「nm」を含む例文一覧(14378)
＜前へ 1 2 .... 59 60 61 62 63 64 65 66 67 .... 287 288 次へ＞- The reflecting membrane 20 is set so that the size of thickness is S2/S1<25% in a wavelength area of 780 nm to 2,500 nm when the spectral output value 21 is made as S1 and the spectral output value from the reflecting membrane 20 is made as S2.
反射膜２０は、光熱開口部２１からの分光出力値をＳ１、反射膜２０からの分光出力値をＳ２とすると、７８０ｎｍ〜２５００ｎｍの波長域内でＳ２／Ｓ１＜２５％となる厚みに設定した。 - 特許庁 - The electromagnetic wave transmissive decorative component, in particular, of clear metallic glossiness is provided at low cost, without shielding an electromagnetic wave, by constitution of forming a Ge layer 2 having 10 nm to 30 nm of film thickness, on a surface of the component 1.
部品１の表面に、膜厚が１０ｎｍ〜３０ｎｍのＧｅ層２を形成した構成とすることで、電磁波を遮蔽することなく、特にクリアな金属光沢を呈する電磁波透過性加飾部品が低コストで実現可能となる。 - 特許庁 - To provide a hexagonal ferrite particle powder, which has an average plate surface diameter of above 20.5 nm and at most 30 nm and is obtained by using hydrothermal synthesis process with excellent productivity in industry.
本発明は、六方晶フェライト粒子粉末に関するものであり、平均板面径が２０．５ｎｍを超えて３０ｎｍ以下である六方晶フェライト粒子粉末を工業的な生産性に優れた水熱合成法によって得るものである。 - 特許庁 - The boron nitride film including the c-BN phase having 5 to 100 nm average grain diameter has a structure wherein the periphery of individual crystal is surrounded by an sp^2 bonding phase having 1 to 20 nm thickness.
ｃ−ＢＮ相を含む窒化ホウ素皮膜であって、ｃ−ＢＮ相の平均結晶粒径が５〜１００ｎｍであり、各々の結晶の周りが厚さ１〜２０ｎｍのｓｐ^２結合相で囲まれた組織を有する窒化ホウ素皮膜。 - 特許庁 - The fiber composite material includes a cellulose fiber having an average fiber diameter of at least not less than 2 nm and not more than 200 nm as well as a matrix resin, wherein a fiber orientation degree of the cellulose fiber is 50-95%.
少なくとも平均繊維径が２ｎｍ以上、２００ｎｍ以下であるセルロース繊維とマトリックス樹脂を含み、該セルロース繊維の繊維配向度が５０％以上９５％以下であることを特徴とする繊維複合材料。 - 特許庁 - The ultraviolet light source 4 is constituted of a mercury lamp and an optical filter, and the ultraviolet radiation of a wavelength area near 313 nm and that of a wavelength area near 366 nm can be switched and irradiated.
本構成例では紫外光光源４は水銀ランプと光学フィルタで構成し、３１３ｎｍ付近の波長域の紫外光と３６６ｎｍ付近の波長域の紫外光を切り替えて照射できるようになっている。 - 特許庁 - The resin microparticle dispersion is obtained by dispersing resin microparticles in water or a liquid composed mainly of water in the presence of a surfactant, which resin microparticles have ≥5 nm but ≤70 nm volume-average particle diameter (Dv) and satisfy 1≤D_V/D_N≤1.3.
体積平均粒径（Ｄ_Ｖ）が５ｎｍ以上７０ｎｍ以下であり、且つ、１≦Ｄ_Ｖ／Ｄ_Ｎ≦１．３である樹脂微粒子が、界面活性剤の存在下、水または水を主体とする液中に分散してなる樹脂微粒子分散液。 - 特許庁 - The biaxial optically anisotropic sheet 38 desirably has a lagging axis parallel with a transmission axis of either of polarizing plates 32, 34, 190 nm-390 nm retardation in the plane and 0.28-0.67 retardation in the direction of thickness.
二軸光学異方性シートは、遅相軸がいずれかの偏光板の透過軸と平行であること、面内リタデーションが１９０ｎｍから３９０ｎｍであること、厚さ方向のリタデーションが０．２８から０．６７であることが望ましい。 - 特許庁 - The composition is characterized in that, per 25 μm thickness of a dry film before exposure, an absorbance L_400 at 400 nm laser wavelength is 0.5-1.2, an absorbance L_410 at 410 nm laser wavelength is 0.01-0.5, and L_400>L_410 is satisfied.
