「nm」を含む例文一覧(14378)
＜前へ 1 2 .... 57 58 59 60 61 62 63 64 65 .... 287 288 次へ＞- A reflection film is proposed which includes a cycloolefin-based resin composition having a cycloolefin-based resin as a main component, the yellow chromaticity (YI value) of the reflection film is less than 1.4 and each light reflection rate with respect to light with wavelength of 615 nm, 545 nm and 440 nm is 97% or more.
シクロオレフィン系樹脂を主たる構成成分とするシクロオレフィン系樹脂組成物を含有する反射フィルムであって、該反射フィルムの黄色度（ＹＩ値）が１．４未満であり、波長６１５ｎｍ、５４５ｎｍ及び４４０ｎｍの光に対する光反射率がいずれも９７％以上であることを特徴とする反射フィルムを提案する。 - 特許庁 - The LED package 1 packages a red LED element 3 of central wavelength of 600 to 680 nm, a blue LED element 2 of central wavelength of 430 to 480 nm having a light emitting area wider than the red LED element, and a fluorescent substance which is excited by the blue LED element and emits light of central wavelength of 530 to 590 nm.
本発明のＬＥＤパッケージ１は、中心波長が６００〜６８０ｎｍの赤色ＬＥＤ素子３と、中心波長が４３０〜４８０ｎｍで、赤色ＬＥＤ素子よりも発光面積が広い青色ＬＥＤ素子２と、青色ＬＥＤ素子により励起されて中心波長５３０〜５９０ｎｍの光を発光する蛍光体とをパッケージングしたものである。 - 特許庁 - The activated carbon for the electrochemical device is configured such that the total sum of pore volume with the slit width available by the MP method being W1-W2 inclusive is ≥15% of the total sum of pore volume whose slit width is ≤2.0 nm, when W1 and W2 meet 1.0 nm≤W1<W2≤2.0 nm.
本発明の電気化学素子用活性炭は、１．０ｎｍ≦Ｗ１＜Ｗ２≦２．０ｎｍであるＷ１とＷ２に対して、ＭＰ法により得られるスリット幅がＷ１以上かつＷ２以下である細孔容積の総和が、同スリット幅が２．０ｎｍ以下である細孔容積の総和の１５パーセント以上であることを特徴としている。 - 特許庁 - The gas-liquid contact membrane for producing ozone water has fine holes; the pitch of the fine holes is 30-1,000 nm; the fine hole diameter is 10-300 nm; the thickness of the gas-liquid contact membrane is 30-1,000 nm, and a standard deviation of the fine holes in the hole diameter distribution is 30% or less of an average value.
細孔を有するオゾン水生成用気液接触膜であって、該細孔の細孔ピッチが３０〜１０００ｎｍであり、該細孔の細孔径が１０〜３００ｎｍであり、該気液接触膜の厚さが３０〜１０００ｎｍであり、かつ該細孔の孔径分布における標準偏差が平均値の３０％以下である、オゾン水生成用気液接触膜。 - 特許庁 - An electrochromic element is provided, wherein, in a colored state, an average optical density in a 450 to 470 nm wavelength range, an average optical density in a 540 to 560 nm wavelength range, and an average optical density in a 630 to 650 nm wavelength range have dispersion (difference of a maximum value and a minimum value of the three averages) equal to or less than 0.5.
エレクトロクロミック素子であって、該素子の発色状態において、波長４５０〜４７０ｎｍの光学濃度の平均値、波長５４０〜５６０ｎｍの光学濃度の平均値、および波長６３０〜６５０ｎｍの光学濃度の平均値のばらつき（３つの平均値の最大値と最小値の差）が光学濃度０．５以下であるエレクトロクロミック素子。 - 特許庁 - The main part of the waveguide 20 is laminated structure consisting of an InP layer 22, an AlInAs layer 23 having 100 nm thickness, a GaInAsP layer 24, an AlInAs layer having 50 nm thickness, a GaInAsP layer 26, an AlInAs layer 27 having 100 nm thickness, and an InP layer 28 and formed on the InP substrate as a ridge 30.
