「nm」を含む例文一覧(14378)
＜前へ 1 2 .... 70 71 72 73 74 75 76 77 78 .... 287 288 次へ＞- The transparent thermoplastic composite material is produced by dispersing particulates having a mean particle diameter of 1 nm or more and 50 nm or less in a thermoplastic resin comprising an organic polymer, wherein the particulate is an amorphous inorganic fine particle containing aluminium.
有機重合体からなる熱可塑性樹脂中に、平均粒子径が、１ｎｍ以上、５０ｎｍ以下である微粒子が分散された透明な熱可塑性複合材料であって、微粒子がアルミニウムを含有する非晶質無機微粒子である。 - 特許庁 - This disinfection or sterilization method for medical equipment such as the endoscope is characterized by combining a process using bactericide, for example, carboperoxoic acid with ultraviolet irradiation using, for example, ultraviolet light with wavelength of 300 nm or less.
例えば内視鏡などの医療機器を対象物とする消毒又は滅菌方法であって、例えばペルオキシカルボン酸などの殺菌剤による処理と、例えば波長が300 nm以下の紫外線を用いた紫外線照射とを組み合わせて含む方法。 - 特許庁 - To provide a method for producing a new fluorine-containing polymerizable unsaturated monomer useful for producing a polymer compound having high transparency to the light having wavelength of ≤300 nm, especially vacuum ultraviolet rays of F_2 excimer laser (157 nm), or the like.
波長３００ｎｍ以下の光、特にＦ_2エキシマレーザー（１５７ｎｍ）等の真空紫外光に対して透過性の高い高分子化合物を得る上で有用な新規なフッ素原子含有重合性不飽和単量体の製造法を提供する。 - 特許庁 - The light selective absorption filter has transmittances in 470-510 nm and 550-600 nm wavelength regions, which are lower than that in any region other than the two wavelength regions.
４７０ｎｍから５１０ｎｍの間の波長領域と５５０ｎｍから６００ｎｍの間の波長領域に於ける光の透過率が、上記２つの波長領域以外の領域に於ける光透過率より小さい光選択吸収性フィルターとする。 - 特許庁 - Ultra-fine particles gallium nitride crystal characterized by providing the luminous band having a wavelength not longer than a wavelength corresponding to the band gap in the bulk state in terms of maximum luminous intensity by irradiation with excitation light having the wavelength range of 200 nm to 300 nm.
２００ｎｍ〜３００ｎｍの波長範囲の励起光の照射により発光強度極大をバルク状態におけるバンドギャップに相当する波長以下の波長を有する発光帯を与えることを特徴とする窒化ガリウム結晶超微粒子。 - 特許庁 - Inversely, the semiconductor laser 2 in the inside of the integrated optical element 1 emits the laser beam of 780 nm wavelength for CD/CD-R, the outside semiconductor laser 7 emits the laser beam of 650 nm wavelength for DVD, alternatively.
逆に、集積型光学素子１内の半導体レーザ２をＣＤ／ＣＤ−Ｒ用の波長７８０ｎｍのレーザ光を出射するものとし、外部の半導体レーザ７をＤＶＤ用の波長６５０ｎｍのレーザ光を出射するものとしてもよい。 - 特許庁 - The cellulose fiber dispersing liquid contains surface-treated cellulose fibers having an average fiber diameter of ≥2 nm and ≤200 nm, and the cellulose fiber concentration is ≥1 mass% and ≤30 mass%.
平均繊維径が２ｎｍ以上２００ｎｍ以下である表面処理されたセルロース繊維を含有するセルロース繊維分散液であって、該セルロース繊維の濃度が１質量％以上３０質量％以下であることを特徴とするセルロース繊維分散液。 - 特許庁 - The negative electrode active material for the lithium secondary battery is formed by a gas evaporation method, and comprises ultra fine particles having a particle size of 1 nm to 200 nm, and comprising an element capable of alloying with lithium.
ガス中蒸発法により形成されてなり、粒径が１ｎｍ以上２００ｎｍ以下の範囲であってリチウムと合金化が可能な元素からなる超微粒子の粉末からなることを特徴とするリチウム二次電池用の負極活物質を採用する。 - 特許庁 - To further improve the sensitivity of a composition capable of making photopolymerization possible by absorbing light within a wavelength area at 300 nm to 450 nm and to find an alternative sensitizer for the composition capable of making photopolymerization possible having high sensitization efficiency.
