「nm」を含む例文一覧(14378)
＜前へ 1 2 .... 68 69 70 71 72 73 74 75 76 .... 287 288 次へ＞- A straight waveguide 10 that emits a laser beam of 780-nm wavelength and a straight waveguide 20 that emits a laser beam of 650-nm wavelength are constructed on a single chip with respective series of epitaxial layers, each depending on respective specifications of each laser element.
１つのチップ上に、波長が７８０ｎｍのレーザビームを発するストライプ型の導波路１０と、波長が６５０ｎｍのレーザビームを発するストライプ型の導波路２０とを、各レーザ素子部の仕様による一連のエピタキシャル層として構成する。 - 特許庁 - As laser light for marking, either laser light with a wavelength of 532 nm obtained by taking out second harmonic of Nd:YAG laser or laser light with a wavelength of 355 nm obtained by taking out third harmonic of the same laser is used.
マーキング用レーザ光として、Ｎｄ：ＹＡＧレーザの第２高調波を取り出して得られる波長が５３２ナノメートルのレーザ光、又は同レーザの第３高調波を取り出して得られる波長が３５５ナノメートルのレーザ光の、いずれかを用いる。 - 特許庁 - In the organic electroluminescent element having a light-emitting layer between a first electrode and a second electrode, a buffer layer with 0.1 nm to 100 nm thickness containing carbon based compound is provided between the light emitting layer and the first electrode.
第１電極と第２電極との間に発光層が備えられる有機電界発光素子において、発光層と第１電極との間に、炭素系化合物を含む厚さ０．１ｎｍから１００ｎｍのバッファ層を備える有機電界発光素子である。 - 特許庁 - Then, a laser beam with a pulse width of 1 fs to 10 ps and a wavelength of 370 to 640 nm is applied to selectively activate only the amorphous portion and form the extension region with thickness of 20 nm or less.
そして、パルス幅が１ｆｓ以上１０ｐｓ以下、かつ波長が３７０ｎｍ以上６４０ｎｍ以下のレーザビームを照射することにより、アモルファス化した部分のみを選択的に活性化させ、エクステンション領域を２０ｎｍ以下の厚さで形成する。 - 特許庁 - The light transmitting member 3 has a transmission part 4 transmitting light in an area of a high wavelength ultraviolet having a wavelength of at least almost 340-380 nm, and a shielding part 5 shielding light in an area of ultraviolet having the wavelength of almost ≤400 nm.
光透過性部材３は、少なくとも略３４０〜３８０ｎｍの波長の高波長紫外線領域の光を透過する透過部４と、略４００ｎｍ以下の波長の紫外線領域の光を遮蔽する遮蔽部５と、を有する。 - 特許庁 - The indium regulating layer, having film thickness of 10 nm to 200 nm, contains an associate of a donor-natured molecule including polythiophene and its derivative and an acceptor-natured molecule including polystyrenesulfonic acid and its derivative.
前記インジウム調整層は、ポリチオフェンおよびその誘導体を含むドナー性分子とポリスチレンスルホン酸およびその誘導体を含むアクセプタ性分子との会合体、および10ng/g以上300ng/g以下のインジウムを含有し、膜厚10nm以上200nm以下の層であることを特徴とする。 - 特許庁 - A formed body 2D is obtained by adding silica alumina fibers 4A of the mean fiber diameter of 0.8 μm to mixed powder 3A of dry silica of the mean primary grain size of 7 nm and carbon black of the mean grain size of 42 nm, mixing it, placing it in a forming die, and pressing it.
平均一次粒子径７ｎｍの乾式シリカと平均粒径４２ｎｍのカーボンブラックの混合粉末３Ａに、平均繊維径０．８μｍのシリカアルミナ繊維４Ａを添加し混合後、成形型に入れて加圧し、成形体２Ｄを得る。 - 特許庁 - In the wavelength filter, a silicon filament core 102 is formed so that, for example, its cross-sectional shape is a rectangle wherein the length (width) of a lower clad 101 in a plane direction is 460 nm and the length (height) of a plane of the lower clad 101 in a normal direction is 200 nm.
