「nm」を含む例文一覧(14378)
＜前へ 1 2 .... 61 62 63 64 65 66 67 68 69 .... 287 288 次へ＞- The optical element 1C aligns the optical axis of the laser beam of 635 nm in wavelength emitted from the first semiconductor laser 1A and the optical axis of the laser beam of 780 nm in wavelength emitted from the second semiconductor laser 1B.
光学素子１Ｃは、第１の半導体レーザ１Ａから出射された波長６３５ｎｍのレーザ光の光軸と、第２の半導体レーザ１Ｂから出射された波長７８０ｎｍのレーザ光の光軸とを一致させる。 - 特許庁 - The ferroelectric film formed on the insulator is formed of lead titanate or is a solid solution containing lead titanate, and is a polycrystalline substance having a perovskite structure with the crystal grain diameter between 50 nm and 1000 nm.
絶縁膜上に形成される強誘電体膜は、チタン酸鉛またはチタン酸鉛を含有する固溶体であるとともに、ペロブスカイト構造を有する多結晶体であり、結晶粒径が５０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下である。 - 特許庁 - To provide a light source unit which outputs coherent light of ≤200 nm, specially, 193 or 157 nm wavelength replacing an ArF excimer laser or F_2 laser by using a new wavelength converting element which is a ferroelectric instead of a conventional wavelength converting element.
従来の波長変換素子に代えて、強誘電体である新規な波長変換素子を用い、200nm以下、特にArFエキシマレーザーまたはF_2レーザーに代わる波長193nmまたは157nmのコヒーレント光を出力する光源装置を提供する。 - 特許庁 - The curable composition for dental use comprises composite nano zirconia particles including nano zirconia particles having an average primary particle diameter of 1 nm to less than 20 nm and organosilane modifying the surfaces of the particles, dispersed in a resin.
平均一次粒子径が１ｎｍ以上２０ｎｍ未満の範囲にあるナノジルコニア粒子と、その表面を改質するオルガノシランとを有する複合ナノジルコニア粒子を、レジン中に分散させた歯科用硬化性組成物とする。 - 特許庁 - This composition is characterized by containing (A) a resin having an ethylene unsaturated group in the molecule, (B) a compound which absorbs the near infrared region of 650 nm and 1,000 nm and (C) a light resistant improver.
分子内にエチレン性不飽和基を有する樹脂（Ａ）、６５０ｎｍから１０００ｎｍの近赤外領域を吸収する化合物（Ｂ）、耐光性向上剤（Ｃ）を含有することを特徴とするエネルギー線硬化型樹脂組成物。 - 特許庁 - To provide a polyester film for dry film photoresist satisfying transparency, especially a parallel light transmittance in the vicinity of 365 nm wavelength and haze value at 365 nm wavelength, tearing property, slip property, winding property, resolution and recycling property.
透明性、特に波長３６５ｎｍ近辺の平行光線透過率、及び波長３６５ｎｍでのＨａｚｅ値、引裂性、滑り性、巻き取性、解像度、そしてリサイクル性を満足するドライフィルムフォトレジスト用ポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁 - The light source includes a first semiconductor laser 1A for a wavelength of 650 nm and a second semiconductor laser 1B for a wavelength of 780 nm, and the first and second semiconductor lasers are selectively driven by a laser driving circuit 100.
光源は、波長６５０ｎｍ用第１の半導体レーザ１Ａと、波長７８０ｎｍ用第２の半導体レーザ１Ｂとを含み、第１の半導体レーザと第２の半導体レーザとはレーザ駆動回路１００により選択駆動する。 - 特許庁 - To provide a front basal plate for a plasma display restraining halation, having near-infrared absorption capability, and being excellent in light transmission performance for 380-770 nm visible wavelength range, especially for 380-480 nm.
プラズマディスプレイ用前面ガラス基板で、ハレーションを抑制するとともに、近赤外線吸収能を有し、かつ可視波長領域の３８０〜７７０ｎｍ、特に３８０〜４８０ｎｍの光透過性能が優れているものが望まれている。 - 特許庁 - The translucent ytterbium oxide sintered compact consists mainly of ytterbium oxide and contains niobium, wherein the linear transmittance in visible wavelength ranging from 400 nm to 800 nm is ≥60% when the thickness is 1 mm.
この発明は酸化イッテルビウムを主成分とし、ニオブを含有して厚さ１mmのときの可視光帯域波長４００〜８００ｎｍにおける直線透過率が６０％以上である透光性酸化イッテルビウム焼結体である。 - 特許庁 - To obtain a fluorine atom-containing polymerizable unsaturated monomer useful for providing a polymer compound having high transmission of a vacuum ultraviolet light such as a light at ≤300 nm wavelength, especially an F_2 excimer laser (157 nm), etc.