露光前乾燥塗膜厚２５μｍあたり、レーザー波長４００ｎｍの吸光度Ｌ_400が０．５−１．２、かつ、レーザー波長４１０ｎｍにおける吸光度Ｌ_410が０．０１−０．５であり、かつ、Ｌ_400＞Ｌ_410であることを特徴とする組成物。 - 特許庁 - The resist film 17 is formed, preferably, relatively thin so as not to increase the aspect ratio, and preferably at most 350 nm thickness, and preferably, at least 75 nm, when the film is made of a general resist material.
レジスト膜１７はアスペクト比が大きくならないように比較的薄膜であることが必要であり３５０ｎｍ以下であることが好ましく、一般的なレジスト材料からなる場合には７５ｎｍ以上であることが好ましい。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition which is suitably used for a light source for exposure of ≤160, particularly an F_2 excimer laser beam (157 nm), and more specifically to provide a positive resist composition which exhibits sufficient transmissibility when used for the light source of 157 nm and is improved in line edge roughness, development defect and scum.
１６０ｎｍ以下、具体的にはＦ_２エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源使用時に十分な透過性を示し、且つラインエッジラフネス、現像欠陥、スカム発生が改善されたポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a positive photosensitive composition suitable when an exposure light source at ≤160 nm, in particular, F_2 excimer laser light (at 157 nm) is used, and specifically, to provide a positive photosensitive composition having little development defect.
１６０ｎｍ以下、特にＦ_２エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には現像欠陥の少ないポジ型感光性組成物を提供することにある。 - 特許庁 - The white light-emitting diode at least has an excitation light source and fluorescent powder, allows the excitation light source to discharge rays at a wavelength of 258 nm-490 nm, allows the fluorescent powder to be arranged around the excitation light source, and receives rays discharged by the excitation light source.
励起光源と蛍光粉を少なくとも具え、該励起光源が２５８ｎｍから４９０ｎｍの間の波長の光線を発射でき、蛍光粉は励起光源の周囲に配置され、励起光源が発射する光線を受けてる。 - 特許庁 - The skin care cosmetic exhibits reflectance of a light having a wavelength of 650-700 nm of 65-100% and reflectance of a light having a wavelength of 400-450 nm of 10-20%.
スキンケア化粧料は、波長が６５０ｎｍ以上７００ｎｍ以下の光の反射率が６５％以上１００％以下であると共に、波長が４００ｎｍ以上４５０ｎｍ以下の光の反射率が１０％以上２０％以下である。 - 特許庁 - The function film 20 containing an iron complex includes substantially hemispherical polymer microsphere parts 22 of several tens nm to several hundreds nm in diameter, and connecting polymer parts 28 for connecting the adjacent polymer microsphere parts 22 with each other.
鉄錯体を含む機能フィルム２０は、直径が数十ｎｍから数百ｎｍの略半球体の高分子ミクロスフェア部２２と、隣接する高分子ミクロスフェア部２２を相互に接続する接続ポリマー部２８を含んで構成される。 - 特許庁 - The photoabsorption layer is made of a single metal film or an alloy film and preferably an Ag single film or an Ag alloy film having its film thickness d lying within the range indicated by an inequality: 12 nm≤d≤24 nm.
前記光吸収層は、金属単体膜又は合金膜からなり、好ましくは、Ａｇ単体膜又はＡｇ合金膜からなり、その光吸収層の膜厚ｄが、次の式 １２ｎｍ≦ｄ≦２４ｎｍ で示される範囲にある。 - 特許庁 - To provide a method for producing a microfibrous cellulose, which is capable of easily obtaining a microfibrous cellulose having a diameter of 1 nm to 1000 nm by treating shortened fibers of chemical pulp with an enzyme and mechanically defibrating the resulting product treated with the enzyme.
短繊維化した化学パルプに酵素を処理し機械的に解繊することによって、直径が１ｎｍ〜１０００ｎｍの微細繊維状セルロースを容易に得ることができる微細繊維状セルロースの製造方法を提供する。 - 特許庁 - When a stimulation light 2 whose wavelength is 970 nm is cast from a plane of incidence 15a to laser medium 11, the laser medium 11 is optically pumped and generates a green light whose wavelength is 551 nm and an infrared light whose wavelength is 2.8 μm.