この中で、シリコン細線コア１０２は、例えば、断面形状が下部クラッド１０１の平面方向の長さ（幅）４６０ｎｍ，下部クラッド１０１の平面の法線方向の長さ（高さ）２００ｎｍの長方形に形成されている。 - 特許庁 - The noncrystalline thermoplastic resin is used, the residual phase difference (R_e) in the plane and the residual phase difference (R_th) in the thickness direction are ≤10 nm, and residual phase difference unevenness (ΔR_e) in the plane and residual phase difference unevenness (ΔR_th) in the thickness direction are ≤5 nm.
非晶性熱可塑性樹脂を用い、面内の残留位相差（Ｒ_e）及び厚み方向の残留位相差（Ｒ_th）を１０ｎｍ以下とし、かつ面内の残留位相差むら（ΔＲ_e）及び厚み方向の残留位相差むら（ΔＲ_th）が５ｎｍ以下とする。 - 特許庁 - A hardly soluble mesoporous material having a fine pore of an average diameter of 2-50 nm and a specific surface area of 100-1,400 m^2/g is carried with a nano-particle comprising a platinum particle having an average particle diameter of 1-20 nm and/or an iridium particle as a main catalyst at 0.01-20 mass%.
平均径2〜50nmの細孔と100〜1400ｍ^2/ｇの比表面積とを有する難溶性のメソポーラス材料に、主触媒としての平均粒径1〜20nmの白金粒子及び／又はイリジウム粒子からなるナノ粒子を0.01〜２0質量％坦持する。 - 特許庁 - In the film, on at least one side of a substrate formed of a plastic material and, a vapor deposited thin layer with a thickness of 5-300 nm made of an inorganic oxide, and a vapor deposited thin layer with a thickness of 10-500 nm made of an organic compound are laminated in order.
プラスチック材料からなる基材の少なくとも片面に、厚さ５〜３００ｎｍの無機酸化物からなる蒸着薄膜層と、厚さ１０〜５００ｎｍの有機化合物からなる蒸着薄膜層を順次積層して設ける。 - 特許庁 - In the lithography device using exposure radiation having a relatively short wavelength of 157 nm or 126 nm, an N2 laminar flow which crosses the inside of the operating section of the device and part of a beam passage adjoining to the operating section is supplied.
本発明によれば、１５７ｎｍまたは１２６ｎｍといった比較的短い波長の露出放射線を用いたリソグラフィ装置において、装置の動作部分内またはそれに隣接したビーム通路の一部分を横切るＮ_2の層流が供給される。 - 特許庁 - In order to use the photomask blank for producing a mask for ArF exposure, the film thickness and composition of the light shielding film 12 are selected to obtain the optical density OD of the film in the range of 1.2 to 2.3 with respect to light at 193 nm or 248 nm wavelength.
このフォトマスクブランクをＡｒＦ露光用のマスク作製用とする場合には、遮光性膜１２の光学濃度が、波長１９３ｎｍまたは２４８ｎｍの光に対して１．２〜２．３の範囲の値となるように、その膜厚と組成が選択される。 - 特許庁 - An optical sheet includes a base film 110; a first primer layer 130 disposed on the surface of the base film 110; and a projection 120 disposed on the first primer layer 130, wherein the thickness of the first primer layer 130 is in the range of about 5 nm to 300 nm.
本発明による光学シートはベースフィルム１１０と、ベースフィルム１１０上に位置する第１プライマー層１３０と、第１プライマー層１３０上に位置する突出部１２０を含み、第１プライマー層１３０の厚さは５〜３００ｎｍである。 - 特許庁 - Out of the organic layers, the second organic layer other than the first organic layer has a glass transition temperature of at least 105°C, is constituted of a (meth)acrylic compound having a C-C bond density in a monomer of at least 0.19, and has a thickness of ≥50 nm and <300 nm.