本半導体光導波路２０の要部は、ＩｎＰ基板２１上に形成され、ＩｎＰ層２２、厚さ１００ｎｍのＡｌＩｎＡｓ層２３、ＧａＩｎＡｓＰ層２４、厚さ５０ｎｍのＡｌＩｎＡｓ層２５、ＧａＩｎＡｓＰ層２６、厚さ１００ｎｍのＡｌＩｎＡｓ層２７、及び、ＩｎＰ層２８の積層構造であって、リッジ３０として形成されている。 - 特許庁 - In the organic EL display device in which a white light-emitting organic EL element is combined with a color filter having at least red, green and blue pixels, the green pixel of the color filter has a transmittance at wavelengths of 475 nm and 595 nm of 2.0% or less, and the maximum transmittance at wavelengths of 400-700 nm of 40% or more.
白色発光の有機ＥＬ素子と少なくとも赤色、緑色、青色の画素を持つカラーフィルタを組み合わせた有機ＥＬ表示装置に用いられるカラーフィルタであって、該カラーフィルタの緑色画素の４７５ｎｍと５９５ｎｍにおける透過率が２．０％以下であり、かつ４００ｎｍ乃至７００ｎｍにおける最大透過率が４０％以上である。 - 特許庁 - In transmittance spectra 43 of the optical filter, the transmittance in a region 43a of 430 to 445 nm for the wavelength, the transmittance in a region of 43b of 535 to 560 nm for the wavelength, and the transmittance in a region 43c of 605 to 630 nm for the wavelength are specified below 80% of the maximum value of the transmittance in the entire wavelength region of the visible light.
光学フィルタの透過率スペクトル４３において、波長が４３０乃至４４５ｎｍの領域４３ａの透過率、波長が５３５乃至５６０ｎｍの領域４３ｂの透過率、波長が６０５乃至６３０ｎｍの領域４３ｃの透過率を、可視光の全波長領域における透過率の最大値の８０％以下とする。 - 特許庁 - When the birefringence is 1.2 nm/cm or less, a pattern including an isolated line is exposed; when the birefringence is 2 nm/cm or less, a pattern including dense lines is exposed with high control accuracy of the line width; and when the birefringence is 4 nm/cm or less, a pattern containing dense lines is exposed at regular control accuracy of the line width.
複屈折量が１．２ｎｍ／ｃｍ以下の場合には、孤立線を含むパターンを露光し、複屈折量が２ｎｍ／ｃｍ以下の場合には、密集線を含むパターンを高い線幅制御精度で露光し、複屈折量が４ｎｍ／ｃｍ以下の場合には、密集線を含むパターンを通常の線幅制御精度で露光する。 - 特許庁 - The LED device is provided with at least a blue light emitting element 11 having a luminous peak wavelength of 420-480 nm, a green phosphor 16 which has a fluorescence spectrum within the range of 500-580 nm based on the light emitted from the blue light emitting element 11, and a red light emitting element 13 having a luminous peak wavelength of 600-670 nm.
少なくとも、発光ピーク波長が４２０ｎｍ〜４８０ｎｍである青色発光素子１１と、前記青色発光素子の発光により５００ｎｍ〜５８０ｎｍの範囲で蛍光スペクトルを有する緑色蛍光体１６と、発光ピーク波長が６００ｎｍ〜６７０ｎｍである赤色発光素子１３とを具備するＬＥＤデバイス。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition suitable for use under an exposure light source of ≤250 nm, particularly F_2 excimer laser light (157 nm), and to specifically provide a positive resist composition exhibiting satisfactory transmittance when a light source of 157 nm is used, having high dry etching resistance, and excellent in line edge roughness and image forming properties.
２５０ｎｍ以下、特にＦ_2エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には１５７ｎｍの光源使用時に十分な透過性を示し、耐ドライエッチング性が高く、ラインエッジラフネス特性に優れ、画像形成性の諸特性に優れたポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - The fluorescent lamp is provided with a light-emitting layer 8 composed of a mixed phosphor containing a blue green color phosphor activated by europium with an emission peak wavelength of 470 to 500 nm, a green color phosphor activated by terbium with an emission peak wavelength of 535 to 570 nm, and a red color phosphor activated by tin with an emission peak wavelength of 620 to 640 nm.
