「nm」を含む例文一覧(14378)

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  • To improve adhesion strength of a plating film even if a resin-metal composite layer is thin, 10 to 200 nm in concrete.
    樹脂−金属コンポジット層の厚さが10〜 200nmと薄い場合であっても、めっき被膜の密着強度を向上させる。 - 特許庁
  • The external preparation for skin comprises the protein nanoparticles having 200-500 nm average particle size and including an active component in the inside.
    平均粒子サイズが200〜500nmである、活性成分を内包したタンパク質ナノ粒子を含む、皮膚外用剤。 - 特許庁
  • Al is then deposited as an insulating layer 12 at a size of 4.5 mmϕ diameter to a film thickness of 1.5 nm at the center of the Fe 10.
    次に、Fe10の中心に、絶縁層12としてAlを、4.5mmφの大きさで1.5nmの膜厚に成膜する。 - 特許庁
  • To obtain a nano-ceria powder of practical use having an average particle size of 100 nm or less with no or few coagulation at a low cost.
    凝集のない若しくはほとんどない平均粒径が100nm以下の実用的なナノセリア粉末を安価に製造する。 - 特許庁
  • The fluoroplastic has an MFI not greater than 5g/10 min., and/or an average particle size greater than 100 nm.
    そのフッ素プラスチックは、5g/10分以下のMFIを有し、および/または100nmを超える平均粒径を有する。 - 特許庁
  • Interface to a spin injection layer is a high spin polarization layer which contains Co or Fe of 1.5 nm or smaller as a main component.
    またスピン注入層との界面を、1.5nm以下のCo又はFeを主成分とする高スピン分極層とする。 - 特許庁
  • The stainproofing agent contains a positively charged silica compound having a mean particle diameter of 1-100 nm and water.
    正に帯電した平均粒径1〜100nmのシリカ系化合物及び水を含有する硬質表面用防汚剤。 - 特許庁
  • Further, the distance d1 from the base surface of the groove Tg to the reflection layer 3 right thereabove is specified to 75 to 200 nm.
    更に、グルーブTgの底面から、その直上の反射層3までの距離d1を75nm〜200nmにする。 - 特許庁
  • The copper oxide powder has an average particle diameter of primary particles of 0.5-40 nm.
    1次粒子の平均粒子径が、0.5nm以上、40nm以下であることを特徴とする酸化銅粉末を提供する。 - 特許庁
  • On the surface of the first layer, a second layer of a thickness d_2 [nm] made of silicon having a refractive index n_Si is formed.
    第1の層の表面上に、屈折率n_Siのシリコンからなる厚さd_2[nm]の第2の層が形成されている。 - 特許庁
  • The resin molding surface 3 has <0.2 [nm] surface roughness Ra measured by an atomic force microscope (AFM).
    樹脂成形面3の表面粗さRaは、原子間顕微鏡(AFM)で測定した場合に、0.2[nm]未満となっている。 - 特許庁
  • To provide a method for manufacturing an optical fiber preform for manufacturing an optical fiber with low loss at a wavelength of 1,385 nm band.
    波長1385nm帯において低損失な光ファイバを製造するための光ファイバ母材を確実に製造する。 - 特許庁
  • As to the fine ruggedness in the flat parts of the plated face, the average spacing (Sm) of the ruggedness in a roughness curve is ≤700 nm.
    めっき面平坦部の微細凹凸は、粗さ曲線の凹凸の平均間隔(S_m)が700nm以下である。 - 特許庁
  • An inorganic coating that has an average thickness of 10 to 2,000 nm and contains a crystalline layered substance is formed on a surface layer of a steel sheet.
    鋼板の表層には、平均膜厚が10nm〜2000nmである結晶性層状物を含有する無機皮膜を有する。 - 特許庁
  • To provide a solvent for a photoresist capable of forming a good pattern even in a thin film resist process at ≤160 nm.
    160nm以下の薄膜レジストプロセスにおいても良好なパターンを形成可能なフォトレジスト用溶媒を提供する。 - 特許庁
  • An average particle volume of the hexagonal ferrite magnetic body to be heat-treated is within the range of 1000-3000 nm^3.
    処理を施す六方晶フェライト磁性体の平均粒子体積は1000〜3000nm^3の範囲とする。 - 特許庁
  • Among them, the protection layer 140 is constituted of oxide particles 141 having an average particle diameter D of 500 nm or smaller.