波長３００ｎｍ以下の光、特にＦ_2エキシマレーザー（１５７ｎｍ）等の真空紫外光に対して透過性の高い高分子化合物を得る上で有用な新規なフッ素原子含有重合性不飽和単量体を提供する。 - 特許庁 - To provide an aluminum substrate for a lithographic printing plate which has high sensitivity, is excellent in plate wear, stain resistance, and plate cleaner suitability, and corresponds to a laser exposure in a region of 350 nm to 450 nm, a photosensitive lithographic printing plate and a method for forming an image.
高感度で、耐刷性、耐汚れ性、プレートクリーナー適性に優れた３５０ｎｍから４５０ｎｍ域でのレーザー露光に対応した平版印刷版用アルミニウム支持体、感光性平版印刷版および画像形成方法の提供。 - 特許庁 - For example, in non-relay transmission of 30 km or over using a dispersion shifted fiber, the pre-dispersion compensation amount of a DQPSK transmission section is selected to -300 to -120 ps/nm or 30 to 350 ps/nm.
例えば、分散シフトファイバによる３０ｋｍ以上の無中継伝送においては、ＤＱＰＳＫ送信部の前置分散補償量を−３００ｐｓ／ｎｍないし−１２０ｐｓ／ｎｍあるいは３０ｐｓ／ｎｍないし３５０ｐｓ／ｎｍとする。 - 特許庁 - Ta2O5 is sheeted as the film of the dielectric 14 at the bottom face and side face of the trench 17, and a film thickness d1 of the dielectric 4 at the bottom face is made 5 nm smaller than the film thickness d2 of 30 nm at the side face.
つまり、この溝17の底面および側面に、誘電体14の膜としてＴａ_2Ｏ_5が成膜され、誘電体14の膜厚は、底面の膜厚ｄ_1が５ｎｍで、側面の膜厚ｄ_2の３０ｎｍより小さくしたものである。 - 特許庁 - The ratio of the value of intensity of the light emitted from the light emitting layer 5 at a wavelength of 575 nm to the value of intensity of the light emitted from the light emitting layer 5 at a wavelength of 475 nm is not less than 0.4 and not more than 4.0.
発光層５から出射される光の波長４７５ｎｍにおける強度の値に対する発光層５から出射される光の波長５７５ｎｍにおける強度の値の比率は０．４以上４．０以下である。 - 特許庁 - The display body has a first interface part comprising a plurality of sub-regions including a first relief structure comprising a plurality of projections or recesses arrayed regularly at center-to-center distances of 200 nm or more and 500 nm or less.
本発明の表示体は、２００ｎｍ以上、且つ、５００ｎｍ以下の平均中心間距離で規則的に配列した複数の凸部または凹部から成る第１レリーフ構造を含む複数のサブ領域から成る第１界面部を有する。 - 特許庁 - In the phosphor, preferably, a lattice constant a of β-type sialon is in the range of 0.7608-0.7620 nm, a lattice constant c is in the range of 0.2908-0.2920 nm, and Eu content is in the range of 0.1-3 mass%.
なお、上述の蛍光体において、β型サイアロンの格子定数ａが０．７６０８〜０．７６２０ｎｍ、格子定数ｃが０．２９０８〜０．２９２０ｎｍの範囲にあり、Ｅｕ含有量が０．１〜３質量％であることが好ましい。 - 特許庁 - Preferably, the difference in the maximum absorption wavelength between the colored fine particle and the a water-soluble dye is at most 25 nm, the colored fine particle has an average particle size of at most 100 nm, and the colored fine particle has a core-shell structure.
着色微粒子と水溶性染料の最大吸収波長の差が２５ｎｍ以下であり、着色微粒子の平均粒径が１００ｎｍ以下であり、着色微粒子がコア−シェル構造を有することが好ましい。 - 特許庁 - A converging lens 15 is fitted in front of an emission screen of a semiconductor laser diode LD with a light output of 500 mW-2000 mW and a peak wavelength of 700 nm-1000 nm, and an emission time adjusting means 23 is provided for adjusting the energy level of laser beams.
半導体レーザダイオードＬＤは、光出力５００ｍＷ〜２０００ｍＷ、ピーク波長７００ｎｍ〜１０００ｎｍのもので、このような半導体レーザダイオードＬＤの発光面前方に集光レンズ１５を取り付ける。 - 特許庁 - A method for immobilizing cell on a culturing surface is provided, comprising inoculating cell on a modified uneven culturing surface 2.0-7.0 nm in surface roughness(Ra) modified with a substance targeting the transport channel of the cell.