３００〜４５０ｎｍの波長領域内の光を吸収すると光重合し得る組成物の感度をさらに向上させること、ならびに高い増感効率を有する光重合可能な組成物のための代替増感剤を見出すこと。 - 特許庁 - The respective maximum absorption wavelengths of the thermal coloring layers of magenta and yellow are made 385 nm and 445 nm and the emission center wavelengths of ultraviolet lamps for M and Y for fixing the thermal coloring layers of magenta and yellow are made to conform with the maximum absorption wavelengths.
マゼンタ，イエロー感熱発色層の各最大吸収波長を３８５ｎｍ，４４５ｎｍとしてあり、マゼンタ，イエロー感熱発色層を定着するＭ用，Ｙ用紫外線ランプの発光中心波長を前記各最大吸収波長に一致させてある。 - 特許庁 - The damage to the waste heat boiler tube of the converter is detected, on the basis of a change in the turbidity of the circulating acid 12, obtained from an absorbance with a wavelength of 700 nm or a change in the coloration of the circulating acid 12 due to the absorbance difference between the wavelengths of 450 and 550 nm.
波長７００ｎｍの吸光度から得られる循環酸１２の濁度変化、又は波長４５０ｎｍと５５０ｎｍの吸光度差による循環酸１２の着色変化によって、転化器の廃熱ボイラーチューブの破損を検知する。 - 特許庁 - The negative electrode active material contains monoclinic titanium dioxide containing pores having an average diameter of 8 to 25 nm, and the total volume of the pores having a diameter of 10 nm or smaller constitutes 10 to 30% of the total volume of all the pores.
平均細孔直径が８ｎｍ以上２５ｎｍ以下で、かつ直径１０ｎｍ以下の細孔の占める容積が全細孔容積の１０％以上３０以下％である単斜晶系二酸化チタンを含む負極活物質である。 - 特許庁 - The coated optical fiber 1 is constituted by covering the circumference of a glass fiber 2 with a covering layer 3 having a surface 3a of the average surface roughness 0.5 to 10 nm and the maximum vertical difference ≤50 nm and forming a colored layer 4 on the surface 3a.
この光ファイバ心線１は、ガラスファイバ２の周囲を、平均面粗さ０．５〜１０ｎｍ、最大高低差は５０ｎｍ以下の表面３ａを有する被覆層３で被覆し、その表面３ａに着色層４を形成したものである。 - 特許庁 - With a mask of the porous board 10a, a thin-film forming process is carried out to form a first electrode 15 having a plurality of cylindrical bodies 12 with outer diameter of several nm to hundred of nm on a surface of a capacitor board 14.
多孔質基板１０ａをマスクとして用いて薄膜成膜処理を行い、コンデンサ用基板１４の表面に、それぞれの外径が数ｎｍから数百ｎｍの多数の柱状体１２が規則的に配列された第１電極１５を形成する。 - 特許庁 - Coal is carbonized into activated carbon having a BET specific surface area of 1350 m2/g to 2000 m2/g and an average pore diameter of 2.2 nm (22 Å) to 2.5 nm (25 Å).
石炭を炭化してなる活性炭であって、ＢＥＴ比表面積が１３５０ｍ^2／ｇ以上２０００ｍ^2／ｇ以下であり、かつ平均細孔径が２．２ｎｍ(22Å)以上２．５ｎｍ(25Å)以下であることを特徴とする電気二重層キャパシタ用活性炭。 - 特許庁 - The optical retardation film is composed of a sheet of a polymer oriented film utilizing a polymer material containing a liquid crystal and is characterized by having retardation at 450 nm and 550 nm wavelengths satisfying following inequalities R (450)/R (550)<1 and/or K (450)/K (550)<1.
液晶を含有する高分子材料を用いた１枚の高分子配向フィルムからなる位相差フィルムであって、波長 ４５０ｎｍ及び５５０ｎｍにおける位相差が下記式（１）及び／又は（２）を満たすことを特徴とする位相差フィルム。 - 特許庁 - The electrophotographic transfer paper is configured such that at least one of the faces of base paper containing 3 to 40 wt.% ash solid content has a layer of surface treatment agent containing titanium oxide in which the average particle diameter of secondary particle is 300 nm to 2,000 nm.