入射面１５ａよりレーザ媒質１１に波長９７０ｎｍの励起光２を照射すると、レーザ媒質１１は、光励起され、波長５５１ｎｍの緑色光および波長２．８μｍの赤外光を発生する。 - 特許庁 - In a highly effective single photon detector of wavelength of 1550 nm band, an InGaAs-APD having sensitivity in the neighborhood of wavelength of 1550 nm is operated by Geiger mode and in the process, the APD is cooled, and the APD is operated by a gate mode by GPQC.
波長１５５０nm付近に感度を有するInGaAs-APDをガイガーモードで動作させ、その際に該APDを冷却し、かつ該APDをGPQCによってゲートモードで動作させるようにしたことを特徴とする、波長１５５０nm帯の高効率な単一光子検出器。 - 特許庁 - The vessel uses a colored transparent resin containing a coloring material which transmits 10% or less of light with a wavelength of 200 to 500 nm and 80% or more of light with a wavelength of 540 to 800 nm.
容器の材料として、波長２００ｎｍ〜５００ｎｍの光の透過率が１０％以下であり、かつ、波長５４０ｎｍ〜８００ｎｍの光の透過率が８０％以上である色材含有有色透明樹脂を用いる。 - 特許庁 - The plant-growth controlling film has wavelength-selective reflection properties, does not substantially have any light absorption in a range of 450-800 nm of light wavelength, and has maximum reflection strength value in a light wavelength range of 500-700 nm.
４５０ｎｍ〜８００ｎｍの光波長範囲で、実質的に光吸収がなく、且つ５００ｎｍ〜７００ｎｍの光波長範囲に反射最大強度値を有する波長選択反射性の植物成長制御用フィルムである。 - 特許庁 - When the motor speed Nm is high at Nm2 in the selection of the first gear, an excess motor torque is low at Tmovr2 and falls short of an engine starting torque Testart to cause unpleasant acceleration/deceleration vibrations in a wheel drive system at an engine start.
第1速の選択でモータ回転数NmがNm2のように高い場合、余剰モータトルクがTmovr2のように小さいため、これが、エンジン始動トルクTestartに対し不足し、エンジン始動時に車輪駆動系に不快な加減速度振動が発生する。 - 特許庁 - The blue filter layer may contain copper phthalocyanine dye having the absorption maximum at 600 to 700 nm wavelength and further may contain a xanthene dye having the absorption maximum at 500 to 600 nm wavelength.
青色フィルタ層は波長６００〜７００ｎｍに吸収極大を有する銅フタロシアニン系色素を含有していてもよく、さらに波長５００〜６００ｎｍに吸収極大を有するキサンテン系色素を含有していてもよい。 - 特許庁 - The radiation-sensitive composition includes the cyclic olefinic polymer, a crosslinking agent, a photoacid generator and an ultraviolet absorber having a higher ultraviolet absorption intensity at 350 nm wavelength than at 290 nm wavelength.
環状オレフィン系重合体、架橋剤、光酸発生剤及び波長３５０ｎｍにおいて波長２９０ｎｍにおけるよりも強い紫外線吸収強度を有する紫外線吸収剤を含有してなる感放射線組成物。 - 特許庁 - When the spectral absorption of wavelength region 290 to 400 nm is measured in a methylene chloride solvent, the maximum absorption wavelength of the ultraviolet absorber is shorter than that of the ultraviolet ray absorbing polymer by 5 nm or more.
紫外線吸収剤は塩化メチレン溶媒中で２９０〜４００ｎｍの波長領域の分光吸収を測定した時に、前記の紫外線吸収性ポリマーよりも最大吸収波長が５ｎｍ以上短い紫外線吸収剤。 - 特許庁 - The dielectric paste contains at least binder resin, inorganic powder and an ultraviolet-ray absorbent, and a maximum absorption wavelength of the ultraviolet-ray absorbent is within the range of 390 nm to 500 nm.
