「nm」を含む例文一覧(14378)
＜前へ 1 2 .... 72 73 74 75 76 77 78 79 80 .... 287 288 次へ＞- To provide novel ferrite particles, which are in a nm order, are sufficiently fine and uniform, and have sufficient magnetic properties.
ｎｍオーダの、十分に微細であるとともに均一であって、十分な磁気特性を有する、新規なフェライト粒子を提供する。 - 特許庁 - The shape of the opening 21 is a circular or tetragonal shape, and the diameter or the length of a side of the opening is 100 nm to 10 μm.
開口部２１の形状は円形または四角形であり、その内径あるいは１辺が１００ｎｍ〜１０μｍである。 - 特許庁 - To provide an epitaxial wafer which can allows the mass production of an LED which secures a high power output and high efficiency, and has an emission wavelength of 655 nm or longer.
発光波長６５５ｎｍ以上の、高出力・高効率のＬＥＤを量産可能なエピタキシャルウェーハを提供する。 - 特許庁 - To provide a method of easily producing a magnetite ultrafine particle which is uniform in size and has a mean particle diameter of 15-100 nm.
粒子サイズの揃った平均粒径が１５〜１００ｎｍのマグネタイト超微粒子を簡単に製造する方法を提供する。 - 特許庁 - Whether a target block is a still picture block or a moving picture block is decided on the basis of the distances Ns, Nm.
２つの距離Ｎｓ，Ｎｍの値に基づいて、注目ブロックが、静止画ブロックであるのか、または動画ブロックであるのかを判定する。 - 特許庁 - The thickness of the alignment layer material 7 applied on the TFT substrate 1 having the spacer is controlled to ≥80 nm which is thicker than a usual material.
またスペーサ付きＴＦＴ基板１上に塗布する配向膜材７の厚みを通常より厚く８０ｎｍ以上とする。 - 特許庁 - The method for producing carbon nanotubes of a diameter of 0.3 to 200 nm comprises removing graphene sheets from multiwall carbon nanotubes.
マルチウォールカーボンナノチューブのグラフェンシートを除去することにより、直径０．３ｎｍ〜２００ｎｍのカーボンナノチューブを製造する方法。 - 特許庁 - The pixel electrode is a transparent electrode consisting of indium oxide to which tin is added and having ≥140 nm film thickness.
前記画素電極は、錫の添加された酸化インジウムより成る１４０ｎｍ以上の膜厚を有する透明電極である。 - 特許庁 - The near UV ray absorbing filter is made of soda lime glass that absorbs near UV rays at a wavelength of 335 to 270 nm.
近紫外線吸収フィルタが、波長３３５ｎｍ〜波長２７０ｎｍの近紫外線を吸収するソーダ石灰ガラスであること。 - 特許庁 - The thermoplastic resin fibers may be polyolefin fibers and/or polyester fibers having an average fiber diameter of 10 to 1,000 nm.
前記熱可塑性樹脂ファイバーは、平均繊維径が１０〜１０００ｎｍのポリオレフィンファイバー及び／又はポリエステルファイバーであってもよい。 - 特許庁 - The non-magnetic powder in the non-magnetic layer has a granular shape having 90 to 200 nm average particle diameter.
非磁性層中の非磁性粉末を、少なくとも９０ｎｍ以上、２００ｎｍ以下の平均粒子径を有する粒状とする。 - 特許庁 - Each of the titania-based porous bodies consists essentially of titania and has X-ray diffraction peaks assigned to lattice-planes having 0.290±0.002 nm interplanar spacing and contains also crystals other than anatase phase crystals.
チタニアを主成分とする多孔体であり、面間隔 0.290± 0.002nmの格子面に帰属されるＸ線回折ピークをもつ。 - 特許庁 - Metallic particles 6 each having a diameter of not more than 20 nm are formed in the first insulating film 2 and the second insulating film 5.
第１絶縁膜２及び第２絶縁膜５中に、２０ｎｍ以下の直径を有する金属微粒子６を形成する。 - 特許庁 - The second film 4 is constitutes of the material, the absolute diffractive index is 1.40-1.60 for the light of 580 nm wavelength.
また、第２の被膜４は、波長５８０ｎｍの光の絶対屈折率が１．４０〜１．６０の材料で構成されたものである。 - 特許庁 - The resulting metal carbide has a maximum particle size of 150 nm or less and a free carbon content of 0.5 wt.% or less.
得られた金属炭化物は最大粒子径が１５０ｎｍ以下で遊離炭素含有量が０．５重量％以下である。 - 特許庁 - Scattered reflected light from an eyeground Ea based on a light for measurement at a wave length of 630 nm is received in photomultiplers 30a and 30b.
波長６３０ｎｍの測定光による眼底Erからの散乱反射光は、フォトマルチプライヤ３０ａ、３０ｂに受光される。 - 特許庁 - To provide a luminescent material having a short afterglow time of 10 or less μs and emission wavelength of 650 nm or more.