培養面に細胞を固定化する方法であって、細胞のトランスポートチャンネルを標的とした物質で修飾された表面粗さ（Ra）2.0〜7.0 nmの修飾凹凸培養面に、細胞を播種することを特徴とする細胞固定化方法。 - 特許庁 - In an Al-Mg-Si alloy or an Al-Mg-Si-Cu alloy, grain boundary precipitates are allowed to exist at intervals of ≥110 nm and also the size of the precipitates in the direction of grain boundaries is regulated to ≥70 nm.
Ａｌ−Ｍｇ−Ｓｉ系合金あるいはＡｌ−Ｍｇ−Ｓｉ−Ｃｕ系合金において、粒界析出物が１１０nm以上の間隔で存在するとともに、析出物の粒界方向における寸法を７０nm以上とする。 - 特許庁 - An in-plane phase difference Re_2 of the retardation film 8 satisfies 200 nm≤Re_2≤300 nm, an Nz value of the retardation film 8 satisfies 0.4<Nz≤0.8, and an average refractive index Nave of the retardation film 8 satisfies 1.4≤Nave≤2.0.
また、位相差フィルム８の面内位相差Ｒｅ_2は、２００ｎｍ≦Ｒｅ_2≦３００ｎｍを満たし、位相差フィルム８のＮｚ値は、０．４＜Ｎｚ≦０．８を満たし、位相差フィルム８の平均屈折率Ｎａｖｅは、１．４≦Ｎａｖｅ≦２．０を満たす。 - 特許庁 - The second intermediate layer contains at least one element selected from Co and Fe, contains Cu as a principal component is constituted of an alloy whose total rate of Co and Fe is 10 to 30 at.%, and has a film thickness between 5 nm and 100 nm.
第二中間層は、ＣｏとＦｅから選ばれる少なくとも一元素を含みＣｕを主成分とし、ＣｏとＦｅの合計割合が１０〜３０at.%となる合金で構成し、膜厚を５ｎｍ以上１００ｎｍ以下とする。 - 特許庁 - An amorphous aluminum silicate has the first narrow pores having a radius in the range of ≥2 nm and ≤6 nm and the volume of the first narrow pores occupying per unit mass is ≥0.6 cm^3/g and ≤4.0 cm^3/g.
非晶質アルミニウムケイ酸塩であって、2nm以上6nm以下の範囲の半径を有する第１の細孔を有し、第１の細孔が単位質量あたりに占める容積が、0.6cm^3/g以上4.0cm^3/g以下であることを特徴とするものである。 - 特許庁 - The method for adjusting coloring of fruits includes laying a fruit skin color adjusting sheet on a ground G where a fruit tree F is planted and irradiating the fruits with a reflecting light having a wavelength of 460 or 490 nm maximum, and in the range of 350-600 nm.
果樹Ｆが植えられている地面Ｇ上に果皮色調整シートを敷設して、４６０ないし４９０ｎｍを最大とし、かつ３５０〜６００ｎｍの範囲の波長の反射光を果実に照射することを特徴とする。 - 特許庁 - The grating period of the one-dimensional grating structure is 120 nm or less, the thickness of the one-dimensional grating structure is 100 nm or less, and an inter-grating section 5 of the one-dimensional grating structure is constituted of vacuum, air, or a dielectric body.
一次元格子構造の格子周期が１２０ｎｍ以下であり、該一次元格子構造の厚みが１００ｎｍ以下であり、該一次元格子構造の格子間部５が真空または空気もしくは誘電体により構成されている。 - 特許庁 - Platinum particles with an average particle diameter of 1 to 20 nm in an amount of 0.01 to 20% by mass are deposited as a main catalyst on amorphous meso-porous silica with fine pores with a fine pore diameter of 2 to 50 nm and a specific surface area of 100 to 1400 m^2/g.
細孔径が２〜５０ｎｍの細孔と１００〜１４００ｍ^２／ｇの比表面積とを有する非晶性メソポーラスシリカに、主触媒としての平均粒径１〜２０ｎｍの白金粒子を０．０１〜２０質量％坦持する。 - 特許庁 - A condenser lens 15 is fitted in front of a light emission surface of the semiconductor laser diode LD with a light output of 500 mW-2,000 mW and a peak wavelength of 700 nm-1,000 nm, and an emission time adjusting means 23 is provided for adjusting the energy level of laser beams.