少なくともバインダー樹脂、無機粉末および紫外線吸収剤を含む誘電体ペーストであって、紫外線吸収剤の最大吸収波長が３９０ｎｍ〜５００ｎｍの範囲内であることを特徴とする誘電体ペーストである。 - 特許庁 - Since a thickness of each of the layers in the multi-layer structure is 50 nm or more and 1,050 nm or less, adhesiveness between each of the layers and adhesiveness and between the anode active material layer 2 and the anode current collector 1, and current collecting property are improved.
多層構造における各層の厚みは、５０ｎｍ以上１０５０ｎｍ以下であるので、各層間の密着性、ならびに負極活物質層２と負極集電体１との密着性および集電性が向上する。 - 特許庁 - For the structure, an equation λLD+0.4 (nm/°C)×ΔT≤λDET≤lLD+0.6 (nm/°C)×ΔT is established, where active layer band gap wavelength is λLD, light-receiving layer band gap wavelength is λDET, and the ambient temperature change width is ΔT.
この構造において、活性層バンドギャップ波長をλ_LD、受光層バンドギャップ波長をλ_DET 、周囲温度変化幅をΔＴとすると「λ_LD＋０．４（ｎｍ／℃）×ΔＴ≦λ_DET ≦λ_LD＋０．６（ｎｍ／℃）×ΔＴ」なる関係が成立する。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition which shows sufficient transmittance when a light source of ≤160 nm wavelength, specifically when F_2 excimer laser light (157 nm) is used, and exhibits excellent coating uniformity, dry etching durability, line edge roughness and developing performance.
１６０ｎｍ以下、具体的にはＦ_２エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の光源使用時に十分な透過性を示し、塗布均一性、耐ドライエッチング性、ラインエッジラフネス及び現像性能に優れたポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁 - The film working method comprises stretching a resin film continuously in the direction of 5-85° to the width direction, wherein the in-plane phase difference of a film after stretching by light of the wavelength of 590 nm is made to be 50-1,200 nm.
樹脂フィルムをその幅方向に対して５〜８５度の方向に連続的に延伸する方法であって、延伸後のフィルムの波長５９０ｎｍの光による面内位相差を５０〜１,２００ｎｍとなすフィルム加工方法。 - 特許庁 - In the fibrous carbon structure 1 having a plurality of space parts 3 surrounded by a carbon wall 2 and a minor diameter of 5 nm to 5 μm, the thickness of the carbon wall 2a existing between the adjacent space parts is defined as ≥5 nm.
炭素壁２で包囲された空間部３を複数有する、短径が５ｎｍ以上５μｍ以下の繊維状炭素構造体１において、空間部３同士の間に存在する炭素壁２ａの厚さを５ｎｍ以上とする。 - 特許庁 - The light diffusion plate 3 includes a transparent resin and light-diffusing particles, wherein the transparent resin has a light transmittance of ≥65% when light having a wavelength of 600 nm is transmitted through an optical path length of 200 nm.
本発明の光拡散板３は、透明樹脂および光拡散粒子からなり、前記透明樹脂は、２００ｍｍの光路長を波長６００ｎｍの光が透過するときの光線透過率が６５％以上である。 - 特許庁 - In the fiber 32, wavelength dispersion DDCF (unit: ps/nm/km) and dispersion slope SDCF (unit: ps/mn2/km) in 1550 nm wavelength respectively satisfy relational expressions -250≤DDCF≤-40 and 0.015≤SDCF/DDCF≤0.030.
分散補償光ファイバ３２は、波長１５５０ｎｍにおいて波長分散Ｄ_DCF（単位：ｐｓ／ｎｍ／ｋｍ）および分散スロープＳ_DCF（単位：ｐｓ／ｎｍ^2／ｋｍ）が −２５０≦Ｄ_DCF≦−４０ および ０．０１５≦Ｓ_DCF／Ｄ_DC_F≦０．０３０ なる関係式を満たす。 - 特許庁 - The green phosphor has only one maximum luminescent peak corresponding to 520 to 555 nm or a side peak having a relative size 20% not more than the maximum luminescent peak as well as the maximum luminescent peak of 520 to 555 nm.
緑色蛍光体は５２０〜５５５ｎｍに対応する一つの最大発光ピークのみを有することや、５２０〜５５５ｎｍの最大発光ピーク以外に前記最大発光ピークと比較して２０%以下の相対大きさを有するサイドピークを有する。 - 特許庁 - The zirconium oxide hydrate particles of the present invention are represented by the general formula: ZrO_2*nH_2O, wherein the average primary particle diameter is 0.5 nm or more and 5 nm or less, and n in the general formula is a number exceeding 2.5.