有機層のうち、第１の有機層以外の第２の有機層は、ガラス転移温度が１０５℃以上でモノマー中のＣ−Ｃ結合密度が０．１９以上の（メタ）アクリル化合物により構成され、厚さが５０ｎｍ以上３００ｎｍ未満である。 - 特許庁 - The rare-earth magnet has: magnetic powder containing at least one type of rare-earth element; and an oxide binder binding the magnetic powder, where the oxide binder is in the configuration of a magnet where a plane interval obtained by diffraction ranges from not less than 0.25 nm to not more than 2.94 nm.
希土類元素を少なくとも１種以上含む磁性粉と、前記磁性粉を結着する酸化物バインダーと、を有し、前記酸化物バインダーは回折で求められる面間隔が０.２５ｎｍ以上２.９４ｎｍ以下である磁石の構成をとる。 - 特許庁 - The photosensitive composition for forming a light shielding film contains (a) carbon black as a light shielding pigment, (b) a photopolymerizable compound and (c) a photopolymerization initiator, wherein a primary particle diameter of the carbon black is adjusted to 20-60 nm, preferably 30-45 nm.
（ａ）遮光性顔料としてのカーボンブラック、（ｂ）光重合性化合物、および（ｃ）光重合開始剤を含有する遮光膜形成用感光性組成物において、前記カーボンブラックの一次粒子径を２０〜６０ｎｍ、好ましくは３０〜４５ｎｍにする。 - 特許庁 - This sintering method permits to manufacture a short-life phosphor ZnO:Zn of the fluorescent substance which contains a lot of the short-life component of the peak-central wavelength of 385 nm and has little influence by the component of the long peak-central wavelength of 495 nm.
本焼結方法により、ピーク中心波長３８５ｎｍの短寿命成分を多く含み、長いピーク中心波長４９５ｎｍの成分の影響をほとんどなくした蛍光体短寿命蛍光体ＺｎＯ：Ｚｎを製作することができる。 - 特許庁 - A spectral filter 6 is rotated once to separate light from a light source 3 into wavelength bands wherein a visible light region of 380 to 760 nm is divided into 19 channels at 20 nm intervals for leading to a ring lighting fixture 7 to irradiate to an image 1 to be measured.
分光フィルタ６を１回転させて、光源３からの光を、３８０〜７６０ｎｍの可視光域を２０ｎｍ間隔で１９チャンネルに分割した波長帯域に分光して、リング照明７に導き、測定対象画像１に照射する。 - 特許庁 - In the magnetic head device, at least either the flat contact surface or the hemispherical contact surface is subjected to laser polishing to give the hemispherical contact surface a surface roughness Ra of 100 nm or below and the flat contact surface a surface roughness Ra of 50 nm or below.
平面状接触面と半球状接触部の少なくとも一方に、レーザポリッシュを施し、半球状接触部の面粗さＲａを１００ｎｍ以下、平面状接触面の面粗さＲａを５０ｎｍ以下とした磁気ヘッド装置。 - 特許庁 - The transparent adhesive for the refractive index regulating optical member has metal oxide particles having a refractive index of ≥2.0 and a dispersion mean particle size of ≥1 nm and ≤20 nm dispersed in the transparent adhesive for the optical member.
本発明の屈折率調整光学部材用透明粘着剤は、屈折率が２．０以上であり、分散平均粒子径が１ｎｍ以上かつ２０ｎｍ以下の金属酸化物粒子が、光学部材用透明粘着剤中に分散されている。 - 特許庁 - An optical fiber hardened by filling a glass tube with an acrylic monomer including terbium(III)tris(3,5-heptane dionate)(Tb(HPD)_3) dispersed with a concentration of 10 mass% obtains a gain of 0.7 dB for signal light with a wavelength of 548 nm when a quantity of pump light with a wavelength of 405 nm is 27 mW.