ユーロピウムで付活された発光ピーク波長が４７０〜５００ｎｍにある青緑色蛍光体と、テルビウムで付活された発光ピーク波長が５３５〜５７０ｎｍにある緑色蛍光体と、スズで付活された発光ピーク波長が６２０〜６４０ｎｍにある赤色蛍光体を主成分とする混合蛍光体からなる発光層８を備える。 - 特許庁 - Materials of thin film with high refractive index constituting the polarized light separation film (1) are considered as titanium dioxide for the film groups considering the wavelength bands of 650 nm and 780 nm and are considered as mixture (H4) of the titanium dioxide and lanthanum oxide for the film group considering the wavelength band of 405 nm with low absorption though the refractive index is lower than that of the titanium dioxide.
偏光分離膜(1)を成す高屈折率の薄膜の材料を、６５０ｎｍと７８０ｎｍの波長帯域を対象とする膜群については二酸化チタンとし、４０５ｎｍの波長帯域を対象とする膜群については、二酸化チタンよりも屈折率は低いものの、吸収率の低い二酸化チタンと酸化ランタンの混合物（H4）とする。 - 特許庁 - The platy body for the insulating window is provided with a first layer having a layer thickness of 200-350 nm constituted by bonding translucent electrically conductive oxide fine particles having an average particle size of 5-40 nm with a matrix mainly composed of silicon oxide, and a second layer containing silicon oxide having a layer thickness of 20-150 nm on the surface of a translucent platy body.
平均一次粒子径５〜４０ｎｍの透明導電性酸化物微粒子が酸化ケイ素を主体とするマトリックスで結合されている構成の、層厚２００〜３５０ｎｍの第１層と、酸化ケイ素を含む、層厚２０〜１５０ｎｍの第２層とが、透明な板状体の表面に設けられたことを特徴とする断熱性窓用板状体。 - 特許庁 - Since the optical filter 19 has characteristics to cut all the light on the infrared side from a threshold wavelength larger than 805 nm and smaller than 815 nm, heat rays on the infrared side including wavelengths around 825 nm, which is substantially the first peak P of the radiation intensity of a xenon lamp widely used as a light source, can be securely eliminated.
光学フィルター１９が、８０５ｎｍより大きく８１５ｎｍより小さい波長である閾値よりも赤外側の光を全てカットする特性のため、光源として広く使用されているキセノンランプの放射強度の実質的に最初のピークＰとなる８２５ｎｍ付近を含む赤外側の熱線を確実に除去することができる。 - 特許庁 - The filter for the display unit has preferably 60≤L*≤80 of CIE color coordinates of the filter for the display unit under the D65 light source, and includes the first pigment for absorbing a light having 380-480 nm of wavelength, the second pigment for absorbing a light having 450-550 nm of wavelength, and the third pigment for absorbing a light having 560-620 nm of wavelength.
ディスプレイ装置用フィルターは、Ｄ６５光源下でディスプレイ装置用フィルターのＣＩＥ色座標が、６０≦Ｌ＊≦８０であることが好ましく、３８０〜４８０ｎｍ波長の光を吸収する第１色素と、４５０〜５５０ｎｍ波長の光を吸収する第２色素と、５６０〜６２０ｎｍ波長の光を吸収する第３色素を含む。 - 特許庁 - Using a just mercury-free noble gas for a discharging medium and a gadolinium-activated ultraviolet emitting fluorescent substance for a fluorescent substance, it emits just narrow-band UV-B showing a sharp peak at the wavelength of 313 nm and no ultraviolet rays at the wavelength of 254 nm harmful to human bodies, which eliminates the need for a filter for cutting an ultraviolet ray at the wavelength of 254 nm.
特に、放電媒体の気体に水銀を含まない希ガスだけを用い、蛍光体にガドリニウム付活の紫外発光蛍光体を用いることにより、人体に有害な波長２５４ｎｍの紫外線がなく、波長３１３ｎｍに鋭いピークを持つナローバンドＵＶ−Ｂしか放射せず、２５４ｎｍの紫外線カット用のフィルターを不要とする。 - 特許庁 - The suppor for the magnetic recording medium has a layer (layer M) containing a metal based inorganic compound, formed on at least one surface of a polyester film, wherein the layer M has 50 to 200 nm thickness, at least the one layer M has 15 to 40 nm arithmetic average roughness Ra and 150 to 300 nm maximum sectional height Rt.
