「nm」を含む例文一覧(14378)
＜前へ 1 2 .... 65 66 67 68 69 70 71 72 73 .... 287 288 次へ＞- In succession, a gate electrode forming film 12 of titanium nitride is deposited 150 nm thick on the gate insulating film 11.
続いて、ゲート絶縁膜１１の上に、厚さが約１５０ｎｍの窒化チタンからなるゲート電極形成膜１２を堆積する。 - 特許庁 - First blue laser light with a center wavelength of 445 nm is made incident on the fluorescent body 50 via a light guide 24a.
中心波長４４５ｎｍの第１青色レーザ光を、ライトガイド２４ａを介して蛍光体５０に入射させる。 - 特許庁 - There are provided a hollow fiber membrane including poly(vinylidene fluoride)-based resin and an organic fibrous material having a fiber size of 1-30,000 nm.
ポリフッ化ビニリデン系樹脂と、繊維径が１〜３００００ｎｍである有機系繊維状物とを含む中空糸膜。 - 特許庁 - To provide a Pt-based catalyst for a fuel cell which keeps a particle diameter of the Pt-based catalyst at 1-2 nm and has a high oxidation activity of methanol.
Pt系触媒の粒径を1〜2nmに保ち、メタノール酸化活性の高い燃料電池用Pt系触媒を提供する。 - 特許庁 - The hyperfine SiC particle has 10-100 nm particle size, contains a C-H bond and a Si-H bond and has excellent formability.
粒径が10〜100nmでＣ−Ｈ結合およびＳｉ−Ｈ結合を含む成形性に優れた超微細ＳｉＣ粒子である。 - 特許庁 - To provide an optical recording medium on/from which favorable recording /reproduction by a laser having a wavelength of 300 to 500 nm can be made.
波長３００〜５００ｎｍのレーザーで良好な記録及び再生が可能な光記録媒体を提供する。 - 特許庁 - The oxide layer having the average thickness of ≥10 nm mainly containing zinc is formed on the surface of the hot-dip galvanized steel sheet.
以上により、めっき鋼板表面に、亜鉛を主体として含み平均厚さが10nm以上の酸化物層を形成する。 - 特許庁 - The excited erbium doped optical fiber 3 generates a gain of optical amplification in a range of band width of about 30 nm.
励起されたエルビウムドープ光ファイバ３は帯域幅３０ｎｍ程度の範囲において光増幅の利得を発生させる。 - 特許庁 - The surface of the secondary particles (positive electrode active material 153) is coated with lithium salt 158 of the average thickness 20-50 nm.
二次粒子（正極活物質１５３）の表面は、平均厚み２０〜５０ｎｍのリチウム塩１５８で被覆されている。 - 特許庁 - The pore diameter of the porous carrier particle is preferably 10 nm-1 μm, and the particle of the carrier is preferably 1 μm-100 μm.
多孔質担体粒子の細孔径が１０ｎｍ〜１μｍ、粒子径が１μｍ〜１００μｍであることが好ましい。 - 特許庁 - A 200 nm-thick ZnO sacrificing layer 102 is formed on a sapphire substrate 101, and a 0.5 μm-thick AIN layer 103 is formed on the layer 102.
サファイア基板１０１上にZnO犠牲層１０２を 200nm形成し、さらにその上にAlN層１０３を0.5μm形成する。 - 特許庁 - The optical glass has a spectral transmittance of ≥70% at a wavelength of 600 nm in a thickness of 10 mm.
波長が６００ｎｍで１０ｍｍ厚の分光透過率が７０％以上であること特徴とする光学ガラス。 - 特許庁 - The retardation of the liquid crystal layer 50 is not less than 0.66λ and not more than 0.83λ to light having wavelength λ of 555 nm.
液晶層５０のリタデーションは、波長λが５５５ｎｍである光に対して０．６６λ以上０．８３λ以下である。 - 特許庁 - The heterogeneous layer is removed until its thickness becomes ≤3 nm by grinding the surface of the glass original plate.
同異質層は、ガラス素板の表面が研削されることにより、その厚みが３ｎｍ以下となるまで除去されている。 - 特許庁 - The maximum height (Rmax) of the surface roughness of the processing material made of the fluoropolymer is preferably 500 nm or below.
フッ素系ポリマー製加工材の表面粗さの最大高さ（Ｒｍａｘ）が、５００ｎｍ以下であることが好ましい。 - 特許庁 - A silicon oxide layer 102 is formed on a silicon substrate (silicon layer) 101 to a thickness of, for example, 1.8 nm.
シリコン基板（シリコン層）１０１の上に、例えば膜厚１．８ｎｍのシリコン酸化層１０２が形成された状態とする。 - 特許庁 - The oil-in-water emulsion, which contains the emulsifier composition and has an average particle diameter of 70-300 nm, is also provided.