半導体レーザダイオードＬＤは、光出力５００ｍＷ〜２０００ｍＷ、ピーク波長７００ｎｍ〜１０００ｎｍのもので、このような半導体レーザダイオードＬＤの発光面前方に集光レンズ１５を取り付ける。 - 特許庁 - The optical fiber 12 satisfies relational expressions of -110≤D≤-50 and 0.009≤S/D≤0.011 for wavelength dispersion D_2 (unit: ps/nm/km) and a dispersion slope S_2 (unit: ps/nm2/km) at the wavelength of 1,590 nm.
光ファイバ１２は、波長１５９０ｎｍにおける波長分散Ｄ_２（単位ｐｓ／ｎｍ／ｋｍ）および分散スロープＳ_２（単位ｐｓ／ｎｍ^２／ｋｍ）が「−１１０≦Ｄ≦−５０」および「０．００９≦Ｓ／Ｄ≦０．０１１」なる関係式を満たす。 - 特許庁 - A value of retardation of the optical member 11 with respect to the normal direction is set to be 50 nm-500 nm and an angle formed by an absorption axis of the polarizing film 10 and the slow axis of the optical member 11 is set to be 88°-92° or -2°-+2°.
この光学部材１１の法線方向に対するレタデーションの値を５０nm〜５００nmとし、偏光フィルム１０の吸収軸と、光学部材１１の遅相軸とのなす角を、８８゜〜９２゜または−２゜〜＋２゜とする。 - 特許庁 - The active layer 105 is a layer of a structure where a plurality of island-shaped parts 105a made of InN are arrayed on the same plane, and each island-shaped part 105a is formed to be, for example, a diameter of approximately 2 nm and a height of approximately 1 nm.
活性層１０５は、ＩｎＮからなる複数の島状部分１０５ａが同一平面に配列された構造の層であり、島状部分１０５ａは、例えば、径が２ｎｍ程度高さ１ｎｍ程度の大きさに形成されている。 - 特許庁 - The LED chips 2, 3 are covered with a phosphor-containing resin layer 10 in which a phosphor (green phosphor) having light-emitting peaks on wavelengths 490-510 nm and 530-580 nm is mixed and dispersed in a transparent resin.
このＬＥＤチップ２，３は、波長４９０〜５１０ｎｍと５３０〜５８０ｎｍにそれぞれ発光ピークを有する蛍光体（緑色蛍光体）を透明樹脂に混合・分散させた蛍光体含有樹脂層１０により覆われている。 - 特許庁 - A phosphor layer 9 having a peak wavelength of 300 nm or more and 400 nm or less is formed into a predetermined light emitting pattern shape on an inner face of the anode substrate 6, and a metal back layer 10 is formed so as to cover the phosphor layer 9.
陽極基板６の内面には、３００ｎｍ以上４００ｎｍ以下のピーク波長を持つ蛍光体層９が所定の発光パタン形状に形成され、蛍光体層９を覆うようにメタルバック層１０が形成される。 - 特許庁 - The base paper for a paper yarn contains a fine-fibrous cellulose having a fiber width of 20 nm to 1000 nm in an amount of 1 mass% or more and 100 mass% or less and is obtained by applying a water resistance treatment using a wet paper strength agent.
紙糸用原紙は繊維幅２０ｎｍ〜１０００ｎｍの微細繊維状セルロースを1質量％以上１００質量％以下含有し、かつ湿潤紙力剤を用いて耐水化処理を施すことによって得られる。 - 特許庁 - In the graphitized fiber, the spacing d(002) between graphitized layers according to an X-ray diffraction method is within the range of ≥0.3354 to ≤0.3366 nm; and the crystallite size Lc(002) of graphite crystals is ≥60 nm.
この黒鉛化繊維によれば、Ｘ線回折法による黒鉛化層間の面間隔ｄ（００２）が０．３３５４ｎｍ以上０．３３６６ｎｍ以下の範囲であり、かつ黒鉛結晶の結晶子サイズＬｃ（００２）が６０ｎｍ以上である。 - 特許庁 - The recording layer 24 includes a first coloring matter (main component), the locally maximum absorption wavelength of which lies within the range of 450-600 nm and at least a second coloring matter, the locally maximum absorption wavelength of which lies within the range of 600-750 nm.
この記録層２２は、極大吸収波長が４５０〜６００ｎｍの範囲にある第１色素（主成分）と、極大吸収波長が６００〜７５０ｎｍの範囲にある第２色素とを少なくとも含有している。 - 特許庁 - The substrate for display device has a plastic film having ≥70% average light transmittance in the wavelength region of 400-700 nm and ≥100°C glass transition temperature and a gas barrier layer of a mono or multicomponent metal oxide glass formed by a sol-gel method and its retardation (Re) value at wavelength of 632.8 nm is in the range of 250-450 nm or 500-700 nm.