テルビウム(III)トリス（３，５−ヘプタンジオナート）（Tb(HPD)_3）を10質量％の濃度で分散させたアクリルモノマーをガラス管に充填して硬化させた光ファイバは、波長405nmのポンプ光量が27mWのときに、波長548nmの信号光に対して0.7dBの利得を得た。 - 特許庁 - In the image display device, a lower electrode 11 is formed on a main face of a first insulating substrate 10, and an electron accelerating layer 12 is formed on the surface of the lower electrode 11 with a maximum height of a surface ruggedness by oxidation of an anode of 23 nm to 25 nm.
第１絶縁基板１０の主面に下部電極１１を形成して、当該下部電極１１の表面に陽極酸化により該表面凹凸の最大高さを略２３ｎｍ乃至２５ｎｍとした電子加速層１２を形成する。 - 特許庁 - In the water-repellent coating film, the average pore diameter of pores formed on the film is ≥5 nm and ≤50 nm, the porosity of the film is ≥15 vol.% and ≤50 vol.%, and inorganic particles are included in the film.
本発明の撥水性コーティング皮膜は、皮膜に形成された気孔の平均気孔径が５ｎｍ以上で５０ｎｍ以下であり、かつ皮膜の気孔率が１５体積％以上で５０体積％以下であり、かつ皮膜中に無機粒子を含む。 - 特許庁 - A high voltage is applied between the discharge opening for the solution of a saccharide in an organic acid and a target, the polysaccharide is drawn by the attractive force of the electric field of the high voltage to the target and thinned to give an extra fine fiber having a diameter of ≥40 nm and ≤100 nm.
多糖類の有機溶媒溶液の吐出口とターゲットとの間に高電圧が印加され、該高電圧の電場の引力により該多糖類をターゲットに曳いて細化し、直径が４０ｎｍ以上１００ｎｍ以下である極細繊維とする。 - 特許庁 - To prevent poor transfer and obtain a highly fine image of high quality by configuring an endless belt so that a ten-point mean roughness of a surface of the endless belt, measured with a scanning probe microscope, is in a range from not less than 2.1 nm to not more than 11.0 nm.
走査型プローブ顕微鏡によって測定した表面の十点平均粗さが２．１〔ｎｍ〕以上、かつ、１１．０〔ｎｍ〕以下の範囲となるようにして、転写不良が発生せず、高品質な高精細画像を得ることができるようにする。 - 特許庁 - Heat treatment temperature of the carbon precursor may be around 1,600 to 2,200°C, and the reserve graphite may be of a crystallite size La in an a-axis direction of around 1 to 10 nm and that Lc in the c-axis direction of around 5 to 30 nm.
前記炭素前駆体の熱処理温度は、１６００〜２２００℃程度であってもよく、前記予備黒鉛は、ａ軸方向の結晶子サイズＬａが１〜１０ｎｍ程度、ｃ軸方向の結晶子サイズＬｃが５〜３０ｎｍ程度であってもよい。 - 特許庁 - As a result, it is found that the secondary agglomerate which becomes 300-500 nm by collecting the primary particles of 70-150 nm has an extremely high polishing capacity in the powder having a sphere approximation form in the range of fractal dimensions of 1.00-1.05.
その結果、７０〜１５０ｎｍの一次粒子が集合して３００〜５００ｎｍになった二次凝集粒子がフラクタル次元１．００〜１．０５の範囲にある球近似形状をもつ粉末において、極めて高い研磨能力が得られることを見出した。 - 特許庁 - To provide a high strength paper sheet having a high density and an excellent tensile strength in spite of a low compounding amount, such as 1% or more and 50% or less on the basis of total mass of the paper sheet, of fine vegetable fibers having a fiber width of 20 nm or more and 1000 nm or less.