残光時間が１０μｓ以下と短く、かつ発光波長が６５０ｎｍ以上である発光材料を得ることを可能にする。 - 特許庁 - The crystal diameter of a silicalites nano crystal is preferably 150 nm or below and the thickness of the silicalites nano crystal layer is preferably 1.0 μm-4.0 μm.
シリカライトナノクリスタル結晶径は、150nm以下とすることが好ましく、シリカライトナノクリスタル層の厚みは、1.0μm〜4.0μmとすることが好ましい。 - 特許庁 - To transfer the pattern consisting of a shortest bits of 300 nm or less by using a master carrier for magnetic transfer.
磁気転写用マスター担体を用い、３００ｎｍ以下の最短ビット長からなる転写パターンをスレーブ媒体に良好に転写する。 - 特許庁 - The metal particle preferably has a diameter of 1-15 nm and a mass ratio of the noble metal/metal particle is 1-10.
好ましくは、前記金属粒子が１〜１５ｎｍの直径を有し、貴金属／金属粒子の質量比が１〜１０である。 - 特許庁 - The active energy ray-curable ink contains hydrophilic silica having a primary particle size of not more than 100 nm.
一次粒子径が１００ｎｍ以下である親水性シリカを含有することを特徴とする活性エネルギー線硬化型インキである。 - 特許庁 - The invention relates to crosslinked polymeric nanoparticles having a diameter of 1-10 nm comprising skin care ingredients and food ingredients.
本発明は、スキンケア成分または食品成分を含む１〜１０ｎｍの直径を有する架橋ポリマーナノ粒子に関する。 - 特許庁 - The porous carbon material has a long-period regular structure within the range of 0.5-100 nm and has internal pores.
０.５ｎｍから１００ｎｍの範囲の長周期規則構造を有し、内部に空孔を有する多孔質炭素材料である。 - 特許庁 - Therein, (A) is conductive fine particle of which the average particle size is 1 to 150 nm, (B) is ionizing radiation curable monomer and (C) is organic polymer thickener.
（Ａ）平均粒径が１〜１５０ｎｍの導電性微粒子（Ｂ）電離放射線硬化性モノマー（Ｃ）有機高分子増粘剤 - 特許庁 - A lower electrode 19a, having a thickness of 10 [nm], is formed by an Al-CVD method so as to cover the HSG silicon 18.
下部電極１９ａは、ＨＳＧシリコン１８を覆うように１０［ｎｍ］の厚さでＡＬ-ＣＶＤ法により形成される。 - 特許庁 - The reference value levels E4+i, E4-i when |Np-Nm|≤Nth is attained are estimated as a correct value of E4-i.
｜Ｎｐ−Ｎｍ｜≦Ｎｔｈとなったときの参照値レベルＥ4+i、Ｅ4-iを、当該参照値レベルＥ4+i、Ｅ4-iの適正値として推定する。 - 特許庁 - Transmittance of the colored layer 4 of the colored and coated optical fibers 2 at 330-380 nm wavelength is set to be ≥10%.
光ファイバ着色心線２の着色層４の波長３３０〜３８０ｎｍにおける透過率を１０％以上とする。 - 特許庁 - To easily and accurately manufacture a hollow device having a hollow part having a fine and complicated pattern of nm-μm units at a low cost.
ｎｍ〜μｍ単位の微細で複雑なパターンの中空部を有する中空デバイスを簡易にかつ低コストで精度良く製造する。 - 特許庁 - For example, an article, which requires surface roughness less than some 10 nm order, can be successfully press-formed.
例えば、表面粗さが数１０ｎｍオーダ以下を要求されるようなものであっても良好にプレス成形することができる。 - 特許庁 - The conical projection has a radius of curvature of not more than 10 nm at the top with an aperture angle θ of not more than 30 degrees.
また、前記円錐体突起は、先端の曲率半径ρが１０ｎｍ以下、開き角θが３０ｄｅｇ以下である。 - 特許庁 - The difference in film thickness between the first interfacial silicon oxide film 105 and second interfacial silicon oxide film 105 is ≤0.2 nm.
第１の界面シリコン酸化膜１０５の膜厚と第２の界面シリコン酸化膜１０５の膜厚との差は０．２ｎｍ以下である。 - 特許庁 - The intermediate layer 16 contains Ga_1-aIn_aP (0.357≤a≤0.408), and has 10-20 nm of thickness.
中間層１６は、Ｇａ_1-a Ｉｎ_a Ｐ（０．３５７≦ａ≦０．４０８）を含むと共に１０ｎｍ以上２０ｎｍ以下の厚さを有している。 - 特許庁 - The protective glass sheet 2 and the glass substrate 3 preferably have surface roughness Ra of each contact surface side being ≤2.0 nm.