紙中灰分が、固形分で３〜４０重量％である原紙の少なくとも一方の表面に、二次粒子の平均粒子径が３００ｎｍ〜２，０００ｎｍの酸化チタンを含有する表面処理剤層を設けてなる電子写真用転写紙。 - 特許庁 - The conductive diffusion reflecting film formed of a conductive metal has a porous structure in which crystal particles with an average particle diameter of 50-1,000 nm are distributed spaced at the average distance of 10-800 nm.
導電性金属からなる導電性拡散反射膜であって、平均粒径５０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下の結晶粒が平均で１０ｎｍ以上８００ｎｍ以下の距離で離隔して分布する多孔質構造を有することを特徴とする。 - 特許庁 - The porous carbon material consists of a soft carbon base carbon material treated by carbonization and activation and its BET specific surface area is 700-2,000 m^2/g and the distance between layers denoted as d_002 is more than 0.385 nm and 0.420 nm or less.
炭素化処理および賦活化処理の施されたソフトカーボン系炭素材料からなり、ＢＥＴ比表面積が７００〜２０００ｍ^2 ／ｇであり、かつ層面間隔ｄ_002 が０．３８５ｎｍ超０．４２０ｎｍ以下である多孔質炭素材料。 - 特許庁 - The polyvinyl alcohol polymer film has a width of 2 m or more and the retardation difference between two points separated by 1 cm in the width direction of the film is set to 5 nm or less and the retardation difference between two points separated by 1 m in the width direction of the film is set to 50 nm or less.
ポリビニルアルコール系重合体フィルムを、フィルム幅が２ｍ以上であって、幅方向に１ｃｍ離れた二点間のレタデーション差が５ｎｍ以下で、かつ幅方向に１ｍ離れた二点間のレタデーション差が５０ｎｍ以下とする。 - 特許庁 - The non-aqueous fine particle dispersion is formed in a solvent and comprises noncrystalline inorganic fine particles having a modified surface are dispersed in a non-polar solvent in a state where the particles have an average particle diameter of 1 nm to 30 nm.
溶媒中で形成され、その表面が改質されている非結晶性無機微粒子が、非極性溶媒中に平均粒子径として１ｎｍ以上、３０ｎｍ以下で分散されていることを特徴とする非水系微粒子分散液。 - 特許庁 - This invention relates to a self-organized nanoparticle silica characterized in that it has an average particle diameter of 4-15 nm, preferably of 4-10 nm, and in that these particles are regularly arrayed to form a simple cubic lattice, and to its manufacturing method.
本発明は、平均粒子径が４〜１５ｎｍ、好ましくは４〜１０ｎｍで、これらの粒子が単純立方格子を形成するように規則的に配列していることを特徴とする自己組織化ナノ粒子状シリカ、及びその製造方法に関する。 - 特許庁 - The hydrogen gas sensor includes a sensor element made up of a titanium oxide as a principal component, wherein a minute hole having an internal diameter of 500 nm or below, or a minute tube having an outer diameter of 1,000 nm or below, is formed on an insulating substrate, and is configured such that the electric resistance of the sensor element is varied in dependence upon a hydrogen concentration.
水素ガスセンサは、絶縁基板上に内径500nm以下の微細孔又は外径1000nm以下の微細筒が形成されたチタン酸化物を主成分とするセンサ素子を有し、水素濃度に依存してセンサ素子の電気抵抗が変化する。 - 特許庁 - The transmission type screen 3 is constituted by combining the plurality of optical sheets such as the Fresnel lens sheet 1 and the lenticular lens sheet 2, wherein the friction reduction agent 20 having a thickness of ≥0.3 nm and ≤10 nm is disposed onto at least one surface of the optical sheet.
フレネルレンズシート１、レンチキュラーレンズシート２等の複数の光学シートを組み合わせてなる透過型スクリーン３において、光学シートの少なくとも１つの表面に摩擦低減剤２０を厚さ０．３ｎｍ以上１０ｎｍ以下設ける。 - 特許庁 - The overcoat layer 41 is composed of a heat-resistant resin and has ≤100 nm difference in level of the surface, ≤5 nm surface center line average roughness (Ra), ≥1×10^8Ω specific resistance and ≤4.0 specific inductive capacity at 1 kHz frequency.
オーバーコート層４１が、耐熱性樹脂からなり、表面の段差が１００ｎｍ以下、表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）が５ｎｍ以下、比抵抗が１×１０^８Ω・ｍ以上、周波数１ｋＨｚにおける比誘電率が４．０以下であること。 - 特許庁 - In addition, in one fire extinguishing agent storage vessel 11, the light transmission rate from the outside of the vessel 11 to the inside of the vessel 11 is 75% or less in any light of 400 nm or more and 800 nm or less.
