「nm」を含む例文一覧(14378)
＜前へ 1 2 .... 53 54 55 56 57 58 59 60 61 .... 287 288 次へ＞- Further, the total thickness of the upper light guide layer 5 and lower light guide layer 3 is 50 to 200 nm.
また、上部光ガイド層５と下部光ガイド層３の合計の厚みは５０ｎｍ以上２００ｎｍ以下である。 - 特許庁 - Into the sealant layer 16, an elastomer is added which consists of fine particles having an average particle size of 200 nm or smaller.
上記シーラント層１６には、平均粒径２００ｎｍ以下の微粒子からなるエラストマーが添加されている。 - 特許庁 - The maximum transmittance of the optical filter part for the light with a wavelength of 380-630 nm is 1% or less.
波長が３８０ｎｍ〜６３０ｎｍである光についての光フィルタ部の最大透過率が１％以下である。 - 特許庁 - (3) The film thickness of the semiconductor layer in the electrochemical sensor element described in (1) or (2) is 20-100 nm.
（３）前記半導体層の膜厚が、２０〜１００ｎｍの範囲にある（１）又は（２）に記載の電気化学センサ素子。 - 特許庁 - At least a part of the carbon carrier 91 is a low specific surface carbon carrier which is at least 4 nm in pore diameter.
カーボン担体９１の少なくとも一部は細孔径が４ｎｍ以上である低比表面積カーボン担体である。 - 特許庁 - The solid acid is obtained by sulfonating oxidized graphene and/or oxidized graphite with a thickness of 10 nm or less.
酸化グラフェン及び／又は厚さ１０ｎｍ以下の酸化グラファイトをスルホン化することによって得られる固体酸。 - 特許庁 - The substrate 1 is formed by a crystalline material having translucency in a wavelength range of 300-500 nm.
基板１は、波長が３００〜５００ｎｍの範囲で透光性を有する結晶質材料で形成されている。 - 特許庁 - The magnetic filter 80 removes ferrite particles that are included in film formation liquid and whose particle size is larger than 70 nm.
磁気フィルタ８０は、皮膜形成液に含まれる、粒径が７０ｎｍより大きいフェライト粒子を除去する。 - 特許庁 - It is desirable that the crystallite diameter of the magnetite as measured by an X-ray diffraction method is 60-90 nm.
Ｘ線回折法で測定されたマグネタイトの結晶子径が６０〜９０ｎｍであることが好適である。 - 特許庁 - The tribo-film is formed in a scope of depth of 10 nm or less from a sliding surface of the hard carbon thin film.
トライボフィルムが硬質炭素薄膜の摺動表面から深さ１０ｎｍ以内の範囲に形成される。 - 特許庁 - The transmission loss of the optical fiber 10 at wavelength 1,550 nm and the effective area satisfy a prescribed relation.
波長１５５０ｎｍにおける光ファイバ１０の伝送損失および実効断面積は所定の関係を満たす。 - 特許庁 - The maximum transmittance of the optical filter part for the light with a wavelength of 630-750 nm is 3% or less.
波長が６３０ｎｍ〜７５０ｎｍである光についての光フィルタ部の最大透過率が３％以下である。 - 特許庁 - The silicon film has the columnar structure of which the diameter is 10-100 nm and has a film thickness of 0.2-100 μm.
柱状構造の直径が１０〜１００ｎｍであって、膜厚が０．２〜１００μｍである前記シリコン膜。 - 特許庁 - The substrate has flatness of less than 230 nmPV and surface roughness in RMS of less than 0.20 nm.
平面度が２３０ｎｍＰＶ未満、表面粗さがＲＭＳで０．２０ｎｍ未満であることを特徴とする基板。 - 特許庁 - Then a perfluoropolyether-based material is applied as a lubricant to form a lubricant layer (2 nm) to obtain a magnetic disk.
その後、潤滑剤としてパーフルオロポリエーテル系のものを塗布して潤滑層（２ｎｍ）を形成し、磁気ディスクとする。 - 特許庁 - Green light of 500 to 550 nm with which human visibility is high is emitted from the LED array 4.
人に対する視感度が高い緑色の５００〜５５０ｎｍの光は、ＬＥＤアレイ４を用いて出射している。 - 特許庁 - To provide an ultraviolet-absorbing coating free from yellowish tone even after cutting 380-410 nm-lights off and having high transparency.