繊維幅２０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下の微細植物繊維が紙シート全質量に対して１％以上５０％以下の少ない配合量にもかかわらず、高密度、引張強さに優れる高強度の紙シートを得る。 - 特許庁 - Around magnetic particles 8 responsible for recording in a magnetic recording layer 7, for example, that of an average diameter of 7 nm or lower, and distributed at a density of an average particle interval of 5 nm or lower, a magnetic material 9 having low coercive force of ≤1 kOe is arranged.
磁気記録層７内の記録を担う磁性粒子８、例えば、平均直径が７ｎｍ以下であり、平均粒子間隔が５ｎｍ以下の密度で分布する磁性粒子８の周りに１ｋＯｅ以下の低保磁力の磁性材料９を配する。 - 特許庁 - The optical fiber is such that the transmission loss at 1,550 nm is ≤0.3 dB/km and that the SBS threshold level (TH^SBS) at 1,550 nm is ≥5 mW in the line length of 20 km, when a light source having a line width of ≤5 MHz is used.
本願発明の光ファイバは、１５５０ｎｍでの伝送損失が０．３ｄＢ/ｋｍ以下で線幅５ＭＨｚ以下の光源を使用した場合の条長２０ｋｍでの１５５０ｎｍにおけるＳＢＳしきい値（TH^ＳＢＳ）が５ｍＷ以上である。 - 特許庁 - The abrasive particles contain first colloidal silica with an average primary particle size of 45-80 nm and second colloidal silica with an average primary particle size of 10-25 nm, and satisfy the relationship represented by a formula (1): 0.63≤w_1/(w_1+w_2)≤0.83.
前記研磨粒子は、平均一次粒子径が４５ｎｍ以上８０ｎｍ以下の第１のコロイダルシリカと、平均一次粒子径が１０ｎｍ以上２５ｎｍ以下の第２のコロイダルシリカとを含み、下記数式で表わされる関係を満たすことを特徴とする。 - 特許庁 - This functional fibrous structural material is provided by containing the functional substance within nanofibers having 10-200 nm mean single fiber diameter and ≤3 % areal ratio of the single fiber having ≥200 nm single fiber diameter, and having a small unevenness in its fiber diameter.
平均による単繊維直径が１０〜２００ｎｍであり、単繊維直径２００ｎｍ以上の面積比率が３％以下である、繊維直径のばらつきの小さいナノファイバーに機能性物質が含まれてなる機能性繊維構造物。 - 特許庁 - An MgXZn1-XO thin film (0≤X<1) containing p-type impurities is formed so that a surface in a crystal-growing direction may satisfy one of root mean square roughness (RMS)≤10 nm and maximum width (PV) of roughness≤100 nm.
ｐ型不純物を含むＭｇ_ＸＺｎ_１−ＸＯ薄膜（０≦Ｘ＜１）の結晶成長方向表面が、二乗平均粗さ（ＲＭＳ）≦１０ｎｍ、又は、粗さの最大幅（ＰＶ）≦１００ｎｍのいずれか一方を満たしているように作製する。 - 特許庁 - When a refractive index of the support 12 for 550 nm of wavelength is η1 as the easy-to-adhere layer 16 and a refractive index of the easy-to-adhere layer 16 for 550 nm of wavelength is η2, the easy-to-adhere layer 16 satisfying |η1-η2|≤0.03 is formed.
そして、易接着層１６として、波長５５０ｍｎにおける支持体１２の屈折率をη１、波長５５０ｍｎにおける易接着層１６の屈折率をη２としたとき、｜η１−η２｜≦０．０３を満たす易接着層１６を形成する。 - 特許庁 - The primary powder grains have a structure containing two or more kinds of ferromagnetic crystal phases; where in the mean grain size of a hard magnetic phase is 10 to 200 nm, and the mean grain size of a soft magnetic phase is 1 to 100 nm.