ポリエステルフィルムの少なくとも片面に金属系無機化合物を含む層（Ｍ層）が設けられ、Ｍ層の厚みが５０〜２００ｎｍである磁気記録媒体用支持体であって、少なくとも一方のＭ層の算術平均粗さＲａが１５〜４０ｎｍであり、最大断面高さＲｔが１５０〜３００ｎｍである磁気記録媒体用支持体とする。 - 特許庁 - The light emitting diode lighting system includes a light emitting diode device having a light emitting diode, and a wavelength converter for converting light emission from the diode into required colored light for emitting white light from the required colored light and the light emitted from the diode; and has respective light emission wavelength regions including, at least, 400-500 nm, 500-600 nm and 600-700 nm.
発光ダイオードとこの発光ダイオードからの発光を所要色光所要色光に変換する波長変換体とを有し、この所要色光と発光ダイオードの発光とから白色光を放射する発光ダイオード装置を具備し、少なくとも４００〜５００ｎｍ、５００〜６００ｎｍ、６００〜７００ｎｍの発光波長域をそれぞれ有する。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition suitable for use under an exposure light source of ≤200 nm, particularly F_2 excimer laser light (157 nm), and to specifically provide a positive resist composition which exhibits satisfactory transmittance when a light source of 157 nm is used and are improved in solvent solubility, occurrence of striation, coating uniformity and line edge roughness.
２００ｎｍ以下、特にＦ_２エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には１５７ｎｍの光源使用時に十分な透過性を示し、且つ溶剤溶解性、ストリエーションの発生、塗布均一性、ラインエッジラフネス等の改良されたポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - The device comprising a combination of the stimulation source for generating light with 350 to 415 nm and the phosphorus, the phosphorous containing a crystal phase whose chemical composition is expressed in generic formula [1] and having a light emission peak in a wavelength region of 425 nm or over and 490 nm or below by the emission of light from a first light emitting body.
３５０−４１５ｎｍの光を発生する励起源と蛍光体を組み合わせた装置において、一般式［１］の化学組成を有する結晶相を含有し、第１の発光体からの光の照射により４２５ｎｍ以上４９０ｎｍ以下の波長領域に発光ピークを有する蛍光体を使用した発光装置。 - 特許庁 - In the antireflection structure which is constituted by arranging an infinite number of conical minute projections having bottom surface size of 50 to 380 nm at a pitch of 50 to 380 nm, the minute projection is made of a particle of 10 to 50 nm sphere conversion diameter and a resin and addition amount of the particle lies within a range between 20 weight % and 60 weight %.
錐体状をなし、底面の大きさが５０〜３８０ｎｍの無数の微細突起が５０〜３８０ｎｍのピッチで配置されて成る反射防止構造において、上記微細突起を球換算直径で１０〜５０ｎｍの粒子と樹脂から成るものとし、当該粒子の添加量を２０〜６０重量％の範囲内とする。 - 特許庁 - The backlight comprises a band pass filter 4 for transmitting blue light having a center wavelength of 400 to 440 nm, green light having a center wavelength of 520 to 530 nm and red light having a center wavelength of 620 to 640 nm, and a light source 1 for emitting light at least in the above wavelength bands toward the band pass filter.
４００〜４４０ｎｍの中心波長を有する青色光、５２０〜５３０ｎｍの中心波長を有する緑色光及び６２０〜６４０ｎｍの中心波長を有する赤色光のそれぞれを透過させるバンドパスフィルタ４と、少なくとも前記波長帯域の光を前記バンドパスフィルタに向けて出射する光源１とを備えることを特徴とする。 - 特許庁 - A prescribed light transmissive member arranged in the optical path is an optical material having light transmission properties to light having a wavelength of 150 nm or longer and 250 nm or shorter, and is formed of an optical material in which the amount of the fluctuation of birefringence when light enters in a prescribed usage state is 3 nm/cm or shorter.