好ましくは、前記保護ガラス２及び前記基板ガラス３の夫々の接触面側の表面粗さＲａは２．０ｎｍ以下である。 - 特許庁 - The laser tube is a part of an optical resonator for generating a laser beam including the first line of multiple characteristic emission lines around 157 nm.
レーザ管は、約157nmの多重特性放出輝線の第１輝線を含むレーザ・ビームを生成する光共振器の一部である。 - 特許庁 - A phenol resin precursor ethanol solution is dropped on a core material having a d-value of 0.3359 nm and composed of a natural graphite, and kneaded.
ｄ値が０．３３５９ｎｍの天然黒鉛からなる芯材に、フェノール樹脂前駆体エタノール溶液を滴下し、混練した。 - 特許庁 - To provide a magnetic disk having excellent durability even if a protective film is made thin so as to have ≤4 nm film thickness.
保護膜の膜厚が４ｎｍ以下に薄くなっても、耐久性に優れる磁気ディスクを提供することを目的としている。 - 特許庁 - Tabular particles of average particle sizes of 10 to 100 nm is contained in at least one layer of an undercoating layer and back coating layer.
また、下塗層、バックコート層の少なくとも一層に、数平均粒子径が１０〜１００ｎｍの板状粒子を含有させる。 - 特許庁 - The outside conductive parts 13b and 13c are formed of a metal film such as Ru with a film thickness of about 40-80 nm.
外側導電体部１３ｂ，１３ｃは膜厚約４０ｎｍ〜８０ｎｍのＲｕ等の金属膜によって形成されている。 - 特許庁 - Spread code for use in code multiplexing is shifted for each path corresponding to subcarrier by phase regulators 15-11 to 15-NM.
位相調整器１５−１１〜１５−ＮＭにより、符号多重に用いる拡散符号をサブキャリアに対応する経路ごとにずらす。 - 特許庁 - This kitchen sink is characterized by an antifouling coating of 10o nm or thinner formed on the surface of a stainless steel base material.
ステンレス基材表面に、膜厚１００ｎｍ以下の防汚性被膜が形成されていることを特徴とするキッチンシンク。 - 特許庁 - To provide an inspection method and an inspection device capable of improving an inspection accuracy to be applied to a design rule of 5-30 nm.
検査精度を向上させ、５〜３０ｎｍのデザインルールにも適用できる検査方法及び検査装置を提供すること。 - 特許庁 - This high refractive index-having material composition having a ≥1.70 refractive index and a ≥150°C glass transition temperature comprises a polyimide expressed by general formula (I) and inorganic fine particles having 1-100 nm average particle size.
特定構造を有するポリイミド類に平均粒子直径１〜１００ｎｍの無機微粒子を分散させる。 - 特許庁 - By using an NC positioning device having a resolution of 10 nm, a desired aspherical locus is imparted to a diamond bite 52 for lathe turning.
１０ｎｍの分解能をもつＮＣ位置決め装置を用いて旋削用ダイヤモンドバイト５２に所望の非球面軌跡を与える。 - 特許庁 - The effective area, A_eff, of the IDF preferably is approximately 31μm^2 at a transmission wavelength of approximately 1,550 nm.
ＩＤＦの有効断面積Ａ_ｅｆｆは、好ましくはおおよそ１５５０ｎｍの伝送波長においておおよそ３１μｍ^２である。 - 特許庁 - To hold an optical element of a projection aligner which uses exposure light of 300 nm or below of wavelength to an object without using an adhesive.
波長３００ｎｍ以下の露光光を使用する投影露光装置の光学素子を接着剤なしで保持部材に保持する。 - 特許庁 - The polyimide includes a transmittance of 80% or more at a wavelength of 400 nm after heat treatment at 300°C for 15 minutes in the atmosphere.
大気下、３００℃１５分加熱処理後において、波長４００ｎｍにおける透過率が８０％以上であるポリイミド。 - 特許庁 - A region from the outer surface of the palladium layer to a depth of 10 nm is equal to 99.9 wt.% or more in palladium concentration.
パラジウム層の外側表面から深さ１０ｎｍまでの領域は、パラジウム濃度が９９.９質量％以上である。 - 特許庁 - For milling a lamella to its final thickness of, for example, 30 nm, a focused ion beam 100 is scanned repeatedly along the lamella.
薄片を最終的な厚さ-たとえば30nm-にまでミリングするため、集束イオンビーム100は前記薄片に沿って繰り返し走査される。 - 特許庁 - The surface reformer 14 comprises a low-voltage mercury vapor lamp (light source) 16 which emits light having a main wavelength of 254 nm.
表面改質装置１４は、例えば、主波長が２５４ｎｍの光を発する低圧水銀ランプ（光源）１６を備えている。 - 特許庁 - The film formed from the dope 38 has a retardation of 40 nm, small optical anisotropy and good optical properties.
このドープ３８から製膜されたフイルムは、レターデーションが４０ｎｍであり、光学異方性が少なく、光学性能に優れている。 - 特許庁
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