加えて、本発明の１つの消火剤貯蔵容器１１は、４００ｎｍ以上８００ｎｍ以下のいずれの光においても、消火剤貯蔵容器１１の外側から消火剤貯蔵容器１１の内側への透過率が７５％以下である。 - 特許庁 - The multi-component particle composite resin composition includes a thermoplastic resin, an inorganic material (A) with the longest side of 1-60 μm, and an inorganic material (B) with a short axis length of 5-30 nm and a long axis length of 50-500 nm.
本発明は、熱可塑性樹脂と、最も長い１辺が１μｍ〜６０μｍである、無機物（Ａ）と、短軸長さが５〜３０ｎｍであって、長軸長さが５０〜５００ｎｍである、無機物（Ｂ）と、を含む、多成分粒子複合樹脂組成物である。 - 特許庁 - According to the present embodiments, a transmissive first conductive layer having a thickness of not less than 100 nm and not more than 250 nm is formed on a second semiconductor layer and a highly-reflective conductive film is formed on a part of the first conductive layer and a first semiconductor layer.
実施形態によれば、第２半導体層の上に、透過性で１００ｎｍ以上２５０ｎｍ以下の厚さの第１導電層を形成し、第１導電層の一部と、第１半導体層の上に高反射導電膜を形成する。 - 特許庁 - In a reflecting film comprising an Mo/Si multilayer film formed by laminating periodically an Mo layer 1 with the thickness of 2.8 nm and an Si layer 2 with the thickness of 4.2 nm as many as 100 (50-pair) layers in total on a substrate 3, an Ru layer 4 is formed on the Si layer 2 on the outermost surface side of a periodical structure.
基板３の上に、厚さ2.8nmのMo層１と厚さ4.2nmのSi層２が周期的に合計100（５０対）層積層されたMo/Si多層膜からなる反射膜において、周期構造の最表面側にあたるSi層２上に、Ru層４が成膜されている。 - 特許庁 - When the liquid crystal panel 10 is put into a black display state without using the color correction filter 30, leakage light leaking in the oblique direction with respect to a display surface includes a hue having the minimum value in the wavelength region of 450 nm to 550 nm.
色補正フィルタ３０を用いずに液晶表示パネル１０を黒表示状態にしたときに、表示面に対して斜め方向に漏れる漏れ光は、４５０ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の波長域に極小値をもつ色相を有している。 - 特許庁 - Although both Ru and Ta layers 31 and 21 are ultra thin (between 0. 5 and 2. 0 nm), good exchange bias field between the seed layer 40 and antiferromagnetic pinning layer 22 (IrMn about 7.0 nm thick) is retained.
Ｒｕ層３１およびＴａ層２１は、いずれも、０．５ｎｍ〜２．０ｎｍという極めて薄い膜厚であるが、シード層４０と反強磁性のピンニング層２２（約７．０ｎｍの厚さのＩｒＭｎ）との間の交換バイアス磁界は良好に保たれる。 - 特許庁 - To provide an underlayer film forming material, the film functions as an underlayer film for a silicon-containing two-layer resist process or as a superior antireflection film, is adaptable to all wavelengths of 248 nm, 193 nm and 157 nm, has optimum n value and k value as compared with polyhydroxystyrene, cresol novolac, naphthol novolac, etc., and is excellent in etching resistance during substrate working, and to provide a pattern forming method.
珪素含有２層レジストプロセス用下層膜として、優れた反射防止膜として機能し、２４８ｎｍ、１９３ｎｍ、１５７ｎｍの全ての波長に対応し、ポリヒドロキシスチレン、クレゾールノボラック、ナフトールノボラックなどよりも最適なｎ値、ｋ値を有し、しかも基板加工におけるエッチング耐性が優れた下層膜形成材料、及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - The niobium powder of which the average nitrogen concentration of a niobium powder particle is uneven from the surface of the particle in the depth direction, the average nitrogen concentration from the particle surface to the depth from 50 to 200 nm is from 0.29 to 4% by mass, the average nitrogen concentration up to 50 nm is not greater than the average nitrogen concentration of the depth from 50 to 200 nm is used.
