The bead-like adsorbent comprises a main component of hydrophobic high polymer resin, with rupture elongation of 50% or more, having a surface with irregularities with 10-point average roughness Rz in a range of 200 nm or more, and 900 nm or less. ビーズ状吸着材は、十点平均粗さRzが200nm以上、900nm以下の範囲にある凹凸表面を有し、破断伸度が50%以上の疎水性高分子樹脂を主成分とする。 - 特許庁
The glass substrate includes a structure with periodical repeating projections and grooves in a length direction on at least one surface, and with a haze rate of wavelengths from 300 nm to 800 nm to be 30% or more. 少なくとも一面の長手方向に、突条と条溝との周期的な繰り返し構造を有するガラス基板であって、波長300nm〜800nmのヘイズ率が30%以上であることを特徴とするガラス基板。 - 特許庁
The resin composition contains an epoxy resin, a cyanate compound, a first silica having an average particle diameter of ≥0.1 μm and ≤10 μm, and a second silica having an average particle diameter of ≥1 nm and <100 nm. 本発明に係る樹脂組成物は、エポキシ樹脂と、シアネート化合物と、平均粒子径が0.1μm以上、10μm以下の第1のシリカと、平均粒子径が1nm以上、100nm未満の第2のシリカとを含む。 - 特許庁
The metallic nanoparticle cluster 3 is constituted in such a way that it forms a structure composed of an agglomerate of metallic nanoparticles 1 of 0.5 to 10 nm diameter and the diameter of the cluster as an agglomerate does not exceed 100 nm. 直径が0.5nm乃至10nmの範囲にあるナノ金属粒子1の集合からなる構造体であって、集合体としての直径が100nmを超えないようにナノ金属粒子クラスター3を構成する。 - 特許庁
The abrasive particle comprises a core-shell structure having an average particle diameter in the range of 5-300 nm and is composed mainly of a silica-based composite oxide having a thickness of the shell part (ST) in the range of 1-50 nm. 研磨用粒子は、平均粒子径(D)が5〜300nmの範囲にあるコア・シェル構造を有し、シェル部の厚さ(S_T )が1〜50nmの範囲にあるシリカを主成分とするシリカ系複合酸化物からなる。 - 特許庁
A surface roughness 2 with recessed and protruding parts 3 and 4 having the height of 10 nm to 1000 nm crowded is formed on a surface on which liquid boils and a surface treatment for effectively performing a heat transfer to liquid from the surface is carried out. 液体の沸騰が生じる面に、高さ10nm〜1000nmの凹凸体3、4が密集した表面粗さ2を形成してその面から液体への熱伝達を良好にする表面処理を行なう。 - 特許庁
Since the thin film can be coated with a 2 nm thick Ni in total up to here; thereafter when these processes are repeated 75 times, Ni coating of 150 nm thickness can be finished, while the state of maximum total stress of 0.5 N/m or smaller is kept, as it is. ここまでで合計2nmのNi膜をコートできたから、後はこれを75回繰り返せば、常に最大全応力0.5N/m以内の状態を維持したまま、厚さ150nmのNiをコートし終わることができる。 - 特許庁
This shininess removing composition contains silica fine particles having a particle diameter of 1-30 nm, wherein the silica fine particles comprise, for example, colloidal silica the surface of which is coated with alumina and which has a particle diameter of 10-20 nm. 本発明は、粒径が1〜30nmのシリカ微粒子、例えばアルミナで表面をコーティングした粒径が10〜20nmのコロイダルシリカを含有することを特徴とするテカリ除去剤組成物を提供する。 - 特許庁
A sheet made of a soft synthetic resin, wherein the light transmissivity of a wavelength region of <420 nm is substantially 0% and the light transmissivity of a wavelength region of 420 nm or more is substantially <20%, is used. 420nm未満の波長領域の透光率が実質的に0%であり、かつ420nm以上の波長領域の透光率が実質的に20%未満である軟質合成樹脂製シートを用いる。 - 特許庁
To use the oil filler cup 1 which at least partially has a transparent portion and, on the transparent portion, the transmissivity of light is 20% or less in the range of all wavelength from 330 nm or more to 360 nm or less. 少なくとも一部は透明であり、その透明部分において、波長330nm以上360nm以下の範囲の全ての波長の光の透過率は、20%以下である給油カップ1を使用する。 - 特許庁