    このうち保護層140は、平均粒子径Dが500nm以下の酸化物粒子141から構成されている。 - 特許庁
  • To provide a manufacturing method of ultrafine particles of an organic compound capable of providing organic nano particles of about 10 nm.
    10nm程度の有機ナノ粒子を得ることができる有機化合物の超微粒子の製造方法を提供する。 - 特許庁
  • Further, a transparent dielectric film with a optical film thickness of 20-200 nm is provided on the layer comprising Ag fine particles.
    さらに、Ag微粒子から成る層の上層に光学膜厚が20nm〜200nmの透明誘電体膜を設ける。 - 特許庁
  • To provide a light emitting diode and a lamp excelling in high output and high in efficiency and suitable for a band light emission of 760-850 nm.
    高出力・高効率に優れる760〜850nm帯発光に適した発光ダイオードおよびランプを提供する。 - 特許庁
  • The temperature of the heat-treating step is preferably ≤250°C and the coating is preferably irradiated with a beam of light with a wavelength of ≤185 nm.
    前記加熱処理温度が250℃以下で、かつ波長が185nm以下の光線を照射することが好ましい。 - 特許庁
  • On the opposite surface of the side of the aluminum base in the steel base, a thermally oxidized film having a thickness of 6 nm or more is formed.
    鋼基材のアルミニウム基材と反対側の面に膜厚が6nm以上の熱酸化膜が形成されている。 - 特許庁
  • To provide a plasma processing apparatus equipped with a particle counter for detecting foreign particles having 100 nm or less particle diameter with high efficiency.
    100nm以下の粒径の異物粒子を高効率で検出できるパーティクルカウンタを搭載したプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁
  • An ultraviolet ray with high light-emitting efficiency can be emitted from the metal halide lamp to a region with a wavelength of 280 to 320 nm.
    このメタルハライドランプから280〜320nmの波長域に高い発光効率の紫外線を放射可能とした。 - 特許庁
  • An ultraviolet ray with high light-emitting efficiency can be emitted from the metal halide lamp to a region with a wavelength of 320 to 380 nm.
    このメタルハライドランプから320〜380nmの波長域に高い発光効率の紫外線を放射可能とした。 - 特許庁
  • In particular, the capsule layer reveals an excellent effect by using a cellulose nanofiber having a width of 0.5-20 nm and a length of 0.1-15 μm.
    特に、幅:0.5〜20nm、長さ:0.1〜15μmであるセルロースナノファイバーを用いることで優れた効果が発現する。 - 特許庁
  • The maximum transmittance of the light shielding part for the light with a wavelength of 380-1,000 nm is 0.05% or less.
    波長が380nm〜1000nmである光についての遮光部の最大透過率が0.05%以下である。 - 特許庁
  • The optical transmittance of the sealant for a solar cell at a wavelength of 600-800 nm is ≥90%.
    この太陽電池用封止剤の波長600nm〜800nmにおける光透過率は、90%以上である。 - 特許庁
  • To provide an amorphous oxide semiconductor material that reduces light absorption to light having a wavelength within a visible-light short-wavelength range of 400 to 420 nm.
    波長が400〜420nmの可視光短波長領域にある光に対して、光吸収を低減させる。 - 特許庁
  • Also, the multilayer film 20 has a transmittance of light of 340 nm wavelength in the range of 70-100%.
    また、複層フィルム20は、340nm波長の光の透過率が70%以上100%以下の範囲である。 - 特許庁
  • The highly-transparent alumina ceramic having a particle diameter more finer than 300 nm is formed by high pressure discharge sintering.
    粒子サイズが300nmよりも細かな、高度に透明なアルミナセラミックを高圧放電焼結によって作成した。 - 特許庁
  • To accurately obtain element distribution in an extreme surface region of 3 nm or smaller, in a depth-wise element analyzing method.
    深さ方向元素分析方法に関し、3nm以下の極表面領域の元素分布を高精度で取得する。 - 特許庁
  • The distance between the line of the first wiring pattern and the contact pad is the predetermined pitch, and the predetermined pitch is 100 nm or less.
    第1配線パターンのラインとコンタクトパッドとの間隔は所定ピッチであり、所定ピッチは100nm以下である。 - 特許庁
  • A volume proportion of the particles having a particle size of 1-300 nm in the colloidal silica accounts for 90% or more.