第１粉末粒子は、２種類以上の強磁性結晶相を含有し、硬磁性相の平均結晶粒径が１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下、軟磁性相の平均結晶粒径が１ｎｍ以上１００ｎｍ以下の組織を有する。 - 特許庁 - The ferromagnetic metal powder is characterized by having an average extended shaft length of 30-65 nm, crystallite sizes of 80-130 Å, saturated magnetization quantity (σs) of 75-130 A.m^2/kg, an average oxide film thickness of 1.5-2.5 nm.
平均長軸長が３０〜６５ｎｍであり、結晶子サイズが８０〜１３０Åであり、飽和磁化量（σｓ）が７５〜１３０Ａ・ｍ^2／ｋｇであり、かつ平均酸化膜厚が１．５〜２．５ｎｍであることを特徴とする強磁性金属粉末。 - 特許庁 - Projections based on the nonmagnetic powder are formed on the surface of the layer 20 so that the projections having 10-50 nm height exist by 50-400 pieces/400 μm2 and those having higher than 50 nm height exist by 1-20 pieces/400 μm2.
更に、上記非磁性粉末に基づく突起が上層２０の表面に形成され、この突起のうち、高さが１０〜５０ｎｍのものが５０〜４００個／４００μｍ^2、高さが５０ｎｍより大きいものが１〜２０個／４００μｍ^2存在していること。 - 特許庁 - This anisotropic magnetic powder is composed of particles structured into a composite having hard magnetic phases and soft magnetic phases of the order of nanometers in scale, and the hard magnetic phases and the soft magnetic phases are each 5 to 2,000 nm in length and 5 to 200 nm in width and thickness.
本発明の異方性磁石粉は、硬磁性と軟磁性相とがナノスケールでコンポジット化した組織からなる粒子で構成され、硬磁性相と軟磁性相の各相の長さが５〜２０００nm、幅および厚みが５〜２００nmとしたものである。 - 特許庁 - The release polyester film has at most 5 pieces/m^2 of hollow defects having a depth of at least 0.5 μm, and a centerline average roughness SRa of 15-35 nm and a ten-point average roughness SRz of at most 1,000 nm on at least one surface.
深さ０．５μm以上の窪み欠点数が５個／ｍ^２以下であり、少なくとも片面の表面の中心線平均粗さＳＲａが１５〜３５ｎｍ、十点平均粗さＳＲｚが１０００ｎｍ以下とすることにより達成出来る。 - 特許庁 - Assuming that film stress of Ni is 500 MPa, irrespective of the film thickness, and that the breakage limit of an independent thin film is 1 N/m in total stress, since the thin film reaches the breakage limit when its thickness becomes 2 nm, coating on one side is stopped at thickness of 2 nm or smaller.
Niの膜応力を膜厚によらず５００ＭＰａとし、自立薄膜の破損限界を全応力１Ｎ／ｍと仮定すると、膜厚が２ｎｍとなったときに破損限界に達するので、片面コートを膜厚２ｎｍ以下でやめるようにする。 - 特許庁 - Moreover, an exchange bias magnetic field Hua is made to be more enhanced by forming a capping film C which is made from titanium(Ti) on the antiferromagnetic film 17a5 of the fixed layer P and by making the thickness of the film C to be 1.8 nm to 3.5 nm.
また、前記固着層Ｐの反強磁性膜１７ａ５の上に、チタン（Ｔｉ）からなるキャッピング膜Ｃを形成するとともに同キャッピング膜Ｃの厚さを１．８ｎｍから３．５ｎｍとすることにより、交換バイアス磁界Ｈｕａを一層向上した。 - 特許庁 - The developer includes a binder resin and particles of colorant, and further includes inorganic fine particles on the surface of particles of colorant, of which the average particle size is 30 to 300 nm and the content of the particle of particle size of 600 nm or more or the content of the number of aggregations is 1% or less.