波長４００〜７００ｎｍにおける平均光透過率が７０％以上、ガラス転移点が１００℃以上のプラスチックフィルムと、ゾルゲル法による単一又は多成分系金属酸化物ガラスのガスバリヤ層と、を有し、波長６３２．８ｎｍにおけるレターデーション（Ｒｅ）の値が、２５０〜４５０ｎｍ又は５００〜７００ｎｍであるか、又は波長６３２．８ｎｍにおけるレターデーション（Ｒｅ）の値が、２５０〜４５０ｎｍ又は５００〜７００ｎｍである表示装置用基板を提供する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a dispersion liquid of fine particles of crystalline solid fat in which the average particle size of fine particles is less than 1,000 nm.
微粒子の平均粒径が１０００ｎｍ未満である結晶性固体脂の微粒子分散液の製造。 - 特許庁 - The first carbon black has an average particle diameter of 35 to 100 nm, and a DBP oil absorption amount of 50 to 200 ml/100 g.
第１のカーボンブラックは、平均粒径が３５〜１００ｎｍでＤＢＰ吸油量が５０〜２００ｍｌ／１００ｇである。 - 特許庁 - To provide a synthetic quarts glass having more stable light transmittance than a conventional one in the wave length area of 165 nm or shorter.
従来よりも波長１６５ｎｍ以下における光透過率が安定している合成石英ガラスを提供する。 - 特許庁 - The characteristic indicated at (b) shows that a predetermined twisting rigidity (K1) Nm/deg can be kept in a pre-loading region near its neutral value.
（ｂ）に示す特性では、ニュートラル付近の予圧域において、所定の捩り剛性（Ｋ１）Ｎｍ／ｄｅｇを維持できている。 - 特許庁 - A magnetic recording medium 100 has a magnetic layer 30 that contains the SmFeN-based particle having a particle size of 2 to 10 nm.
２〜１０ｎｍの粒径を有するＳｍＦｅＮ系粒子を含有する磁性層３０を備える磁気記録媒体１００。 - 特許庁 - To analyze chirality distribution and magnetic domain structure in a molecular structure of a protein and the like at a high resolution of 10 nm or less.
タンパク質等の分子構造におけるカイラリティ分布や、磁区構造の解析を10nm以下の高分解能で行う。 - 特許庁 - The tip consists of a plurality of protrusions, arrayed at an interval of 10 nm or less.
前記導電体の先端が複数の突起部からなり、この複数の突起部は１０ｎｍ以下の間隔で配置されている。 - 特許庁 - Then, the thickness of the layer to be selectively oxidized is 28 nm and the temperature, when an oscillation threshold current becomes a minimum value is substantially 17°C.
そして、被選択酸化層の厚さは２８ｎｍであり、閾値電流が最小となる温度は約１７℃である。 - 特許庁 - Then, an SiO_2 film 3 with a film thickness of about 10 nm is formed on the a-Ge film 2 (refer to step (c)).
そして、約１０ｎｍの膜厚を有するＳｉＯ_２膜３がａ−Ｇｅ膜２上に形成される（工程（ｃ）参照）。 - 特許庁 - In a second preferred embodiment, the laser is operated broad band and the 157.6 nm line is selected external to the resonance cavity.
好適な第２実施例では、レーザを広帯域作動させ、１５７．６ｎｍ線を共振空胴の外部に選択している。 - 特許庁 - Titanium oxide comprising fine metal powder having about 15 nm average particle diameter of ≥0.005 wt.% is dispersed therein also.
更に、平均粒径１５ナノメーター程度の微細金属粉からなる酸化チタンを０．００５ｗｔ％以上分散させる。 - 特許庁 - To improve adhesion strength of a plating film even if a resin-metal composite layer is thin, 10 to 200 nm in concrete.
樹脂−金属コンポジット層の厚さが10〜 200nmと薄い場合であってもめっき被膜の密着強度を向上させる。 - 特許庁 - The magnetic particles having a mean particle diameter of 5 nm or more and 1 μm or less can be prepared by the present manufacturing method.
本発明の製造方法により、平均粒径５ｎｍ以上１μｍ以下の磁性粒子を得ることができる。 - 特許庁 - The surface between the fine particles is formed with an oxidized layer 6 with a film thickness of about 10 to about 1,000 nm.
これらの微粒子どうしの間の表面に膜厚が約１０〜約１０００ｎｍの酸化層６を形成した。 - 特許庁
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