３８０〜４１０ｎｍをカットしても黄色味が無く透明感の高い紫外線吸収塗料を提供する。 - 特許庁 - The catalyst for producing olefin from methanol consists of ZSM-5 zeolite having ≤100 nm crystal diameter.
結晶径が１００ｎｍ以下のＺＳＭ−５型ゼオライトから成るメタノールからオレフィンを製造するための触媒。 - 特許庁 - To provide a high performance pellicle for lithography having high transmittance to fluorine excimer laser light of 158 nm wavelength.
フッ素エキシマレーザー光（波長：１５８ｎｍ）に対して透過率の高い、高性能なリソグラフィー用ペリクルを提供する。 - 特許庁 - The laser beams are continuous laser beams or pulse laser beams, and their wavelengths are in a range of 400 to 530 nm.
レーザー光は連続レーザー光またはパルスレーザー光であり、その波長は４００〜５３０ｎｍの範囲とする。 - 特許庁 - In a wavelength region of 450-500 nm, the value of the refractive index is smaller than the refractive index n_s of the light-transmitting layer 5.
４５０〜５００ｎｍの波長域では屈折率の値が光透過層５の屈折率ｎ_ｓよりも小さい。 - 特許庁 - A hole diameter of the ion-transmitting holes 22c in a thickness direction of the active substance layer 10 is to be 3 to 300 nm.
活物質層１０の厚さ方向におけるイオン通過性の孔２２ｃの孔径を３〜３００ｎｍとする。 - 特許庁 - The surface of the positive active material 153 is coated with a lithium salt 158 having an average thickness of 20-50 nm.
正極活物質１５３の表面は、平均厚み２０〜５０ｎｍのリチウム塩１５８で被覆されている。 - 特許庁 - The first emitter layer is formed as thin as about 7-15 nm, while the second emitter layer 6 is formed sufficiently thick.
第１エミッタ層５は７〜１５ｎｍ程度に薄く形成し、第２エミッタ層６は十分の膜厚に形成する。 - 特許庁 - After that, the surface of the ITO 10 is smoothed by grinding the surface of the ITO 10 by around 20 nm.
その後、ＩＴＯ１０の表面を２０ｎｍ程度研磨することによりＩＴＯ１０の表面を平滑化する。 - 特許庁 - At this time, preprocessing conditions are properly set so that the surface roughness RMS decreases to ≤60 nm.
このとき、前処理条件を適切に設定することで、面の表面粗さのＲＭＳを、６０ｎｍ以下とする。 - 特許庁 - The adhesive composition contains 1 to 20 mass% of an inorganic filler in which an average particle diameter is 1 to 200 nm.
接着剤組成物は、平均粒子径が１〜２００ｎｍの無機フィラーを１〜２０質量％含有する。 - 特許庁 - The inorganic component of the adhesive 7 is particles or domains having 30-200 nm average grain size.
接着剤７の無機成分は、３０ｎｍ〜２００ｎｍの平均粒径の大きさを持つ粒子またはドメインである。 - 特許庁 - To provide a heat-developable image recording material capable of recording an image in a short wavelength region of ≤500 nm.
５００ｎｍ以下の短波長領域で画像記録できる熱現像画像記録材料を提供すること。 - 特許庁 - An average transmissivity in 280-400 nm of the material is preferably 40-90%.
また、前記資材において、２８０〜４００ｎｍにおける平均透過率が４０〜９０％であることが好ましい。 - 特許庁 - The air purifier uses an UV radiant tube 21 generating UV with a wave length of 253.7 nm.
空気清浄器は、２５３.７ナノメートルの波長を有するＵＶを発生するＵＶ放射管２１を採用している。 - 特許庁 - The long fiber has a fiber diameter of 1 nm-10 μm and a length that is 100 times or more of the fiber diameter.
また、前記長繊維が、１ｎｍ〜１０μｍの繊維径と、繊維径に対して１００倍以上の長さを有する。 - 特許庁 - An object solid material 1 is irradiated with light 3 with 190 nm wavelength to be oxidized which is covered with a mask 2.
波長１９０ｎｍ以下の光３を、マスク２を被覆した被酸化固体材料１に対して照射する。 - 特許庁 - It is favorable that the particle diameter of the cubic boron nitride sintered compact is 30 nm or less when carbon is contained as graphite.