    また、コロイダルシリカ中に占める粒子径が1〜300nmである粒子の体積割合は90%以上である。 - 特許庁
  • The composition preferably contains an antioxidant besides them, and the emulsion particle preferably has the particle diameter of ≤200 nm.
    更に酸化防止剤を含有することが好ましく、乳化粒子は、粒子径が200nm以下であることが好ましい。 - 特許庁
  • The total of the volume of fine pores having 2-50 nm pore diameter is ≥60% of the total of volume of whole fine pores.
    孔径が2〜50nmである細孔の容積の合計は、全細孔の容積の合計に対して60%以上である。 - 特許庁
  • To provide a means for condestructively evaluating a carrier distribution in a semiconductor with high spatial resolution of nm level.
    nmスケールの高空間分解能で非破壊的に半導体中のキャリア分布を評価できる手段を提供する。 - 特許庁
  • To provide a method for producing metal particles, by which the formation of metal particles having an average diameter of 50 nm or more is restrained.
    平均粒径で50nm以上となることを抑制することのできる金属粒子の製造方法を提供する。 - 特許庁
  • The titanium oxide thin film 2 contains nitrogen and halogen and has 2-100 nm adjusted thickness.
    酸化チタン薄膜2は、窒素とハロゲンを含むとともに、その厚さが2nm以上100nm以下に調整されている。 - 特許庁
  • FLUORINATED HALF ESTER OF MALEIC ANHYDRIDE POLYMER FOR APPLICATION OF TOP SURFACE ANTIREFLECTION DRY COATING FOR LIGHT OF 193 nm WAVELENGTH
    193nm波長光の上面反射防止ドライコーティング塗布のための無水マレイン酸ポリマーのフッ素化半エステル - 特許庁
  • The red filter layer may contain a pyridone azo dye having the absorption maximum at 400 to 500 nm wavelength.
    赤色フィルタ層は波長400〜500nmに吸収極大を有するピリドンアゾ系色素を含有していてもよい。 - 特許庁
  • The Dye layer 14 has a thickness around 0.1-3 nm, and is formed of a red dye and a yellow dye.
    Dye層14は、その厚さが約0.1〜3nm程度であり、赤色色素および黄色色素から形成される。 - 特許庁
  • The phthalocyanine compound having a specific structure shown by formula (1) (described in specification) has strong absorption originated by an association at 640-660 nm.
    下記の特定の構造を有するフタロシアニン化合物が640〜660nmに会合由来の強い吸収を有する。 - 特許庁
  • The phosphor film converts 455 nm blue light emitted from a blue light-emitting diode to white light.
    本発明の蛍光体膜は、青色発光ダイオードから発する455nmの青色光を白色に変換するものである。 - 特許庁
  • To provide a porous composite metal oxide which sufficiently has a 2 nm or larger meso pore even after high-temperature firing.
    高温において焼成後も、特に2nm以上のメゾ細孔を十分に有する複合金属酸化物を提供する。 - 特許庁
  • An MgO(001) barrier layer 21 of a thickness of 2 nm is epitaxially grown on the Fe(001) lower electrode 17 at the room temperature.
    nm厚のMgO(001)バリア層21をFe(001)下部電極17上に室温でエピタキシャル成長する。 - 特許庁
  • To obtain a UV transmitting glass whose shielding wavelength is defined in a range of 280-325 nm and easily controlled.
    遮断波長が280〜325nmの範囲内で定義されて簡単に調節することができるUV透過性ガラスを得る。 - 特許庁
  • Composite fine particles have an average particle diameter of 5-200 nm and a coefficient of variation of particle diameter of not more than 50%.
    複合微粒子は、平均粒子径が5〜200nmであり、かつ、粒子径の変動係数が50%以下である。 - 特許庁
  • The attachment force strengthening layer 3 has a thickness of ≥50 nm and is made of silicon oxide film having a compression stress.
    付着力強化層3は膜厚が50nm以上で、かつ圧縮応力を有する酸化珪素膜からなる。 - 特許庁
  • It is preferable to add an element having a main emission wavelength of 200 nm or less, such as Xe, into a discharge gas.
    望ましくは200nm以下の主要発光波長を有する元素例えばXeを放電ガスに混入する。 - 特許庁
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