光路中に配置された所定の光透過部材は、１５０ｎｍ以上で２５０ｎｍ以下の波長を有する光に対して透過性を有する光学材料であって、所定の使用条件下において光が入射したときの複屈折の変動量が３ｎｍ／ｃｍ以下である光学材料により形成されている。 - 特許庁 - This magnetic recording medium has a magnetic layer, containing ferromagnetic powder on a non-magnetic support, and the magnetic layer contains non-magnetic powder of 2 to 40 nm in average diameter and that the ferromagnetic powder is hexagonal ferrite powder of 10 to 35 nm for the average diameter or ferromagnetic metal powder of 10 to 100 nm of average diameter.
非磁性支持体上に強磁性粉末を含む磁性層を設けた磁気記録媒体において、前記磁性層が平均粒径２〜４０ｎｍの非磁性粉末を含有し、かつ強磁性粉末が平均粒径１０〜３５ｎｍの六方晶系フェライト粉末、あるいは、平均粒径１０〜１００ｎｍの強磁性金属粉末であることを特徴とする磁気記録媒体。 - 特許庁 - A first area 503a formed by dividing a diffraction plane 503 in a concentric circular form forms diffraction structure of radius 1.6 mm corresponding to NA o.65 of a HD system optical recording medium, a luminous flux of wavelength 405 nm is put in 0-th order light and +1st order diffraction light, luminous flux of wavelength 660 nm and of 785 nm are transmitted as 0-th order light.
回折面５０３を同心円状に分割した第１の領域５０３ａは、ＨＤ系光記録媒体のＮＡ０.６５に相当する半径１.６ｍｍの回折構造を形成、波長４０５ｎｍの光束は０次光と＋１次回折光に振り分け、波長６６０ｎｍ，７８５ｎｍの光束は０次光で透過する。 - 特許庁 - The optical multilayered film 3 has functions for cutting ultraviolet rays of 320 nm wavelength or less yellowing the optical anisotropic material layer 5, transmitting ultraviolet lays of 360-410 nm wavelengths necessary for polymerizing or curing the polymerizable liquid crystal composition or a photo-polymerizable adhesive, and preventing reflection of light of a wavelength of 405 nm band.
前記光学多層膜３は、光学異方性材料層を黄変させる波長３２０ｎｍ以下の紫外線をカットし、重合性液晶組成物や光重合性接着剤を重合あるいは硬化させるために必要な波長３６０〜４１０ｎｍの紫外線を透過し、さらに波長４０５ｎｍ帯の光を反射防止する機能をもつ。 - 特許庁 - The toner for electrostatic latent image development contains at least a binder resin and a release agent, wherein the dispersion diameter Ws (nm) of the release agent existing within 0.5 μm from the toner surface and a dispersion diameter Wc (nm) of the release agent existing outside this range have relation Wc>Ws, where Ws is ≥50 nm.
少なくとも結着樹脂、離型剤を含有する静電潜像現像用トナーにおいて、トナー表面から０．５μｍ以内に存在する離型剤分散径Ｗｓ（ｎｍ）と、前記範囲外に存在する離型剤分散径Ｗｃ（ｎｍ）との関係が Ｗｃ＞Ｗｓ ただし、Ｗｓ≧５０ｎｍであることを特徴とする静電潜像現像用トナー。 - 特許庁 - The air pollution sensor system comprises at least one particle sensor capable of sensing particles with a diameter in a range of approximately 5-2,500 nm, preferably in a range of approximately 5-1,000 nm and more preferably in a range of approximately 5-500 nm inside the enclosure and providing a pollution information signal in response to the sensing of the particles.
大気汚染センサシステムは、前記筐体内部に存在する、約５ｎｍから２５００ｎｍ範囲、好適には約５ｎｍから１０００ｎｍ範囲で、より好適には約５ｎｍから５００ｎｍ範囲の直径を有する粒子を検出し、かつ前記粒子の検出に応じて汚染情報信号を供することが可能な粒子センサを少なくとも１つ有する。 - 特許庁 - An ultraviolet spectrum showing the relation between ultraviolet absorbance and the wavelength of ultraviolet rays is measured, with respect to an arbitrary sample and the average value of the absorbance values of ozone at wavelengths of 230 and 290 nm is subtracted from the absorbance value of ozone at a wavelength of 260 nm, using the absorbance data of ozone at wavelengths of 230, 260 and 290 nm of the measured ultraviolet spectrum, to calculate the concentration of ozone.