ニオブ粉粒子の平均窒素濃度が粒子表面から深さ方向に不均一であり、ニオブ粉粒子表面からの深さ５０〜２００ｎｍまでの平均窒素濃度が0.29〜４質量％であり、かつ、粒子表面からの深さ５０ｎｍまでの平均窒素濃度がニオブ粉粒子表面からの深さ５０〜２００ｎｍまでの平均窒素濃度以下であるニオブ粉を用いる。 - 特許庁 - The conductive plastic laminate is produced by forming a transparent conductive layer on a transparent plastic substrate which is characterized in that a glass transition temperature is 260°C or higher, a light transmittance at an optical wavelength of 400 nm is 60% or more, a light transmittance is 80% or more at all optical wavelengths ranging from 450 nm to 700 nm, and a pencil hardness is H or higher.
ガラス転移温度が２６０℃以上であり、かつ、光波長４００ｎｍにおける光線透過率が６０％以上であり、かつ、４５０ｎｍ〜７００ｎｍにおける全ての光波長の光線透過率が８０％以上であり、かつ、鉛筆硬度がＨ以上である透明プラスチック基板の上に透明導電層を形成し導電性プラスチック積層体とする。 - 特許庁 - When the nitride compound semiconductor is epitaxially formed on a dissimilar substrate without using a low temperature buffer layer, the growth velocity of the nitride compound semiconductor is made 2.5 nm/sec or more, preferably, 3.0 nm/sec or more in a range at least within 100 nm from the surface of the substrate 1, and the growth velocity in the remaining part exceeding the range is made lower.
窒化物系化合物半導体を異種基板上に低温バッファ層を用いずにエピタキシャル成長する際、基板１表面から少なくとも１００nm以内の範囲において、窒化物系化合物半導体の成長速度を２．５nm／ｓｅｃ以上、好ましくは３．０nm／ｓｅｃ以上とし、この範囲を過ぎた以降の残り部分における成長速度をより低速にする。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition suitable for use under an exposure light source of ≤160 nm, particularly F2 excimer laser light (157 nm), and specifically to provide a positive resist composition having satisfactory transmittance when a light source of 157 nm is used, less liable to cause line edge roughness and forming a resist film less liable to leave a film in an exposed region when exposed and developed.
１６０ｎｍ以下、特にＦ２エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には１５７ｎｍの光源使用時に十分な透過性を示し、ラインエッジラフネスが発生し難く、レジスト膜に露光して現像処理をした後に露光領域に残膜が発生し難いポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - The method of manufacturing a glass substrate for magnetic disk having the touch-down-height of ≤6 nm, including polishing the surface by a plurality of polishing processes, is designed to use a diamond pellet to polish the surface of te glass substrate, to obtain the glass substrate whose average maximum microwaviness is ≤3.5 nm and the maximum surface roughness is ≤6 nm.
複数のポリッシング工程により表面を研磨する処理を含むタッチダウンハイトが６ｎｍ以下とされる磁気ディスク用の結晶化ガラス基板の製造方法であって、ダイヤモンドペレットを使用して、ガラス基板の表面をポリッシングすることにより、微小うねりの最大高さの平均値が３．５ｎｍ以下であって、表面粗さの最大高さが６ｎｍ以下であるガラス表面を得ることを特徴とする。 - 特許庁 - The as-grown single crystal of calcium fluoride is manufactured by a single crystal pulling method and has ≥17 cm diameter in the cylindrical body, preferably ≥50 mm length of the cylindrical body and ≤3 nm/cm birefringence, preferably 0.1 to 2.0 nm/cm, and more preferably, it has ≤2.0 nm/cm standard deviation of the birefringence.
本発明に係るフッ化カルシウムのアズグロウン単結晶は、単結晶引き上げ法によって製造され、直胴部の直径が１７ｃｍ以上であり、好ましくは直胴部の長さが５０ｍｍ以上であり、且つ複屈折が３ｎｍ／ｃｍ以下、好ましくは０．１〜２.０ｎｍ／ｃｍであり、さらに好ましくは該複屈折の標準偏差が２．０ｎｍ／ｃｍ以下であることを特徴としている。 - 特許庁 - To provide a PTFE porous film having ≤50 nm mean flow pore diameter, a porous fluorine resin film composite containing the PTFE porous film having ≤50 nm mean flow pore diameter and a method for producing the PTFE porous film having a smaller pore diameter of ≤50 nm mean flow pore diameter by stretching the PTFE under a condition in which the stretching was impossible until now.