その乳化剤組成物を含み、平均粒子径７０〜３００ｎｍである水中油型エマルジョンを特徴とする。 - 特許庁 - A light emitting diode 3 which irradiates the display plate with near UV rays having a light emitting peak at 350 to 420 nm is disposed on the rear surface side.
裏面側に３５０nm〜４２０nmに発光ピークを有する近紫外線を照射する発光ダイオード３を配設する。 - 特許庁 - The glass substrate for a magnetic disk has a conductive film having 0.1 to 1.5 nm average surface roughness (Ra) on a glass plate.
ガラス板上に平均表面粗さ（Ｒ_a ）が、０. １〜１．５ｎｍである導電性膜を有する磁気ディスク用ガラス基板。 - 特許庁 - In one embodiment, the optical glass has a spectral transmittance of 70% or higher at a wavelength of 550 nm in a thickness of 10 mm.
波長が５５０ｎｍで１０ｍｍ厚の分光透過率が７０％以上であること特徴とする光学ガラス。 - 特許庁 - On the front surface of a silicon substrate 100, a silicon oxide film 110 is formed in the thickness of about 50 nm with hot oxidation.
シリコン基板１００の表面に、膜厚が約５０ｎｍのシリコン酸化膜１１０を熱酸化によって形成する。 - 特許庁 - It is preferable that the light absorption coloring matter have an effective absorption wavelength in a near infrared ray area of 500 to 1200-nm wavelength.
光吸収色素は、波長５００〜１２００ｎｍの近赤外線領域に有効吸収波長を有すると良い。 - 特許庁 - In an embodiment, the optical member is a photomask substrate to be used at a wavelength of shorter than 190 nm.
ある実施の形態において、前記光学部材は、１９０ｎｍ未満の波長で使用するためのフォトマスク基板である。 - 特許庁 - To provide a blue/green color band high-quality nitride semiconductor element having an emission wavelength λ of λ≥450 nm, for example.
発光波長λが例えばλ≧４５０ｎｍの青色・緑色帯の高品質窒化物半導体素子を提供する。 - 特許庁 - Further, as the threshold of the optical filter 19 is larger than 805 nm, the optical filter can transmit excitation light for indocyanine green.
また、光学フィルター１９の閾値が８０５ｎｍより大きいためインドシアニングリーン用の励起光も透過することができる。 - 特許庁 - This composition for oral cavity contains the platinum nano colloid having 1 to 5 nm mean particle diameter, a hyaluronic acid salt and water.
１〜５ｎｍの平均粒子径を有する白金ナノコロイドとヒアルロン酸の塩と水とを含む口腔用組成物とする。 - 特許庁 - To obtain a polymerizable monomer having Si-containing groups, transparent at 193 nm and ethylenically unsaturated group.
１９３ｎｍで透過性の有るケイ素含有基、およびエチレン不飽和基を有する重合性モノマーを提供すること。 - 特許庁 - The high strength alloy has an amorphous structure or a nanocrystal structure with an average crystal grain size of ≤100 nm.
その高強度合金はアモルファス構造または平均結晶粒径が１００ｎｍ以下のナノ結晶構造を有している。 - 特許庁 - The fine particle compound having 1-100 nm average particle diameter is at least one kind selected from alumina sol and silica sol.
平均粒径が１〜１００ｎｍの微粒子化合物がアルミナゾル又はシリカゾルから選ばれる少なくとも１種類である。 - 特許庁 - In a preferred embodiment, the laser was tuned to the Fluorine 157.6 nm line using a set of two external prisms.
好適な実施例では、二つの外部プリズムから成るセットを使い、レーザをフッ素の１５７．６ｎｍ線に同調させた。 - 特許庁 - To manufacture a reflection mirror at a low cost having ≥90% reflectance in the wavelength region from 600 to 1,000 nm.
６００ｎｍ〜１０００ｎｍの波長域で９０％以上の反射率を有した反射鏡を安価に製造する。 - 特許庁 - In the infrared shielding glass, the average primary particle diameter of the fluorine-containing ITO fine particles is ≤100 nm.
および前記フッ素含有ＩＴＯ微粒子の平均一次粒子径が１００ｎｍ以下である前記赤外線遮蔽ガラス。 - 特許庁 - To provide a substrate for carbon nanotube growth capable of making a lengthy single layer carbon nanotube having an average diameter of less than 2 nm.
平均直径２ｎｍ未満の単層カーボンナノチューブを長尺化できるカーボンナノチューブ成長用基板を提供する。 - 特許庁 - To provide an ultraviolet laser device capable of outputting ultraviolet laser light in a wavelength band of 190-200 nm with a simple structure.