This composite material contains a synthetic resin fiber having an average fiber diameter of 5-300 nm and a matrix material, wherein the composite material has a light transmittance of ≥50% at a wavelength of 400-700 nm, when converted into a thickness of 50 μm. 平均繊維径が5〜300nmの合成樹脂繊維とマトリクス材料とを含有し、50μm厚換算における波長400〜700nmの光線透過率が50%以上である複合材料。 - 特許庁
The light detecting element has spectral sensitivity characteristics having a peak of relative sensitivity somewhere within 500-600 nm, and the visible light signal is a signal having a peak of a luminescent wavelength somewhere within 500-600 nm. 光検出素子は500〜600nm内のいずれかに相対感度のピークを持つ分光感度特性であり、可視光信号は500〜600nm内のいずれかに発光波長のピークを持つ信号である。 - 特許庁
An oval hollow amorphous carbon nano-capsule having an outer diameter of 10-300 nm and a length of 30-500 nm is prepared by allowing gaseous decomposed product of polyvinyl chloride to contact with cobalt (II) chloride hexahydrate (catalyst) at 200-1,500°C. 外径が10〜300nmであり、長さが30〜500nmの中空楕円球状の形状を有するアモルファスカーボンナノカプセルを、ポリ塩化ビニルの気体状熱分解生成物を、塩化コバルト(II)六水和物(触媒)に200〜1500℃で接触させることにより得る。 - 特許庁
The color filter pixels are polished almost to 1.7 nm center line mean roughness (Ra), the transparent conductive film of ≥1.76 nm in center line mean roughness (Ra) is formed, and the spacer column is formed on the transparent conductive film. カラーフィルタ画素を中心線平均粗さ(Ra)1.7nm近くまで研磨し、中心線平均粗さ(Ra)1.76nm以上の透明導電膜を形成し、スペーサ柱を透明導電膜上に形成すること。 - 特許庁
The carbon fiber composite material comprises 100 pts.wt. of a fluorine-containing elastomer 30 and 5-40 pts.wt. of a vapor phase growth carbon fiber 40 with a mean diameter of >30 nm and ≤200 nm. 本発明の炭素繊維複合材料は、含フッ素エラストマー30を100重量部に対して、平均直径が30nmを超え200nm以下の気相成長炭素繊維40を5〜40重量部含む。 - 特許庁
In the optical element 1, scattering of light in a short wavelength region, particularly ≤500 nm, can be decreased by forming optical faces 1a, 1b having ≤5 nm center line surface average roughness on the both surfaces. この光学素子1は中心線表面平均粗さRaが5nm以下である光学面1a,1bを両面に有することにより、特に、500nm以下の短波長の光に対して散乱光を減じることができる。 - 特許庁
The inorganic oxide particles are incorporated in an amount sufficient to form an insect proofing layer which comes to have a light transmittance of a wavelength of ≤500 nm of ≤15% and, simultaneously, a light transmittance of a wavelength of ≥600 nm of ≥50%. 無機酸化物粒子は、500nm以下の波長の光透過率が15%以下でかつ600nm以上の波長の光透過率が50%以上となる防虫層を形成するに充分な量で、配合されている。 - 特許庁
The substrate for the magnetic disk has ≤0.3 nm long wavelength waviness and ≤0.2 nm AFM surface roughness as its surface characteristics. 特に、実生産レベルの加工速度を有し、波長の短い表面粗さ(AFM表面粗さ)と波長の長いうねり(長波長うねり)を同時に満足させた磁気ディスク用基板およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a write-once optical recording medium which shows good recording playing back characteristics in blue laser wavelength area (≤500 nm) especially in a wavelength area near 405 nm and can record in high density and has good storing stability. 青色レーザ波長領域(500nm以下)、特に405nm近傍の波長領域で良好な記録再生特性を示し、高密度記録可能で保存安定性が高い追記型光記録媒体の提供。 - 特許庁
To provide a positive resist composition having satisfactory transmittance when a light source of ≤160 nm, concretely F_2 excimer laser light (157 nm) is used and having high sensitivity, high resolution and excellent contact property to a developer. 160nm以下、具体的にはF_2エキシマレーザー光(157nm)の光源使用時に十分な透過性を示し、且つ高感度、高解像で、現像液に対する接触性に優れたポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁
The crystallized glass for the information recording disk is the crystallized glass obtained by this preparation process and has ≤100 nm average particle diameter of the crystal particle or ≥40% transmissivity at 600 nm wave length. この製造方法により得られる結晶化ガラスであって、結晶粒子の平均粒径が100nm以下であるか、または波長600nmにおける透過率が40%以上である情報記録ディスク用結晶化ガラス。 - 特許庁
Laser beams L1 containing the two oscillation lines of the first oscillation line (a wavelength λ1=157.6299 nm) and the second oscillation line (the wavelength λ2=157.5233 nm) are emitted from an output mirror 2 for a laser chamber 4. レーザチャンバ4の出力鏡2からは、第1の発振線(波長λ1=157.6299nm)、および第2の発振線(波長λ2=157.5233nm)の2つの発振線が含まれているレーザ光L1が出射される。 - 特許庁
The polarizing plate has a polarizing film, an oriented film having the retardation of ≥105 nm and ≤300 nm on one surface of the polarizing film, and a saturated norbornene film on the other surface of the polarizing film. 偏光膜と、前記偏光膜の一方の面上にレターデーションが105nm以上300nm以下の延伸フィルムと、前記偏光膜の他方の面上に飽和ノルボルネン系フィルムとを有する偏光板である。 - 特許庁
The fluidity of the toner is maintained over time by externally adding 0.2-0.7 wt.% of hydrophobic silica whose particle diameter is ≥100 nm and 1.0-2.0 wt.% of hydrophobic silica whose particle diameter is ≤20 nm to the toner. また、トナーに粒子径100[nm]以上の疎水性シリカを0.2〜0.7[重量%]、粒子径20[nm]以下の疎水性シリカを1.0〜2.0[重量%]外添することで、経時においてトナーの流動性を維持する。 - 特許庁
The objective lens condenses luminous fluxe of a plurality of wavelengths including a wavelength λ1 nm(390≤λ1≤430) and a wavelength λ2 nm(630≤λ2≤800), on an AOD 100 and a DVD 200. 対物レンズ5は、波長λ1(390[nm]≦λ1≦430[nm])及び波長λ2(630[nm]≦λ2≦800[nm])を含む複数の波長の光束をAOD100,DVD200に集光させるものである。 - 特許庁
To provide a photoresist pattern forming method using a radiation-sensitive resin composition and an upper layer film forming composition each having sufficient transmittance at an exposure wavelength, particularly at 248 nm (KrF) and 193 nm (ArF). 露光波長、特に248nm(KrF)および193nm(ArF)で十分な透過性を持つ、感放射線性樹脂組成物と上層膜形成組成物を用いたフォトレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁
The tantalic acid lithium substrate and the sapphire substrate thus obtained are jointed, and the junction region of amorphous whose thickness is 0.3 nm or larger and 2.5 nm or smaller is provided at the interface, thus obtaining the substrate whose junction strength is high. このようにして得られたタンタル酸リチウム基板とサファイア基板とを接合し、その界面に0.3nm以上2.5nm以下の厚みのアモルファスの接合領域を設けると、接合強度の高い基板が得られる。 - 特許庁
A first laser structure section 3 emitting a laser beam of a 780 nm wavelength band and a second laser structure section 4 emitting a laser beam of a 650 nm wavelength band are formed on an n-type GaAs substrate 2. n型GaAs基板2上に、780nm波長帯のレーザ光を出射する第1レーザ構造部3と、650nm波長帯のレーザ光を出射する第2レーザ構造部4とが形成されている。 - 特許庁
A fiber-reinforced composite material comprising fibers having an average fiber diameter of 4 to 200 nm, and a matrix material, and 60% or above of light transmittance of a wavelength of 400 to 700 nm in 50 μm of thickness. 平均繊維径が4〜200nmの繊維とマトリクス材料とを含有し、50μm厚換算における波長400〜700nmの光線透過率が60%以上である繊維強化複合材料。 - 特許庁
A circuit pattern is formed in metal colloid with a particle size of 1 to 100 nm containing palladium colloid and ink containing binder resin with a thickness of 5 nm to 5 μm, and a metalclad layer is formed thereon to obtain a conductive pattern. 前記絶縁性基板上に、パラジウムコロイドを含む粒径 1nm〜100nm の金属コロイド粒子とバインダ樹脂を含むインキで厚さが5nm〜5μmの回路パターンを形成し、その上に金属めっき層を形成して導電回路パターンとする。 - 特許庁