平均流量孔径が５０ｎｍ以下のＰＴＦＥ多孔質膜、平均流量孔径が５０ｎｍ以下のＰＴＦＥ多孔質膜を含む多孔質フッ素樹脂膜複合体、及び、これまで延伸が不可能だった条件でＰＴＦＥを延伸することにより平均流量孔径が５０ｎｍ以下のより孔径の小さいＰＴＦＥ多孔質膜の製造方法を提供する。 - 特許庁 - The red pigment dispersion liquid for the color filter includes: a red pigment; a yellow or orange pigment for which the light transmittance of a specified test film is ≥90% in the wavelength region of 560 nm-640 nm; a pigment dispersant; and a solvent, wherein the average dispersion particle size of dispersed pigment particles is 15-80 nm.
赤色顔料と、特定の試験膜の光の透過率が、５６０ｎｍ〜６４０ｎｍの波長域で９０％以上である黄色又はオレンジ色顔料と、顔料分散剤と、溶剤とを含むカラーフィルター用赤色顔料分散液であって、分散している顔料粒子の平均分散粒径が１５〜８０ｎｍであることを特徴とする、カラーフィルター用赤色顔料分散液である。 - 特許庁 - A film fitted to an anode electrode (20) is so structured to have an improved photoelectric conversion efficiency through promotion of scattering of light, in addition to securing of absorption area of dye (25), by sintering particles of metal oxide semiconductor with particles of smaller size than 30 nm and those of larger size than 100 nm mixed and average particle size to be 30 to 50 nm.
アノード電極（２０）に設けられる膜（２３）は、粒子径が３０ｎｍよりも小さい粒子と、粒子径が１００ｎｍよりも大きい粒子とが混在し、平均粒子径が３０−５０ｎｍとなるような酸化金属半導体の粒子（２４）を焼結し、色素（２５）の吸着面積を確保しつつ、光の散乱を促進して光電変換効率を向上し得る構成としたこと。 - 特許庁 - The color composition for a color filter contains a pigment and a pigment carrier comprising at least a transparent resin, its precursor or their mixture, wherein the particle size distribution of the primary particles of the pigment satisfy all of (1):d50≤35 nm, (2):d90≤50 nm and (3):d10≤25 nm.
少なくとも透明樹脂、その前駆体またはそれらの混合物からなる顔料担体と、顔料とを含む着色組成物であり、前記顔料の１次粒子の粒度分布が（１）ｄ５０が３５ｎｍ以下、（２）ｄ９０が５０ｎｍ以下、および（３）ｄ１０が２５ｎｍ以下の全てを満たすカラーフィルタ用着色組成物、および該着色組成物を用いて形成されたフィルタセグメントを具備するカラーフィルタ。 - 特許庁 - The cellulose acylate film contains at least one kind of retardation controlling agent and at least one kind of near infrared absorbing agent having at least one absorption peak wavelength between 700 nm and 1,200 nm and a light absorbance of ≤30.0 in the wavelength range of 450-650 nm at a cell length of 1 cm reduced to a 1.0 g/L solution.
レターデーション調節剤の少なくとも１種と、７００ｎｍ以上１２００ｎｍ以下に極大吸収波長を少なくとも１つ有しかつ４５０ｎｍ以上６５０ｎｍ以下の波長領域の１．０ｇ／リットル溶液換算のセル長１ｃｍでの吸光度が３０．０以下である近赤外線吸収剤の少なくとも１種とを含有することを特徴とするセルロースアシレートフィルム。 - 特許庁 - To provide a red color-emitting phosphor which efficiently radiates a red emission by a long wavelength ultraviolet ray or a short wavelength visible ray (from 350 nm to 420 nm), particularly by an exciting light having a wavelength of around 370 nm, and is practically employable for obtaining a white or an arbitrary color tone from one light-emitting diode, and an LED lamp using the phosphor.
長波長紫外線および短波長可視光線（３５０ｎｍから４２０ｎｍ）、特に波長３７０ｎｍ前後の励起光に対して赤色発光を効率よく放射でき、1個の発光ダイオードから白色ないし任意の色調を取り出すために実用的に使用できる赤色発光蛍光体およびその蛍光体を使用したＬＥＤランプを提供する。 - 特許庁 - This phase transition optical information recording medium has a multilayer structure comprising at least one recording layer, dielectric layer and reflective layer respectively on a transparent substrate and, further, is constituted in such a manner that the erasing level (crystal level) at on optical wavelength of 420 nm is ≥70% of the erasing level at an optical wavelength 635 nm and the reflectance at the optical wavelength 420 nm is ≥10%.