現像剤は結着樹脂及び着色剤の粒子と、その表面に平均粒径３０〜３００ｎｍ、粒径６００ｎｍ以上の粒子又は凝集体の個数の含有率が１％以下である無機微粒子を含有する。 - 特許庁 - The rubbery polymer (a) dispersed in the thermoplastic resin (A) has preferably a weight-average particle diameter of 50 to 220 nm, and particles having particle diameters of ≥300 nm are preferably further contained in an amount of 0 to 20 wt% per 100 wt% of the component (a).
熱可塑性樹脂（Ａ）中に分散しているゴム質重合体（ａ）は、重量平均粒子径が５０〜２２０ｎｍであり、該成分（ａ）を１００重量％として、粒子径３００ｎｍ以上の粒子を０〜２０重量％含むことが好ましい。 - 特許庁 - The first film 3 is constituted of a material, the absolute refractive index of which is 1.40-1.60 at a light of 580 nm wavelength, the difference between the maximum value and the minimum value of the absolute diffractive indexes in the wave region of 570-590 nm is ≤0.20.
第１の被膜３は、波長５８０ｎｍの光の絶対屈折率が１．４０〜１．６０であり、かつ、５７０〜５９０ｎｍの波長領域における絶対屈折率の最大値と最小値との差が０．２０以下の材料で構成されたものである。 - 特許庁 - The optical member 3 has a first uneven part 31 made of consecutive unevenness of a period 1-50 μm and a height 0.5-5 μm, and a second uneven part made of consecutive unevenness of a period 100-300 nm and a height 200-600 nm.
光学部材３は、周期１〜５０μｍ、高さ０．５〜５μｍの連続する凹凸から成る第１の凹凸部３１と、周期１００〜３００ｎｍ、高さ２００〜６００ｎｍの連続する凹凸から成る第２の凹凸部３２とを有する。 - 特許庁 - (c) Absorption edge wavelength λ1 (nm) of the polymer composed of only the recurring unit represented by formula (1) and absorption edge wavelength λ2 (nm) of he polymer composed of only the recurring unit represented by formula (2) have a relationship as follows: (1239/λ1)≥[(1239/λ2)+0.05].
（ｃ）式（１）で示される繰り返し単位のみからなるポリマーの吸収端波長をλ_1（ｎｍ）、式（２）で示される繰り返し単位のみからなるポリマーの吸収端波長をλ_2（ｎｍ）としたとき、 １２３９／λ_1≧１２３９／λ_2＋０．０５ - 特許庁 - Sulfur dioxide in an exhaust gas capable of easily passing through the porous oxide layer 2 whose average pore diameter is 0.5 nm to 10 nm is oxidized by the noble metals 3, 4 while passing therethrough and reaches the nuclei 1 where it is converted to a sulfite or a sulfate which is adsorbed by the surface of the nuclei 1.
排ガス中のSO_2 は平均細孔径が 0.5nm〜10nmの多孔質酸化物層２を容易に通過し、貴金属によって通過中に酸化されて核体１に到達し、亜硫酸塩又は硫酸塩となって核体１表面に吸着される。 - 特許庁 - To provide a thermoplastic resin composition capable of being performed by a wet film-formation and a molding-working and emitting a light in a visible area of a wave length of 400-800 nm by UV irradiation of a wave length of 200-400 nm to a molded product obtained by the molding-working.
湿式製膜及び成形加工可能で、成形加工して得られる成形品への波長２００〜４００ｎｍの紫外線照射により波長４００〜８００ｎｍの可視域内で発光する熱可塑性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - The average diameter of crystal grains D, in the surface of the organic semiconductor layer in contact with the gate dielectric layer, is 160 to 600 nm and the average diameter of crystal grains E in the surface of the organic semiconductor layer opposite to the gate dielectric layer is 50 to 150 nm.
有機半導体層のゲート絶縁層に接する面における結晶粒の平均粒径Ｄが１６０〜６００ｎｍであり、有機半導体層のゲート絶縁層とは反対側の面における結晶粒の平均粒径Ｅが５０〜１５０ｎｍである。 - 特許庁
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