A sheet of polymer film having a 20-70 nm Re retardation value, a 70-400 nm Rth retardation value and ≤1.5° standard deviation of the phase lagging axis angle is utilized as an optical compensation sheet. Reレターデーション値が20乃至70nmであり、そして、Rthレターデーション値が70乃至400nmであり、遅相軸角度の標準偏差が1.5°以下である一枚のポリマーフイルムを光学補償シートとして利用する。 - 特許庁
The lens hood includes a reflection layer (14) whose lightness L in a Lab color specification system is less than 40, and whose reflectance to light having wavelength of 900 nm or more and less than 1,700 nm is 30% or more. Lab表色系における明度Lが40未満であって、波長900nm以上1700nm未満の光の反射率が30%以上となる反射層(14)を含むことを特徴とするレンズフード。 - 特許庁
The porphyrin compound having the selective absorption maximum between 440 nm and 510 nm and excellent durability and solubility, and the filter for a display using the porphyrin compound are provided. 4 4 0 n m 〜 5 1 0 n m の間に選択的な吸収極大を有し、かつ、優れた耐久性、溶解性を有するポルフィリン化合物、及び該ポルフィリン化合物を用いたディスプレイ用フィルターを提供すること。 - 特許庁
The diffraction lens structure formed in the common area Rc of the lens 10 is designed so that the diffraction efficiency of 1st-order diffracted light may be maximum in the wavelength of 657 nm and the wavelength of 790 nm. 対物レンズ10の共用領域Rcに形成された回折レンズ構造は、657nm,790nmの2波長について1次の回折光の回折効率が最大となるように設計されている。 - 特許庁
To provide an electron emission element equipped with a conductive membrane which is a thin membrane of thickness of the order of several nm to scores of nm, in which sheet resistance is high resistance of 10 kΩ/square to the order of hundreds of kΩ/square, and in which there are less resistance variations. 厚さが数nm乃至数十nmの薄膜であり、シート抵抗が10kΩ/□乃至数百kΩ/□の高抵抗で且つ抵抗バラツキの少ない導電性膜を備えた電子放出素子を提供する。 - 特許庁
The base for photographic printing paper has a front coating layer, the color-difference reflectance of the surface of the front coating layer is ≥90% at 440 nm and 75-95% at 560 nm and the hue is represented by a*=-0.3 to +0.7 and b*=-15 to -5. 表面被覆層表面の色差反射率が440nmで90%以上および560nmで75〜95%であり、かつ色相がa*=−0.3〜0.7およびb*=−15〜−5である写真印画紙用支持体。 - 特許庁
The white polyester film is provided with the first side and a second side wherein the first side has a reflectance of 98% or higher in the light of 450 nm wavelength, which is greater than that of the second side in the light of 450 nm wavelength. 第1面の波長450nmの光における光反射率が98%以上であり、かつ、第2面の波長450nmの光における光反射率よりも大きいことを特徴とする。 - 特許庁
The graphite which has the face-to-face dimension d002 from 0.3353 nm to 0.3372 nm induced by the peak position of (002) diffraction radiation, and an amount from 0.005 to 5 g per wire 10 kg, exists on the surface or directly under the surface. (002)回折線のピーク位置から求めた面間隔d_002が0.3353nm乃至0.3372nmである黒鉛がワイヤの表面上又は表面直下にワイヤ10kg当たり0.05乃至5g存在する。 - 特許庁
A polymer film having a retardation value Re of 20-70 nm, a retardation value Rth of 70-400 nm and a standard deviation of slow axis angle of ≤1.5° is used as an optical compensation sheet. Reレターデーション値が20乃至70nmであり、そして、Rthレターデーション値が70乃至400nmであり、遅相軸角度の標準偏差が1.5°以下である一枚のポリマーフイルムを光学補償シートとして利用する。 - 特許庁
The polymer, which absorbs and holds a nonaqueous electrolyte in the electrode mixture of a positive electrode and/or negative electrode, is equipped with a first thin hole of 100 nm to 10 μm and a second thin hole of less than 100 nm. 正極および/または負極の電極合材中に非水系電解液を吸収保持するためのポリマーが、100nmから10μmの第1の細孔と100nm未満の第2の細孔を具備する。 - 特許庁