本発明の酸化ジルコニウム水和物粒子は、一般式ＺｒＯ_2・ｎＨ_2Ｏで表され、平均一次粒子径は、０．５ｎｍ以上５ｎｍ以下であり、前記一般式中のｎは、２．５を超える数であることを特徴とする。 - 特許庁 - An MQW structure active layer 5 is formed by total lamination of five layers of a well layer 51 made of an In_0.30Ga_0.70N with a film thickness of about 3.5 nm and a barrier layer 52 made of a GaN with a film thickness of about 7 nm.
ＭＱＷ構造の活性層５は膜厚約３．５ｎｍのＩｎ_0.30Ｇａ_0.70Ｎから成る井戸層５１と膜厚約７ｎｍのＧａＮから成るバリア層５２とが交互に合計５層積層することにより形成されている。 - 特許庁 - The resist film 17 is required to be relatively thin so as to prevent increase in an aspect ratio, and preferably having a thickness of not more than 350 nm, and preferably not less than 75 nm when the film is made of a general resist material.
レジスト膜１７はアスペクト比が大きくならないように比較的薄膜であることが必要であり３５０ｎｍ以下であることが好ましく、一般的なレジスト材料からなる場合には７５ｎｍ以上であることが好ましい。 - 特許庁 - The fluorescence L3 generated from the organism 10 to be measured is received by a CCD imaging element 125, which is tipped with a mosaic filter 123 consisting of a filter transmitting light in the wavelength band of 480 nm±70 nm and a blank transmitting light in the whole wavelength band, by way of an image fiber 103.
測定部10から発せられる蛍光L3は、イメージファイバ103 を介して、透過帯域４８０nm±７０nmのフィルタと全波長帯域を透過させるブランクから成るモザイクフィルタ123 がオンチップされたＣＣＤ撮像素子125 に受光される。 - 特許庁 - The Co-Zr-Ta based amorphous phase of the magnetic substance contains a crystal phase having a maximum diameter of 10 nm to 30 nm at a volume ratio of 0.006% to 6.2%, or at a rate of 8 to 7,200 per 1 μm^3.
この磁性体のＣｏ−Ｚｒ−Ｔａ系のアモルファス相は、最大径１０ｎｍ〜３０ｎｍの結晶相を体積比０．００６％〜６．２％で含んでいるか、あるいは１μｍ^３あたり８個〜７２００個の割合で含んでいる。 - 特許庁 - To provide a compact and inexpensive optical head capable of playing back a DVD whose base plate thickness is 0.6 mm with a laser beam whose wavelength is 650 nm and a CD whose base plate thickness is 1.2 mm with a laser beam whose wavelength is 780 nm by one lens without requiring a restriction aperture.
光量の損失なく、安価に、精度よく１つのレンズで、波長７８０ｎｍの光で基板厚さ１．２ｍｍのＣＤを再生し、波長６５０ｎｍの光で基板厚さ０．６ｍｍのＤＶＤを再生する。 - 特許庁 - In the image recording material, at least part of an image surface after image recording has recesses and projections which have oblique faces inclined from the bottom of the part, the heights of the recesses and projections are 50 nm or more, and intervals between the recesses and projections are 500 nm or less.
画像記録後における画像面の少なくとも一部に底部から傾斜した斜面を有する凹凸を有し、該凹凸高さが５０ｎｍ以上であり、かつ凹凸間隔が５００ｎｍ以下である画像記録材料である。 - 特許庁 - The gate oxide film 12 is formed to have a thickness of 2.5 nm, same as that of the gate oxide film of a transistor in a logic circuit 3, and the gate oxide film 13 is formed to have a thickness of 5.0 nm, same as that of the gate oxide film of a transistor in an input circuit 2.
ゲート酸化膜１２の厚さは、論理回路３中のトランジスタのゲート酸化膜と同じ２．５ｎｍに形成され、ゲート酸化膜１３は、入力回路２中のトランジスタのゲート酸化膜と同じ５．０ｎｍに形成されている。 - 特許庁 - A silicon nitride film 23 of several nm in thickness, the cavity 24 of 50 nm in width, a silicon nitride film 23, a silicon oxide film 25 containing carbon, a silicon nitride film 23, a cavity 24, a silicon nitride film 23, and copper wiring 22, are formed in order between the copper wirings 22.