前記炭素がグラファイトとして含有されている場合には、その粒径が３０ｎｍ以下であることが好ましい。 - 特許庁 - To provide a molecular fluorine (F2) laser wherein one of the plural emission lines around 157 nm is efficiently selected.
約１５７ｎｍの複数の放出輝線の１つが有効に選択される分子フッ素（Ｆ_２）レーザを実現する。 - 特許庁 - A number of pores 21 having a pore diameter of 0.5-5 nm are formed on the surface of each ceramic particle.
各セラミック微粒子２０の粒子表面には、孔径が０．５ｎｍ〜５ｎｍの細孔２１が多数形成されている。 - 特許庁 - The microcapsule 12 is constructed so that the diameter and the most proximal distance are 360 to 400 nm.
また、マイクロカプセル１８の直径及び最近接間距離が３６０〜４００ｎｍになるように構成されている。 - 特許庁 - In the antenna element 11, the coil diameter is 1 nm to 2 mm and coil length is 0.01 μm to 100 mm.
アンテナ素子１１は、コイルの長さが１ｎｍ〜２ｍｍであり、コイルの長さが０．０１μｍ〜１００ｍｍである。 - 特許庁 - A projection has on a surface, fine recesses in which intervals of local tops are 2 to 25 nm.
凸部の表面上に、局部山頂の間隔が２ｎｍ以上２５ｎｍ以下である微小凹部が形成されている。 - 特許庁 - The full dimensional size of a constituting unit of components of the first conductive film is 300 nm or less.
前記第一導電膜の構成物質の構成ユニットの全次元の寸法は、３００ナノメートル以下である - 特許庁 - To provide a composite in which 100 nm or less-sized metal oxide nanoparticles are supported by carbon in a highly dispersed manner.
１００ｎｍ以下の金属酸化物ナノ粒子がカーボンに高分散担持された複合体を提供する。 - 特許庁 - The electron blocking layer 13 has a thickness of 2 to 8 nm and is formed of Mg-doped AlGaN having an Al compositional proportion of 20 to 30%.
電子ブロック層１３は、厚さ２〜８ｎｍ、Ａｌ組成比２０〜３０％のＭｇドープＡｌＧａＮからなる。 - 特許庁 - To provide a thin film photoelectric conversion device of high characteristics capable of using long wave light of ≥1100 nm.
１１００ｎｍ以上の長波光を利用可能な特性の高い薄膜光電変換装置を提供する。 - 特許庁 - The hard protective film is composed of a composite body of AlN fine crystals and Al_1-xO_xN_y fine crystals, each crystal having a crystal size of ≤20 nm.
何れも結晶粒径が20nm以下であるAlN微結晶とAl_1-xO_xN_y微結晶との複合体からなる硬質保護膜。 - 特許庁 - The CNF preferably have an external diameter of 10-30 nm, and an external specific surface area of 150-350 cm^2/g.
カーボンナノファイバーは、その外径が１０〜３０ｎｍで、外比表面積は１５０〜３５０ｃｍ^2／ｇが好ましい。 - 特許庁 - A smoothing processing is executed to a substrate after molding so as to turn the surface roughness Ra of the slope part of the substrate to be 2.0 nm or less.
基板の斜面部の表面粗さRaが2.0nm以下になるように成型後基板に平滑化処理を施す。 - 特許庁 - Preferably, the active rays are UV rays having an output peak in a range from 180 to 450 nm.
尚、前記活性光線が１８０〜４５０ｎｍに出力ピークを有するＵＶ光照射であることが好ましい。 - 特許庁 - Therein, it is preferable that at least one kind of the inorganic particles have a volume-average particle size of 100 to 500 nm.
前記無機粒子の少なくとも１種が体積平均粒子径１００〜５００ｎｍであることが好ましい。 - 特許庁 - At least a part of the carbon carrier is one with a low specific surface area with a pore diameter of 4 nm or more.
カーボン担体の少なくとも一部は細孔径が４ｎｍ以上である低比表面積カーボン担体である。 - 特許庁 - The total amount of shape error amplitude of even-numbered crests on each ball 3 is managed to be not more than 10 nm.
また、各玉３における偶数山の形状誤差振幅の合計が１０nm以下となるように管理する。 - 特許庁
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