任意の試料について紫外線吸光度と紫外線の波長との関係を示す紫外線スペクトルを測定し、当該測定された紫外線スペクトルのうち、波長２３０，２６０，２９０ｎｍにおけるオゾンの吸光度の情報を用いて、２６０ｎｍでの吸光度の値からを２３０，２９０ｎｍでの吸光度の値の平均値を差分することによってオゾン濃度を算出する。 - 特許庁 - To provide a chemically amplified resist composition suitable for use of an exposure light source of ≤250 nm, particularly F_2 excimer laser light (157 nm), and to more specifically provide a chemically amplified resist composition excellent in sensitivity and dissolution contrast when using a light source of 157 nm and improved in development defects and density distribution dependency, and a pattern forming method using the same.
２５０ｎｍ以下、特にＦ_2エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適な化学増幅型レジスト組成物、より具体的には１５７ｎｍの光源使用時の感度、溶解コントラストに優れており、尚且つ、現像欠陥、疎密依存性が改良された化学増幅型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - The first electrode layer includes a metal portion having a thickness along a direction from the first semiconductor layer toward the first electrode layer ranging from 10 nm to 50 nm and a plurality of openings penetrating the metal portion along the above-mentioned direction each having a circle equivalent diameter ranging from 10 nm to 5 micrometers (μm).
第１電極層は、第１半導体層から第１電極層に向かう方向に沿った厚さが１０ｎｍ以上、５０ｎｍ以下である金属部と、前記方向に沿って金属部を貫通し、前記方向に沿ってみたときの形状の円相当直径が１０ｎｍ以上、５マイクロメートル（μｍ）以下である複数の開口部と、を有する。 - 特許庁 - For example, an antireflection film consisting of a TiN first light-absorbing film having 10 nm thickness, an Al2O3 dielectric film having 82 nm thickness formed on the first light-absorbing film, and a TiN second light-absorbing film having 12 nm thickness formed on the dielectric film is successively formed on a panel glass of a cathode ray tube.
たとえば、ブラウン管用パネルガラス上に順次形成された、厚さ１０ｎｍのＴｉＮの第１の光吸収膜、この第１の光吸収膜上に形成された厚さ８２ｎｍのＡｌ_2 Ｏ_3 の誘電体膜、この誘電体膜上に形成された厚さ１２ｎｍのＴｉＮの第２の光吸収膜からなる反射防止膜を形成する。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition suitable for use under an exposure light source of ≤200 nm, particularly F_2 excimer laser light (157 nm), and to specifically provide a positive resist composition for exposure with F_2 excimer laser light (157 nm) improved in coatability (uniformity of a coated surface), development defects and sensitivity in F_2 exposure.
本発明は、２００ｎｍ以下、特にＦ_2エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供すること、具体的には塗布性（塗布面の均一性）、現像欠陥性、及びＦ_2露光時の感度が改良されたＦ_2エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）露光用のポジ型レジスト組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁 - The laminated film for the dye-sensitized solar cell comprises the polyester film having ≤5% light transmission at 380 nm wavelength, ≤50% light transmission at 400 nm and ≥70% light transmission at 420 nm and the transparent electroconductive layer having ≥40mN/m surface tension and installed to the one face of the polyester film.
波長３８０ｎｍでの光線透過率が５％以下、４００ｎｍでの光線透過率が５０％以下かつ４２０ｎｍでの光線透過率が７０％以上であるポリエステルフィルム、およびその片面に設けられた表面張力が４０ｍＮ／ｍ以上の透明導電層からなる、色素増感型太陽電池用積層フィルム。 - 特許庁 - A process of adjusting coating liquid for forming a transparent conductive film including metal fine particles A with average particle size within the range of not exceeding 20 nm and metal fine particles B with average particle size of not less than 20 nm and not more than 50 nm is followed by a process of coating the coating liquid for forming the transparent conductive film.