As an intermediate layer, the SiC single crystal is grown at a growth temperature of 780 to 950°C until the thickness becomes 50 to 750 nm or the GaN single crystal is grown at a growth temperature of 400 to 600°C until the thickness becomes 50 to 500 nm. 中間層としてSiC単結晶を成長温度780〜950℃で厚みが50〜750nm、又はGaN単結晶を成長温度400〜600℃で厚みが50〜500nmになるまで成長させる。 - 特許庁
The method of manufacturing a copper film includes a step of covering a base material printed and coated with copper particulates made of copper and/or copper oxide having an average particle size of 1 nm or more to 200 nm or less, with a covering member and a reducer and heating the coated copper particulates to sinter the copper particulates. 銅微粒子を印刷・塗布した基材を還元剤とともに被覆部材をもって被覆し、加熱により銅微粒子を焼結する工程を含む銅膜の製造方法を提供する。 - 特許庁
The optical film includes a (meth)acrylic resin having a lactone ring as a main component, in which the ratio of (in-plane retardation Re(450) at a wavelength of 450 nm) to (in-plane retardation Re(600) at a wavelength of 600 nm) is less than 1.0. ラクトン環を有する(メタ)アクリル系樹脂を主成分として含み、波長450nmにおける面内位相差Re(450)/波長600nmにおける面内位相差Re(600)が1.0未満である光学フィルム。 - 特許庁
The magnetization free layer 3c is required to generate resonance oscillation by an electric current, and it is preferable to have the size of a sectional area of less than 200 nm square and the thickness of degree of 1-5 nm in the film thickness thereof, for examples. 磁化自由層3cは、電流によって共鳴振動を起こすことが必要であり、例えば、断面積の大きさで200nm角以下、膜厚において1から5nm程度の厚さであるのが好ましい。 - 特許庁
By performing (b)-(e) operations (unit thinning process), the thickness of the slab 11 is reduced by about 0.11 nm, which varies the resonance wavelength of the point defect resonator 13 to shorter wavelength by 0.39 nm (if designed for 1.55 μm band). (b)〜(e)の操作(単位減厚工程)を行うことにより、スラブ11の厚さは約0.11nm減少し、それにより点状欠陥共振器13の共振波長は0.39nm(1.55μm帯用に設計された場合)だけ短波長側に変化する。 - 特許庁
This raw material comprises a charcoal wood (10) with grain sizes of 500 μm to 100 nm, and a plurality of fine particles (12 and 14) of iron oxide, which dig into the charcoal wood and have grain sizes of 100 μm to 10 nm. 粒径が500μm〜100nmの炭材(10)と、炭材の内部に食い込んだ、粒径が100μm〜10nmの複数の酸化鉄微粒子(12、14)とを含むことを特徴とする製鉄用原料。 - 特許庁
The metal fine particles in the fluorescent marking particle have a diameter in the range of larger than 10 nm to 40 nm, and an occupied volume ratio in the range of 5% to 40%. ここで、蛍光標識粒子内の金属微粒子の粒径は10nm超、40nm以下であり、占有体積比率が、5%≦占有体積比率≦40%であることを特徴とする蛍光標識粒子。 - 特許庁
The hexagonal ferrite magnetic powder having an average plate diameter of from 15 to 30 nm, Hc of from 2,000 to 5,000 Oe and σs of equal to or more than [the average plate diameter (nm)×0.37+45]Am^2/kg. 平均板径が15〜30nmであり、Hcが2000〜5000 Oeであり、かつσsが[平均板径(nm)×0.37+45]A・m^2/kg以上であることを特徴とする六方晶フェライト磁性粉末。 - 特許庁
A Cr film 20 is formed as an auxiliary electrode with a product of sheet resistance (Ω/square) and a film thickness (nm) of 220 to 300 (Ω/square) nm on the surface of an ITO film 14 on the substrate having the ITO film 15. ITO膜付基板15におけるITO膜14の表面に、シート抵抗(Ω/□)と膜厚(nm)との積が220〜300(Ω/□)・nmであるCr膜20が補助電極として形成されている。 - 特許庁
The nuclei are supported as hyperfine particles of about several nm particle diameter. そして水より比誘電率が低い極性溶媒中では、溶解・析出の繰り返しが生じないので、生成した核はほぼそのままの粒径を維持して担体粉末上に担持され、粒径が数nm程度のきわめて微粒子の状態で担持される。 - 特許庁