.
さらに、蓄光体層７は、主波長が４９０ｎｍ〜５５０ｎｍの緑色光を発する緑色系蛍光体を含有する。 - 特許庁 - To provide a method for producing gold particles by which a large number of large gold particles having a particle size of ≥350 nm are generated.
３５０ｎｍ以上の粒径を有する大型金微粒子を多数生成できる金微粒子の製造方法を提供する。 - 特許庁 - Preferably the hollow inorganic particle has a particle diameter of 20 to 150 nm and is a hollow silica particle.
前記中空無機粒子は、粒子径が２０ｎｍ〜１５０ｎｍであることが好ましく、中空シリカ粒子であることが好ましい。 - 特許庁 - The nanofibers are characterized by containing polyvinyl alcohol and an acid-modified polyolefin resin and having an average fiber diameter of 10 to 3,000 nm.
ポリビニルアルコールと酸変性ポリオレフィン樹脂を含有し、平均繊維径が１０〜３０００ｎｍであることを特徴とするナノファイバー。 - 特許庁 - To provide a group III nitride semiconductor laser diode capable of performing laser oscillation of light not less than 500 nm by semipolar surfaces.
半極性面を用いて５００ｎｍ以上の光のレーザ発振可能なIII族窒化物半導体レーザダイオードを提供する。 - 特許庁 - A light source (second light source) of a light source circuit 122b emits light where a main wavelength is 570-600 nm.
光源回路１２２ｂの光源（第二の光源）は、主波長が５７０ナノメートル以上６００ナノメートル以下である光を放射する。 - 特許庁 - To demonstrate appropriate emission luminance even for the light in the band between ultraviolet of wavelength 500 nm or less and blue.
波長５００ｎｍ以下の紫外〜青色領域の光においても、良好な発光輝度を発揮させることを目的とする。 - 特許庁 - The nano-sized fine particles may be fine particles of a metal oxide (in particular, silica fine particles having an average primary particle diameter of 1 to 50 nm).
前記ナノサイズの微粒子は、金属酸化物微粒子（特に、平均一次粒径１〜５０ｎｍのシリカ微粒子）であってもよい。 - 特許庁 - A power stabilization capacitive element C_2 uses a thin gate oxide film (9A) ≤3 nm to reduce its area.
一方、電源安定化容量素子Ｃ_２は、その面積を小さくするために、３ｎｍ以下の薄いゲート酸化膜（９Ａ）を使用する。 - 特許庁 - The imprint agent 2 is next irradiated with light with a wavelength of 248 nm, and brought into a full-cured state by reacting the second photosensitive agent.
次に、波長が２４８ｎｍの光を照射し、第２の感光剤を反応させて、インプリント剤２を全硬化状態とする。 - 特許庁 - The Pt thin film electrode catalyst has a Pt thin film formed on a base layer composed of columnar crystal, preferably having a film thickness of 0.27-200 nm.
柱状結晶から構成された下地層の上にＰｔ薄膜が形成された、Ｐｔ薄膜電極触媒である。 - 特許庁
- 特許庁
- Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