平均粒径が２０ｎｍ未満の範囲にある金属微粒子Ａを含み、かつ平均粒径が２０ｎｍ以上５０ｎｍ以下の範囲にある金属微粒子Ｂを含む透明導電膜形成用塗布液を調製する工程の後に、該透明導電膜形成用塗布液を塗設する工程を含むことを特徴とする透明導電膜の製造方法。 - 特許庁 - In an illumination device having an optical filter, the optical filter has spectroscopic properties in which the center wavelength of the spectral characteristics is 480±25 nm, while transmittance at the wavelength of 430±25 nm of the short wavelength side and at the wavelength of 540±25 nm of the long wavelength side become half value of the transmittance at the center wavelength.
本発明に係る照明装置は、光学フィルタを有する照明装置において、前記光学フィルタは、分光特性の中心波長が４８０±２５ｎｍで、短波長側の波長４３０±２５ｎｍと長波長側の波長５４０±２５ｎｍとにおける透過率が前記中心波長の透過率の半値となる分光特性を有する。 - 特許庁 - The second electrode layer includes a metal portion that has a thickness ranging from 10 nm or more to 300 nm or less along the direction toward the second semiconductor layer from the first semiconductor layer, and a plurality of openings that penetrate through the metal portion along the direction and have a circle-equivalent diameter, as viewed from the direction, ranging from 10 nm or more to 5 μm or less.
第２電極層は、第１半導体層から第２半導体層に向かう方向に沿った厚さが１０ｎｍ以上、３００ｎｍ以下である金属部と、前記方向に沿って金属部を貫通し、前記方向にみたときの形状の円相当直径が１０ｎｍ以上、５μｍ以下である複数の開口部と、を有する。 - 特許庁 - In such a case, it is desirable that the low refractive index film 3 consisting of the hydrophobic porous silica material has 0.3-2.0 μm film thickness and ≤50 nm flatness expressed by the center line average roughness and the intermediate adhesive layer 4 composed of the transparent insulation film has 5-300 nm film thickness and ≤50 nm flatness expressed by the center line average roughness.
このとき、疎水性多孔質シリカ材料から成る低屈折率膜３は、０．３〜２．０μｍの膜厚と、中心線平均粗さ表示で５０ｎｍ以下の平坦度とを有し、透明絶縁膜から成る中間密着層４は、５〜３００ｎｍの膜厚と中心線平均粗さ表示で５０ｎｍ以下の平坦度とを有することが望ましい。 - 特許庁 - Then, an excimer light, composed mainly of a wavelength of 172 nm, i.e., ultraviolet light, is emitted, excites the ultraviolet light exciting the phosphor layer 15, thereby radiating a visible light containing a far-infrared light of not shorter than 700 nm in wavelength, suitable for growing plants.
すると、波長１７２nmを主体とするエキシマ光すなわち紫外線が放射され、この紫外線により、蛍光体層15を励起し、植物育成に適した波長７００nm以上の遠赤色光を含む可視光線を放射する。 - 特許庁 - To provide a near infrared absorption member that has a high transmission factor in a visible light region, and a low transmission factor in a near infrared region, steeply changes the transmission factor in a wavelength region from 630 nm to 700 nm, and is excellent in humidity resistance.
可視光領域の透過率が高く、近赤外線領域の透過率が低く、波長６３０〜７００ｎｍの間で急峻に透過率が変化し、かつ耐湿性に優れる近赤外線吸収部材を提供する。 - 特許庁 - The fluorescent cover 9 deposited on the resin sealing body 7 has an inner surface that has the same shape as the resin sealing body 7, and a phosphor is excited by a wavelength of 430-480 nm and has an emission peak at 500-600 nm.
樹脂封止体７に被着される蛍光カバー９は樹脂封止体７と同一の形状の内面を有し、蛍光体は４３０〜４８０ｎｍの波長によって励起され、５００〜６００ｎｍに発光ピークを有する。 - 特許庁 - To provide an anticorrosive film and an anticorrosive paint using a hollow nanoparticle made of a silica shell, by utilizing the insulating property and transparency of the hollow particle made of the silica shell having an outside diameter ranging from about 10 nm to about 300 nm.