透明基板上に記録層、誘電体層及び反射層を各々少なくとも１層以上有する多層構造の相変化光情報記録媒体において、光の波長４２０ｎｍの消去レベル（結晶レベル）が光の波長６３５ｎｍの消去レベルの７０％以上で、かつ光の波長４２０ｎｍの反射率が１０％以上である構成とする。 - 特許庁 - A photosensitive composition is provided, containing (A) at least one polymerizable hydrocarbon compound in polymerizable hydrocarbon monomers and polymerizable hydrocarbon polymers, having at least one carboxyl group in a single molecule, and (B) an inorganic filler having a refractive index of at least 1.6 at 465 nm and a refractive index ratio X (refractive index at 400 nm/reflective index at 800 nm) ranging from 1 to 1.1.
（Ａ）１分子中に少なくとも１つのカルボキシル基を有する重合性炭化水素モノマー及び重合性炭化水素ポリマーの内の少なくとも一方の重合性炭化水素化合物と、（Ｂ）４６５ｎｍの屈折率が１．６以上でありかつ屈折率比Ｘ(４００ｎｍの屈折率／(８００ｎｍの屈折率)が１以上、１．１以下である無機フィラーとを含む、感光性組成物。 - 特許庁 - This birefringent film includes a medium and a J aggregate of an anisotropic shape, which is dispersed in the medium and in-plane oriented, and has an absorption peak of J band on the longer wavelength side than a wavelength of 700 nm, wherein in-plane retardation Re (550) to the light with a wavelength of 550 nm entering from the normal direction of a film surface is ≤50 nm.
媒体と、該媒体中に分散するとともに面内配向している、波長７００ｎｍより長波長側にJバンドの吸収ピークを有する異方性形状のJ会合体とを含有する複屈折膜であって、膜面の法線方向から入射した波長５５０ｎｍの光に対する面内レターデーションＲｅ（５５０）が、５０ｎｍ以下であることを特徴とする複屈折膜である。 - 特許庁 - The communication network system causes the terminal apparatuses and the gateway device to transmit NM frames in a predetermined order on a network basis, and causes the gate way device to transmit the NM frames before timing in accordance with the predetermined order at which the gateway device transmits the NM frames comes in the other networks when all of the terminal apparatuses in one of the networks and the gateway device come into the sleeping state.
尚、ネットワークごとに、端末機器及びゲートウェイ装置から所定順序でＮＭフレームを送信させると共に、一のネットワーク内の端末機器及びゲートウェイ装置のすべてがスリープ可状態になった場合、他のネットワーク内において、ゲートウェイ装置がＮＭフレームを送信する所定順序に従ったタイミングがくる前に、ゲートウェイ装置からＮＭフレームを送信させる。 - 特許庁 - The superfine-particle metal tin of less than submicron (200 to 400 nm), desirably ≤100 nm, more desirably ≤50 nm can be easily manufactured by a simple manufacturing process in which a bivalent chromium ion solution is used as a reducing agent and added, in the presence of a protective agent suppressing the agglomeration of tin particles, to a tin-compound solution to reduce and precipitate tin.
２価クロムイオン溶液を還元剤として用い、錫粒子の凝集を抑制する保護剤の存在下で、錫化合物溶液に２価クロムイオン溶液を加えて錫を還元析出させる簡単な製造工程によって、サブミクロン（２００〜４００nm）以下、好ましくは１００nm以下、さらに好ましくは５０nm以下の超微粒子金属錫を容易に製造することができる。 - 特許庁 - The method for cleaning a reflective photomask blank, which has a conductive film essentially comprising Cr formed on one surface of a glass substrate, comprises etching the conductive film by using an aqueous solution of diammonium cerium nitrate in an etching amount of 10 nm to L-20 nm, wherein L (nm) represents the film thickness of the conductive film.
ガラス基板の一方の面にＣｒを主成分とする導電膜が形成された反射型マスクブランクスの洗浄方法であって、前記導電膜の膜厚をＬ（ｎｍ）とするとき、エッチング量が１０ｎｍ以上、Ｌ−２０ｎｍ以下となるように、硝酸第二セリウムアンモニウム水溶液を用いて該導電膜をエッチング処理することを特徴とする反射型マスクブランクスの洗浄方法。 - 特許庁
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