銅配線２２の間には、数ｎｍのシリコン窒化膜２３、幅５０ｎｍの空洞２４、シリコン窒化膜２３、炭素含有シリコン酸化膜２５、シリコン窒化膜２３、空洞２４、シリコン窒化膜２３、銅配線２２が順に形成されている。 - 特許庁 - A light λ5 of 205 to 235 nm wavelength is output from the side of the OPO 30 via a harmonic generator 53 and a light λ6 of 1,988 to 2,090 nm is output from the side of the OPO 40, and the light λ5 and the light λ6 are input to a sum frequency generation section 90.
ＯＰＯ３０側からは、高調波発生器５３を経て波長２０５〜２３５ｎｍの光λ５、ＯＰＯ４０側からは、１９８８〜２０９０ｎｍの光λ６が出力され、和周波発生部９０に入力される。 - 特許庁 - In an Al-Mg-Si alloy or an Al-Mg-Si-Cu alloy, intergranular precipitates are present at the intervals of ≥110 nm, and, furthermore, the dimensions of the precipitates in the intergranular direction are controlled to ≥70 nm.
Ａｌ−Ｍｇ−Ｓｉ系合金あるいはＡｌ−Ｍｇ−Ｓｉ−Ｃｕ系合金において、粒界析出物が１１０nm以上の間隔で存在するとともに、析出物の粒界方向における寸法を７０nm以上とする。 - 特許庁 - This fuel vapor adsorbent has a structure having pores of 50% or more in a range of a pore diameter of 1.4 nm-2.8 nm and a pore area of 0.3 ml or more per 1 ml of adsorbent and the adsorbent is set to granular materials.
燃料蒸気吸着剤を、細孔径１．４ｎｍ〜２．８ｎｍの範囲に５０％以上の細孔を持ち、かつ吸着剤１ｍｌあたり０．３ｍｌ以上の細孔容積を持つ構成とし、かつこの吸着剤を粒状とする。 - 特許庁 - For DVD laser light L1 of 650 nm in wavelength, diffracted light L1(0) of (0)th order is generated with maximum efficiency and for CD laser light L2 of 780 nm in wavelength, 1st-order diffracted light L2(1) is generated with maximum efficiency.
６５０ｎｍ波長のＤＶＤ用レーザ光Ｌ１に対しては最大効率で０次回折光Ｌ１（０）が発生し、７８０ｎｍ波長のＣＤ用レーザ光Ｌ２に対しては最大効率で１次回折光Ｌ２（１）が発生する。 - 特許庁 - In the main part, the content of the diffused metal constituent C_F is 0.2-15 mass%, and the thickness t1 is not smaller than 1 nm and not larger than 100 nm, and larger than the thickness t2 of the noble metal concentration transition part.
主要部は、拡散金属成分Ｃ_Ｆの含有量が０.２質量％以上１５質量％以下であり、かつ厚さｔ１が１ｎｍを超え１００ｎｍ以下であって貴金属濃度遷移部の厚さｔ２よりも大きい。 - 特許庁 - This LED chip 2 is covered with a phosphor layer 9 (phosphor-containing resin layer 9) in which a yellow-based phosphor and a red phosphor each having a main wavelength of 550 nm-570 nm are mixed and dispersed in a transparent resin.
このＬＥＤチップ２は、５５０ｎｍ以上５７０ｎｍ以下の主波長を有する黄色系蛍光体と赤色蛍光体とを透明樹脂に混合・分散させた蛍光体層９（蛍光体含有樹脂層９）により覆われている。 - 特許庁 - On at least one reflection facet of a laser medium of an oscillation wavelength λ [nm] and an effective refractive index n_0 having two reflection facets defining an optical resonator, a first layer of a thickness d_1[nm] made of silicon oxide is formed.
光共振器を画定する２つの反射面を有する発振波長λ［ｎｍ］、実効屈折率ｎ_0のレーザ媒質の少なくとも１つの反射面上に、酸化シリコンからなる厚さｄ_1［ｎｍ］の第１の層が形成されている。 - 特許庁
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