約１０ｎｍから約３００ｎｍまでの範囲の外径を有するシリカ殻からなる中空粒子の絶縁性及び透明性を利用した、シリカ殻からなるナノ中空粒子を用いた防食膜及び防食塗料を提供する。 - 特許庁 - A multimode optical fiber has a refractive index profile such that, for a propagation mode other than the fundamental mode and at a wavelength of 1,550 nm, the fiber presents a positive chromatic dispersion greater than or equal to 50 ps/nm/km, a positive chromatic dispersion slope.
基本モード以外の伝播モードに対して、１５５０ｎｍの波長において、５０ｐｓ／ｎｍ／ｋｍ以上の正の波長分散と、正の波長分散勾配とを呈するような屈折率プロファイルを有する、マルチモード光ファイバ。 - 特許庁 - The transparent organic thin-film transistor is constituted by using a p-type organic semiconductor material in a semiconductor active layer, in which the maximum absorbance in the range of 400 to 700 nm, which is visible region, is 0.2 or less, when the thickness of a thin film is made to be 30 nm.
半導体活性層に、膜厚３０ｎｍの薄膜としたときに可視域である４００〜７００ｎｍの範囲の最大吸光度が０．２以下であるｐ型有機半導体材料を用いた透明有機薄膜トランジスタ。 - 特許庁 - The metal nanoparticles (A) are composed of metal nanoparticles (A1) having a particle size of <100 nm and metal nanoparticles (A2) having a particle size of 100-200 nm, wherein the volume ratio of the former/the latter is 90/10 to 30/70.
金属ナノ粒子（Ａ）は、粒子径１００ｎｍ未満の金属ナノ粒子（Ａ１）と粒子径１００〜２００ｎｍの金属ナノ粒子（Ａ２）とで構成され、かつ両者の体積比率が、前者／後者＝９０／１０〜３０／７０であってもよい。 - 特許庁 - To provide an optical fiber which can be matched with an existing transmission line of a 1,500 nm band, is yet adequate for CWDM (Coarse Wavelength Division Multiplexing) of a 1300 nm band, and is excellent in productibity.
１５００ｎｍ帯の既存の伝送路との整合がとれ、しかも、１３００ｎｍ帯のＣＷＤＭ（Ｃｏａｒｓｅ Ｗａｖｅｌｅｎｇｔｈ Ｄｉｖｉｓｉｏｎ Ｍｕｌｔｉｐｌｅｘｉｎｇ）伝送に好適で、製造性にすぐれた光ファイバを提供する。 - 特許庁 - This ultraviolet-shielding composition for the organic electroluminescence cell is characterized by containing a binder (A), an ultraviolet shielding agent (B), and metal nano-particles (C) having an absorption peak at 280-500 nm, and a particle diameter of 0.5-60 nm.
バインダー（Ａ）、紫外線遮蔽剤（Ｂ）、および２８０ｎｍ〜５００ｎｍに吸収ピークを有し、粒子径が０．５〜６０ｎｍである金属ナノ粒子（Ｃ）を含有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンスセル用紫外線遮蔽性組成物。 - 特許庁 - The infrared ray-emitting phosphor has emission intensity equal to or higher than conventional infrared ray-emitting phosphors having the main light-emitting peak wavelength at the vicinity of 985 nm, and has its main light-emitting peak wavelength at the vicinity of 1,020 nm.
従来の９８５ｎｍ付近に主発光ピーク波長を有する赤外発光蛍光体と同等またはそれ以上の発光強度を有し、かつ１０２０ｎｍ付近に主発光ピーク波長を有する赤外発光蛍光体となる。 - 特許庁 - By this, a thermoplastic film in which the number of adhesion marks is 10 marks/m^2 or less, the in-plane retardation Re is 0-500 nm and the retardation Rth in the thickness direction is 30-500 nm is produced.
これにより、粘着跡が１０点／ｍ^2 以下、面内のレターデーションＲｅが０ｎｍ以上５００ｎｍ以下、厚み方向のレターデーションＲｔｈが３０ｎｍ以上５００ｎｍ以下である熱可塑性フィルムが製造される。 - 特許庁
- 特許庁
- Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