簡明な構成で190〜200ｎｍの波長帯域の紫外レーザ光を出力可能な紫外レーザ装置を提供する。 - 特許庁 - This cosmetic is obtained by formulating an inorganic pigment having a point of inflection in a spectral reflection spectrum in a wavelength region of 450-485 nm.
450 〜485nm の波長領域内で分光反射スペクトルが変曲点を有する無機顔料を配合してなる化粧料。 - 特許庁 - A laser resonator oscillates a laser beam of wavelength 1053 nm between an Nd:LiYF_4 crystal 10 and an output mirror 15.
Ｎｄ：ＬｉＹＦ_４結晶１０と出力鏡１５の間を波長１０５３ｎｍで発振するレーザ共振器とする。 - 特許庁 - Light whose wavelength centers on 200 nm is emitted by a light source 2 to irradiate the straight barrel part of a quartz crucible 1.
光源２から２００ｎｍを中心とする波長の光を出射し、石英坩堝１の直胴部に照射する。 - 特許庁 - A laser heat treatment is carried out by irradiating a semiconductor film with a pulse laser light of 370 to 710 nm wavelength.
波長が３７０ｎｍ以上７１０ｎｍ以下のパルスレーザ光を半導体膜に照射してレーザ熱処理を行う。 - 特許庁 - To provide a fuel cell having a new PtRu catalyst having a particle diameter of less than 5 nm at a fuel electrode.
５ｎｍ未満の粒径を有する新規なＰｔＲｕ触媒を燃料極に有する燃料電池を提供する。 - 特許庁 - This melanogenesis suppressing device has a means for selectively irradiating the skin with visible light of a wavelength 400 to 560 nm.
波長400-560nmの可視光を選択的に照射するための手段を備えることを特徴とするメラニン産生抑制装置。 - 特許庁 - Thus, the diffusion plate can be obtained which generates nearly no 0-th diffracted light in a wide wavelength range of 460 to 660 nm.
これにより、波長460〜660nmの広範囲において、０次回折光がほとんど０に近い拡散板を得ることができる。 - 特許庁 - In the crystallizing process, the laser beam 50 of wavelength 300 nm or shorter is projected to crystallize the semiconductor thin-film 2.
結晶化工程は、波長が３００ｎｍ以下のレーザ光５０を照射して半導体薄膜２を結晶化する。 - 特許庁 - In the hardcoat film 10, an integrated reflectance in a light wavelength region of 550 nm or less is 3.0% or less.
このハードコートフィルム１０は、光の波長５５０ｎｍ以下の領域における積分反射率が３．０％以下である。 - 特許庁 - The CMP slurry contains polishing grain which comprises colloidal grain whose primary grain diameter is 5 to 30 nm and association degree is 5 or below.
一次粒子径が５〜３０ｎｍで、会合度が５以下のコロイダル粒子からなる研磨粒子を含むＣＭＰ用スラリ。 - 特許庁 - Whereas, a nano area is placed in a part of the mirror area on the data recording surface using a laser beam of 405 nm wavelength.
一方、波長405nmのレーザ光を用いるデータ記録面には、ミラー領域の一部にナノ領域が配置されている。 - 特許庁 - Electrolytic plating surface-layers NM are formed to every metal terminal pads PD1, PD2 by the electrolytic plating processing.
そして電解メッキ処理を行い、各金属端子パッドＰＤ１，ＰＤ２に電解メッキ表面層ＮＭを形成する。 - 特許庁 - Porous inorganic fine particles having ≥10 Å (100 nm) average pore diameter are preferably used as the porous inorganic fine particles.
多孔性無機微粒子としては、平均細孔径が１０オングストローム（１００ｎｍ）以上ものが好ましく用いられる。 - 特許庁 - To provide an optical member which exhibits high transmittance at a short wavelength, especially, at 193 nm or shorter and has other desired characteristics.
短波長、特に、１９３ｎｍ以下で高透過率および他の所望の特徴を持つ光学部材を提供する。 - 特許庁 - When a determination is made that the operation torque τ_h is 0.2 [Nm] (S14), sampling of the operation torque τ_h is started (S15-S19).
操作トルクτ_ｈが０．２［Ｎｍ］と判定されると（Ｓ１４）、操作トルクτ_ｈのサンプリングが開始される（Ｓ１５〜Ｓ１９）。 - 特許庁 - Further, the width of the wavelength range wherein the relative gain deviation smaller than 11% is preferably ≥36 nm.
また、この相対利得偏差が１１％より小さくなる波長範囲の幅が３６ｎｍ以上であるのが好適である。 - 特許庁
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